X射线分析装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111735828B

    公开(公告)日:2024-12-20

    申请号:CN202010190202.2

    申请日:2020-03-18

    Abstract: 本发明提供一种以简单的结构实现小型并能够进行微小部测定的X射线分析装置。一种X射线分析装置具备:测角仪,其具有沿着第一方向延伸的入射侧臂、固定部和接收侧臂;X射线源部,其配置在所述入射侧臂上,用于产生沿着与所述第一方向交叉的第二方向延伸的X射线源;支撑台,其配置在所述固定部上,用于支撑样品;平行狭缝,其配置在所述固定部上,用于限制由所述X射线源部所产生的X射线源沿着所述第二方向的线宽;以及检测器,其配置在所述接收侧臂上,用于检测由所述样品所产生的散乱X射线。

    X射线分析装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111735828A

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN202010190202.2

    申请日:2020-03-18

    Abstract: 本发明提供一种以简单的结构实现小型并能够进行微小部测定的X射线分析装置。一种X射线分析装置具备:测角仪,其具有沿着第一方向延伸的入射侧臂、固定部和接收侧臂;X射线源部,其配置在所述入射侧臂上,用于产生沿着与所述第一方向交叉的第二方向延伸的X射线源;支撑台,其配置在所述固定部上,用于支撑样品;平行狭缝,其配置在所述固定部上,用于限制由所述X射线源部所产生的X射线源沿着所述第二方向的线宽;以及检测器,其配置在所述接收侧臂上,用于检测由所述样品所产生的散乱X射线。

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