公开(公告)号：CN1358108A

公开(公告)日：2002-07-10

申请号：CN00809466.7

申请日：2000-06-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 内藤仪彦

IPC: B01D53/00 ,  B01D53/60 ,  H01J37/32 ,  B01D53/34 ,  B01D53/50 ,  B01D53/74 ,  B01D53/76 ,  B01D53/78 ,  B01D53/79 ,  B01J19/08 ,  A62D3/00

CPC classification number: F23J15/00 ,  B01D53/007 ,  B01D2259/812 ,  B01J19/085 ,  B01J2219/0875 ,  F23J2900/15001 ,  G21K5/04 ,  H01J33/00

Abstract: 一种电子束照射设备采用电子束照射燃烧废气以从废气中去除有毒成分。电子束照射设备包括用于发射电子的电子束源(12)、用于将从电子束源发射的电子加速的加速管(13)、通过将磁场施加到加速管(13)中形成高能量的电子束以控制电子束直径的聚焦电磁铁(16)、通过将磁场施加到电子束以偏转和扫描电子束的电磁铁(17、18)、以及允许电子束从那里经过的照射窗口(20)。电子束由聚焦电磁铁(16)聚焦在聚焦点,使得电子束收敛一次并且随后发散,然后经过照射窗口(20)向外发射。

公开(公告)号：CN116623120A

公开(公告)日：2023-08-22

申请号：CN202310131151.X

申请日：2023-02-17

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 内藤仪彦

IPC: C23C4/134 ,  C23C4/08 ,  G01V3/02

Abstract: 提供能够及早检测导电性粉体的熔融物的附着的喷镀装置、熔融附着物的检测方法及在附着了熔融物的情况下也能够缩短喷镀装置的维修时间的喷镀装置用电极。喷镀装置具备第一电极和第二电极，通过在所述第一电极与所述第二电极之间产生的等离子体喷镀导电性粉体，从而在目标上进行成膜，所述第二电极具有：电极主体；及能够相对于电极主体装卸的枪口部，该枪口部设置有第二空洞，来自所述第一电极的导电性粉体通过所述第二空洞，所述枪口部具有：绝缘性部件；及通过所述绝缘性部件而彼此绝缘的多个导电性部件，该喷镀装置具备根据所述多个导电性部件中的两个以上的导电性部件是否导通来检测所述导电性粉体的熔融物的附着的附着物检测部。

公开(公告)号：CN1150568C

公开(公告)日：2004-05-19

申请号：CN01103661.3

申请日：2001-02-07

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 内藤仪彦

IPC: G21K5/04 ,  H01J33/04

CPC classification number: G21K5/04

Abstract: 一种电子束照射设备，包括：一个电子源；一个用于加速从上述电子源发射出的电子的加速装置；一个偏转装置，用于将由加速装置产生的高能量电子束在一个扫描方向中进行偏转；一个用于在真空状态下容纳上述电子源、加速装置和偏转装置的真空室；用于将电子束从真空状态下发射到气体状态的窗口片；用于附着到上述窗口片并支撑上述窗口片的横挡杆；以及用于在电子束与上述横挡杆相交的区域遮蔽横挡杆免于受电子束照射的冷却块。

公开(公告)号：CN1130243C

公开(公告)日：2003-12-10

申请号：CN99104388.X

申请日：1999-03-26

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 内藤仪彦

IPC: B01D53/32 ,  H01J49/14

CPC classification number: B01D53/007 ,  B01D2259/812 ,  H01J3/26

Abstract: 一种电子束辐射装置，可避免在最大扫描点处电子束会聚的问题，恒定获得均匀能量密度的辐射区域，该装置包括：电子束源12，加速电子束源发射的电子的加速管13，对加速管形成的高能电子束施加磁场以控制电子束束直径的聚焦电磁铁16，以及用于向电子束施加磁场来偏转和扫描已被控制束直径的电子束的电磁铁17，其中与扫描电磁铁17的电流IS同步的电流成分IF被迭加到聚焦电磁铁16的电流IF上，由此控制聚焦电磁铁的电流IF，使所述束直径在最大扫描点上成为最大。

公开(公告)号：CN1308341A

公开(公告)日：2001-08-15

申请号：CN01103661.3

申请日：2001-02-07

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 内藤仪彦

IPC: G21K5/04

CPC classification number: G21K5/04

Abstract: 一种电子束照射设备,包括:一个电子源;一个用于加速从上述电子源发射出的电子的加速装置;一个偏转装置,用于将由加速装置产生的高能量电子束在一个扫描方向中进行偏转;一个用于在真空状态下容纳上述电子源、加速装置和偏转装置的真空室;用于将电子束从真空状态下发射到气体状态的窗口片;用于附着到上述窗口片并支撑上述窗口片的横挡杆;以及用于在电子束与上述横挡杆相交的区域遮蔽横挡杆免于受电子束照射的冷却块。

公开(公告)号：CN1242253A

公开(公告)日：2000-01-26

申请号：CN99104388.X

申请日：1999-03-26

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 内藤仪彦

IPC: B01D53/32 ,  H01J49/14

CPC classification number: B01D53/007 ,  B01D2259/812 ,  H01J3/26

Abstract: 一种电子束辐射装置,可避免在最大扫描点处电子束会聚的问题,恒定获得均匀能量密度的辐射区域,该装置包括:电子束源12,加速电子束源发射的电子的加速管13,对加速管形成的高能电子束施加磁场以控制电子束束直径的聚焦电磁铁16,以及用于向电子束施加磁场来偏转和扫描已被控制束直径的电子束的电磁铁17,其中与扫描电磁铁17的电流IS同步的电流成分IF被叠加到聚焦电磁铁16的电流IF上,由此控制聚焦电磁铁的电流IF,使所述束直径在最大扫描点上成为最大。