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公开(公告)号：CN120018934A
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202380072505.6
申请日：2023-10-03
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 柏木诚
IPC: B24B37/30 , B24B49/10 , H01L21/304
Abstract: 实现可提高研磨的均匀性的顶环。一种用于保持基板的顶环，具备：基座部件，与旋转轴连结；基板吸附部件，包含具有用于吸附基板的基板吸附面及与减压手段连通的减压部的多孔质部件；及第一加压组件，配置于该基座部件与该基板吸附部件之间，且具有配置于该基板吸附部件的与该基板吸附面相反的一侧的多个第一加压手段的第一加压组件，各第一加压手段构成为能够彼此完全独立地对于该基板吸附部件施加按压力。
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公开(公告)号：CN110026868B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN201811552723.7
申请日：2018-12-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种结构简单且大小紧凑的研磨头和基板研磨装置。研磨头(10)具备：研磨器具按压部件(12)，该研磨器具按压部件支承研磨器具(3)；可动轴(15)，该可动轴与研磨器具按压部件(12)连结；壳体(18)，在该壳体的内部收纳可动轴(15)；以及隔壁膜(25)，该隔壁膜在可动轴(15)的端部与壳体(18)之间形成压力室(20)，隔壁膜具(25)有：中央部(25a)，该中央部与可动轴(15)的端部接触；内壁部(25b)，该内壁部与中央部(25a)连接，并且沿着可动轴(15)的侧面延伸；折返部(25c)，该折返部与内壁部(25b)连接，并且具有弯曲的剖面；以及外壁部(25d)，该外壁部与折返部(25c)连接，并且位于内壁部(25b)的外侧。
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公开(公告)号：CN109397036B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN201810845872.6
申请日：2018-07-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B21/06 , B24B21/18 , B24B21/20 , B24B1/04 , B24B27/033 , B24B57/02 , H01L21/304 , H01L21/687
Abstract: 提供一种在基板的背面朝下的状态下能够有效地研磨包含基板的背面的最外部的背面整体的方法和装置。另外，提供一种在基板的背面朝下的状态下有效地处理包含基板的背面的最外部的背面整体的方法。本方法如下，在基板(W)的背面朝下的状态下，一边使多个辊(11)与基板(W)的周缘部接触，一边使多个辊(11)以各自的轴心为中心旋转，从而使基板(W)旋转，一边向基板(W)的背面供给液体，并且使配置于基板(W)的下侧的研磨带(31)与基板(W)的背面接触，一边使研磨带(31)相对于基板(W)进行相对运动，来研磨基板(W)的背面整体。
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公开(公告)号：CN111745533A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN202010067009.X
申请日：2020-01-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种研磨头、研磨装置以及保持件，其目的在于减少基板与保持件碰撞时产生的风险。根据一实施方式，提供一种研磨头，用于保持作为研磨装置的研磨对象的方形的基板，该研磨头具有：基板保持面，该基板保持面用于保持基板；以及保持件，该保持件位于所述基板保持面的外侧，所述保持件具有端部区域，所述端部区域配置为与被所述研磨头保持的基板的角部相邻，并且所述端部区域的所述基板保持面侧的端面构成为随着朝向所述保持件的长度方向的端部而远离所述基板保持面。
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公开(公告)号：CN109719103A
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201811250661.4
申请日：2018-10-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够提高晶片等基板的处理效率的基板保持装置。另外，本发明的目的在于，提供用于使用这样的基板保持装置而对基板的表面进行处理的基板处理装置以及基板处理方法。基板保持装置具有：多个辊(11a、11b)，该多个辊能够与晶片(W)的周缘部接触；辊旋转机构(12)，该辊旋转机构使多个辊(11a、11b)旋转；以及多个偏心轴(13a、13b)，该多个偏心轴将多个辊(11a、11b)和辊旋转机构(12)连结，多个偏心轴具有：多个第一轴部(14a、14b)；以及分别从多个第一轴部偏心的多个第二轴部(15a、15b)，多个第一轴部(14a、14b)固定于辊旋转机构(12)，多个辊(11a、11b)分别固定于多个第二轴部(15a、15b)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109702641A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201811241908.6
申请日：2018-10-24
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种在基板的背面朝下的状态下，能够有效地对包含最外部的基板的背面整体进行研磨的研磨装置。研磨装置具有：使晶片(W)旋转的基板保持部(10)；对晶片(W)的背面进行研磨的研磨头(50)；带输送装置(46)；以及使研磨头(50)进行平移旋转运动的平移旋转运动机构(60)。基板保持部(10)具有多个辊(11)。多个辊(11)构成为能够以各辊(11)的轴心为中心旋转，并具有能够与晶片(W)的周缘部接触的基板保持面(11a)。研磨头(50)相比于基板保持面(11a)配置在下方，具有对研磨带(31)进行按压的研磨托板(55)、和将研磨托板(55)向上方抬起的加压机构(52)。
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公开(公告)号：CN1969063A
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN200580020174.3
申请日：2005-06-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B01D61/44 , B01D61/48 , B01D61/52 , C02F1/46109 , C02F1/4693 , C02F1/4695 , C02F2001/46128 , C02F2001/46133 , C02F2101/14 , C02F2103/346 , C02F2201/4618 , C25B1/02 , C25B9/066 , C25B13/08
Abstract: 一种双极室，可用于诸如电渗析器和电解槽的电化学液体处理装置。该双极室包括阴离子交换膜(1)、电极(2)和阳离子交换膜(3)。在阳离子交换膜(3)和阴离子交换膜(1)之间供给有液体。阴离子交换膜(1)、电极(2)和阳离子交换膜(3)以此顺序从双极室的阳极一侧开始排列。该液体可以包括纯水或非电解质水溶液。
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公开(公告)号：CN111745533B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202010067009.X
申请日：2020-01-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种研磨头、研磨装置以及保持件，其目的在于减少基板与保持件碰撞时产生的风险。根据一实施方式，提供一种研磨头，用于保持作为研磨装置的研磨对象的方形的基板，该研磨头具有：基板保持面，该基板保持面用于保持基板；以及保持件，该保持件位于所述基板保持面的外侧，所述保持件具有端部区域，所述端部区域配置为与被所述研磨头保持的基板的角部相邻，并且所述端部区域的所述基板保持面侧的端面构成为随着朝向所述保持件的长度方向的端部而远离所述基板保持面。
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公开(公告)号：CN117677467A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202280051208.9
申请日：2022-06-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 柏木诚
IPC: B24B37/32
Abstract: 提供一种能够抑制使用顶环时束带的嵌合部从槽脱离的技术。在研磨装置(100)的顶环(10)中，在挡圈部件(30)的外周壁(11)和按压机构(40)的外周壁(11)的至少一方设置有供束带(70)的嵌合部(71a、71b)嵌合的槽(15)，槽是燕尾槽，从剖面观看，该燕尾槽具有：槽开口；与槽开口相对的槽底；连接槽开口与槽底的第一槽侧壁；以及连接槽开口与槽底，并且与第一槽侧壁相对的第二槽侧壁，该燕尾槽构成为第一槽侧壁与第二槽侧壁的间隔随着接近槽底而扩大，顶环构成为，在束带的嵌合部嵌合于燕尾槽的状态下，嵌合部与第一槽侧壁和第二槽侧壁接触。
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公开(公告)号：CN109702641B
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN201811241908.6
申请日：2018-10-24
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种在基板的背面朝下的状态下，能够有效地对包含最外部的基板的背面整体进行研磨的研磨装置。研磨装置具有：使晶片(W)旋转的基板保持部(10)；对晶片(W)的背面进行研磨的研磨头(50)；带输送装置(46)；以及使研磨头(50)进行平移旋转运动的平移旋转运动机构(60)。基板保持部(10)具有多个辊(11)。多个辊(11)构成为能够以各辊(11)的轴心为中心旋转，并具有能够与晶片(W)的周缘部接触的基板保持面(11a)。研磨头(50)相比于基板保持面(11a)配置在下方，具有对研磨带(31)进行按压的研磨托板(55)、和将研磨托板(55)向上方抬起的加压机构(52)。
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