公开(公告)号：CN104339874A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201410541349.6

申请日：2014-07-30

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 松本博好 ,  中井顺二 ,  吉田雅一 ,  小山内敏隆

IPC: B41J2/21

CPC classification number: B41M7/0045 ,  B41J11/0015 ,  B41M5/0011 ,  B41M5/0017 ,  B41M7/0072

Abstract: 根据本发明的一个方面，一种打印设备，其包括：等离子体处理单元，配置为通过向打印介质表面施加等离子体处理，酸化至少打印介质的表面；第一打底剂施加单元，配置为通过向已经经过等离子体处理的打印介质表面施加处理液而施加打底剂处理；以及，第一记录单元，配置为通过在已经经过打底剂处理的打印介质上喷墨记录来执行记录。

公开(公告)号：CN107953683B

公开(公告)日：2020-01-14

申请号：CN201710958268.X

申请日：2017-10-16

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 松本博好

IPC: B41J11/00 ,  B41J3/407 ,  D06P5/30 ,  D06P5/20

Abstract: 本发明涉及布料加热装置、布料加热方法、对布料赋予图像的方法以及介质加热装置，可以提高在布料上赋予图像时的操作性。其包括将对于被赋予有图像的布料(400)进行保持的盒(200)自由装卸地安装在装置主体(501)内的承受构件(503)，和加热布料(400)的加热器(504)，保持布料(400)的盒(200)在保持布料(400)的状态下，即使对于将图像打印到布料(400)上的打印装置及加热装置(500)也能够使用，并且，能够将布料(400)保持在盒(200)上放置到打印装置里来打印布料(400)，打印结束后将盒(200)从打印装置取出并将保持布料(400)的盒(200)原样不变地放置到加热装置(500)的承受构件(503)里后对布料(400)加热。

公开(公告)号：CN107953683A

公开(公告)日：2018-04-24

申请号：CN201710958268.X

申请日：2017-10-16

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 松本博好

IPC: B41J11/00 ,  B41J3/407 ,  D06P5/30 ,  D06P5/20

Abstract: 本发明涉及布料加热装置、布料加热方法、对布料赋予图像的方法以及介质加热装置，可以提高在布料上赋予图像时的操作性。其包括将对于被赋予有图像的布料(400)进行保持的盒(200)自由装卸地安装在装置主体(501)内的承受构件(503)，和加热布料(400)的加热器(504)，保持布料(400)的盒(200)在保持布料(400)的状态下，即使对于将图像打印到布料(400)上的打印装置及加热装置(500)也能够使用，并且，能够将布料(400)保持在盒(200)上放置到打印装置里来打印布料(400)，打印结束后将盒(200)从打印装置取出并将保持布料(400)的盒(200)原样不变地放置到加热装置(500)的承受构件(503)里后对布料(400)加热。

公开(公告)号：CN104339874B

公开(公告)日：2017-01-11

申请号：CN201410541349.6

申请日：2014-07-30

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 松本博好 ,  中井顺二 ,  吉田雅一 ,  小山内敏隆

IPC: B41J2/21

CPC classification number: B41M7/0045 ,  B41J11/0015 ,  B41M5/0011 ,  B41M5/0017 ,  B41M7/0072

Abstract: 根据本发明的一个方面，一种打印设备，其包括：等离子体处理单元，配置为通过向打印介质表面施加等离子体处理，酸化至少打印介质的表面；第一打底剂施加单元，配置为通过向已经经过等离子体处理的打印介质表面施加处理液而施加打底剂处理；以及，第一记录单元，配置为通过在已经经过打底剂处理的打印介质上喷墨记录来执行记录。

公开(公告)号：CN106313919B

公开(公告)日：2019-05-03

申请号：CN201610509520.4

申请日：2016-06-30

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 大岛享 ,  松本博好

IPC: B41J29/393 ,  B41J2/07 ,  B41J3/44 ,  B41M5/00

Abstract: 一种处理目标改变装置，其被构造为通过放电改变被输送的处理目标。处理目标改变装置包括：亲水化单元，其构造为在处理目标(20)上执行亲水化处理；以及测量单元，其被构造为测量从亲水化处理的处理目标反射的光的反射光谱的二维分布。

公开(公告)号：CN106313919A

公开(公告)日：2017-01-11

申请号：CN201610509520.4

申请日：2016-06-30

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 大岛享 ,  松本博好

IPC: B41J29/393 ,  B41J2/07 ,  B41J3/44 ,  B41M5/00

CPC classification number: B41J11/0015 ,  B05D3/142 ,  B41J2/01 ,  B41J2/2114 ,  B41J2/2146 ,  B41J2202/21 ,  B41M5/0011 ,  H01J37/32073 ,  H01J37/32348 ,  H01J37/3277 ,  H01J37/32889 ,  H01J37/32972 ,  H01J2237/327 ,  H01J2237/336 ,  B41J29/393 ,  B41J2/07 ,  B41J3/445 ,  B41M5/00

Abstract: 一种处理目标改变装置，其被构造为通过放电改变被输送的处理目标。处理目标改变装置包括：亲水化单元，其构造为在处理目标(20)上执行亲水化处理；以及测量单元，其被构造为测量从亲水化处理的处理目标反射的光的反射光谱的二维分布。