公开(公告)号：CN104339874B

公开(公告)日：2017-01-11

申请号：CN201410541349.6

申请日：2014-07-30

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 松本博好 ,  中井顺二 ,  吉田雅一 ,  小山内敏隆

IPC: B41J2/21

CPC classification number: B41M7/0045 ,  B41J11/0015 ,  B41M5/0011 ,  B41M5/0017 ,  B41M7/0072

Abstract: 根据本发明的一个方面，一种打印设备，其包括：等离子体处理单元，配置为通过向打印介质表面施加等离子体处理，酸化至少打印介质的表面；第一打底剂施加单元，配置为通过向已经经过等离子体处理的打印介质表面施加处理液而施加打底剂处理；以及，第一记录单元，配置为通过在已经经过打底剂处理的打印介质上喷墨记录来执行记录。

公开(公告)号：CN104339874A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201410541349.6

申请日：2014-07-30

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 松本博好 ,  中井顺二 ,  吉田雅一 ,  小山内敏隆

IPC: B41J2/21

CPC classification number: B41M7/0045 ,  B41J11/0015 ,  B41M5/0011 ,  B41M5/0017 ,  B41M7/0072

Abstract: 根据本发明的一个方面，一种打印设备，其包括：等离子体处理单元，配置为通过向打印介质表面施加等离子体处理，酸化至少打印介质的表面；第一打底剂施加单元，配置为通过向已经经过等离子体处理的打印介质表面施加处理液而施加打底剂处理；以及，第一记录单元，配置为通过在已经经过打底剂处理的打印介质上喷墨记录来执行记录。