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公开(公告)号：CN1774344A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200580000290.9
申请日：2005-03-24
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种液体喷出装置的维护和恢复装置，改善喷出高粘度液滴的性能。液滴喷出头(34)从喷嘴喷出记录液滴。吸取帽部件(92a)盖在液滴喷出头(34)的喷嘴面上。倾斜表面(191)朝向吸取帽部件(92a)的底部上的排空端口(194)倾斜。所述倾斜表面(191)相对于水平面形成一倾角。倾斜表面由相对于记录液体具有接触角的材料形成。所述倾角和所述接触角的总和大于或等于70度。
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公开(公告)号：CN100460213C
公开(公告)日：2009-02-11
申请号：CN200580000290.9
申请日：2005-03-24
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种液体喷出装置的维护和恢复装置，改善喷出高粘度液滴的性能。液滴喷出头(34)从喷嘴喷出记录液滴。吸取帽部件(92a)盖在液滴喷出头34的喷嘴面上。倾斜表面(191)朝向吸取帽部件(92a)的底部上的排空端口(194)倾斜。所述倾斜表面(191)相对于水平面形成一倾角。倾斜表面由相对于记录液体具有接触角的材料形成。所述倾角和所述接触角的总和大于或等于70度。
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公开(公告)号：CN104339874A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410541349.6
申请日：2014-07-30
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41J2/21
CPC classification number: B41M7/0045 , B41J11/0015 , B41M5/0011 , B41M5/0017 , B41M7/0072
Abstract: 根据本发明的一个方面，一种打印设备，其包括：等离子体处理单元，配置为通过向打印介质表面施加等离子体处理，酸化至少打印介质的表面；第一打底剂施加单元，配置为通过向已经经过等离子体处理的打印介质表面施加处理液而施加打底剂处理；以及，第一记录单元，配置为通过在已经经过打底剂处理的打印介质上喷墨记录来执行记录。
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公开(公告)号：CN104339874B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201410541349.6
申请日：2014-07-30
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41J2/21
CPC classification number: B41M7/0045 , B41J11/0015 , B41M5/0011 , B41M5/0017 , B41M7/0072
Abstract: 根据本发明的一个方面，一种打印设备，其包括：等离子体处理单元，配置为通过向打印介质表面施加等离子体处理，酸化至少打印介质的表面；第一打底剂施加单元，配置为通过向已经经过等离子体处理的打印介质表面施加处理液而施加打底剂处理；以及，第一记录单元，配置为通过在已经经过打底剂处理的打印介质上喷墨记录来执行记录。
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公开(公告)号：CN1826227A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200580000715.6
申请日：2005-06-28
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41J2/16511 , B41J2/17509 , B41J2/185 , B41J29/38
Abstract: 在本发明的一种用于液体排放装置的维护/恢复装置中，盖部件覆盖着液体排放头的喷嘴表面，所述液体排放头从喷嘴排放记录液体的液滴。弹性接触部件设置在盖部件中从而与喷嘴表面接触。凹进形成部件设置在盖部件中从而形成用于容纳从喷嘴吸收的记录液体的凹进。接触部件和凹进形成部件通过模制整体形成，所述凹进形成部件是由包含防水剂的树脂材料制成的，并且所述凹进形成部件被设置成具有至少两个朝向位于所述凹进底部的出口倾斜的斜面。
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