公开(公告)号：CN111540669B

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202010082181.2

申请日：2020-02-07

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石桥知淳 ,  石川浩 ,  西嶋真澄

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗装置及存储介质，所述基板清洗方法进行n(n为2以上的整数)次在清洗部件与旋转的基板接触的状态下使所述清洗部件在所述基板上的第一位置与位于所述基板的边缘附近的第二位置之间移动的步骤，控制使所述清洗部件移动的驱动部的控制部控制所述驱动部，以便在第1～(n‑1)次中的至少1次中，在所述清洗部件到达所述第二位置之后，以规定时间执行在所述清洗部件与所述基板上的第二位置接触的状态下进行所述基板的清洗的边缘清洗工序，并且控制所述驱动部，以便在第n次中，在所述清洗部件到达所述基板的所述第二位置的时刻，使所述清洗部件从所述基板离开。

公开(公告)号：CN116469816A

公开(公告)日：2023-07-21

申请号：CN202211580272.4

申请日：2022-12-09

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 宫本松太郎 ,  小菅隆一 ,  西嶋真澄

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种可防止在基板的表面发生光腐蚀的基板搬送方法、基板处理装置、及记录介质。基板搬送方法是将基板搬入至接收单元，检测出从光传感器(302)照射的光被搬送至接收单元的基板遮断，来确认基板存在于接收单元，并且在将基板从接收单元搬出之前停止来自光传感器(302)的光的照射。

公开(公告)号：CN111540669A

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN202010082181.2

申请日：2020-02-07

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石桥知淳 ,  石川浩 ,  西嶋真澄

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗装置及存储介质，所述基板清洗方法进行n(n为2以上的整数)次在清洗部件与旋转的基板接触的状态下使所述清洗部件在所述基板上的第一位置与位于所述基板的边缘附近的第二位置之间移动的步骤，控制使所述清洗部件移动的驱动部的控制部控制所述驱动部，以便在第1～(n-1)次中的至少1次中，在所述清洗部件到达所述第二位置之后，以规定时间执行在所述清洗部件与所述基板上的第二位置接触的状态下进行所述基板的清洗的边缘清洗工序，并且控制所述驱动部，以便在第n次中，在所述清洗部件到达所述基板的所述第二位置的时刻，使所述清洗部件从所述基板离开。