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公开(公告)号：CN116469816A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202211580272.4
申请日：2022-12-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种可防止在基板的表面发生光腐蚀的基板搬送方法、基板处理装置、及记录介质。基板搬送方法是将基板搬入至接收单元，检测出从光传感器(302)照射的光被搬送至接收单元的基板遮断，来确认基板存在于接收单元，并且在将基板从接收单元搬出之前停止来自光传感器(302)的光的照射。
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公开(公告)号：CN105619251A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201510801236.X
申请日：2015-11-19
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B53/017 , B24B37/10 , B23P15/00
Abstract: 本发明提供一种使浆料等研磨液难以附着于表面的研磨面清洗装置。研磨面清洗装置具有：臂(12)，具有流体流路(30)；喷嘴(15)，与流体流路(30)连通；以及焊接材料(35)，将喷嘴(15)固定于臂(12)。臂(12)的底面(12a)与喷嘴(15)的顶端面(15a)的缘部(15b)之间的间隙被焊接材料(35)填满。
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公开(公告)号：CN104070445A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201410122510.6
申请日：2014-03-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/04 , B24B53/017 , B24B49/18
CPC classification number: H01L22/26 , B24B37/005 , B24B49/00 , B24B53/017 , H01L21/30625 , H01L21/67075
Abstract: 一种研磨装置及磨损检测方法，能够检测研磨垫的偏磨损的发生，并检测研磨垫的恰当的更换时间。按规定时间检测使研磨台旋转驱动的研磨台驱动轴或使修整器驱动的修整器驱动轴的转速值或旋转力矩值、或者使所述修整器摆动的修整器摆动轴的摆动力矩值，基于该检测到的转速值、旋转力矩值或摆动力矩值来计算其变化量，并判断该变化量是否超过了规定值。在以规定次数判断成变化量超过了规定值的情况下，对用户发出警报。
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公开(公告)号：CN101390197A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200780006392.0
申请日：2007-02-21
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304 , B65G49/07 , B24B37/04 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67219 , B24B37/345 , H01L21/6719 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , H01L21/67748 , H01L21/67751 , H01L21/67766 , H01L21/68707
Abstract: 本发明涉及一种能够提高基板处理工序的生产节拍时间的基板处理装置。作为基板处理装置的研磨装置具有：对半导体晶片(W)进行研磨的多个研磨部(3a、3b)；和搬运晶片(W)的摆动传送装置(7)。摆动传送装置(7)具有：把持晶片(W)的晶片把持机构(112)；使晶片把持机构(112)沿着研磨部(3a)的框体的框架(102)上下移动的上下移动机构(104、106)；以及，以与框架(102)邻接的轴为中心使晶片把持机构(112)转动的转动机构(108、110)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107275271B
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN201710214125.8
申请日：2017-04-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 提供一种能抑制结露的产生的基板搬运装置、包括该基板搬运装置的基板处理装置、以及抑制在基板搬运装置产生结露的结露抑制方法。该基板搬运装置包括：基板把持部(301a、301b)，该基板把持部(301a、301b)对基板进行把持；筐体(300)；驱动机构(302)，该驱动机构(302)的至少一部分设于所述筐体(300)内，并使用空气对所述基板把持部(301a、301b)进行驱动。所述驱动机构(302)能向所述筐体(300)内供给空气。
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公开(公告)号：CN105619251B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201510801236.X
申请日：2015-11-19
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B53/017 , B24B37/10 , B23P15/00
Abstract: 本发明提供一种使浆料等研磨液难以附着于表面的研磨面清洗装置。研磨面清洗装置具有：臂(12)，具有流体流路(30)；喷嘴(15)，与流体流路(30)连通；以及焊接材料(35)，将喷嘴(15)固定于臂(12)。臂(12)的底面(12a)与喷嘴(15)的顶端面(15a)的缘部(15b)之间的间隙被焊接材料(35)填满。
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公开(公告)号：CN110497307A
公开(公告)日：2019-11-26
申请号：CN201910404342.2
申请日：2019-05-15
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/20 , B24B37/34 , B24B53/017 , B24B49/10
Abstract: 本发明提供一种不受时间经过的影响，而能够使用研磨头准确地对研磨垫的研磨面进行检测的方法以及研磨装置。该方法一边从研磨头(1)向研磨垫(3)施加推力，一边使研磨头(1)向与研磨垫(3)的研磨面(3a)垂直的方向移动，在研磨头(1)的移动过程中，利用应变传感器(55)对头臂(12)的挠曲进行检测，该头臂支承研磨头(1)，确定与来自应变传感器(55)的输出信号达到预先设定的阈值的时间点对应的研磨头(1)的位置。
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公开(公告)号：CN103786090B
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201310533355.2
申请日：2013-10-31
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B24B53/017 , B24B37/04
Abstract: 一种研磨装置具有：用于支撑具有研磨面(10a)的研磨块(10)的研磨台(12)；具有顶环(14)的顶环头(16)；包围顶环头(16)的顶环头罩壳(24)；具有砂轮修整工具(20)的砂轮修整工具头(22)；包围所述砂轮修整工具头的砂轮修整工具头罩壳(30a、30b、30c)；当顶环处于基板交接位置时将清洗液喷雾到顶环的上表面及顶环头罩壳的外表面的喷雾喷嘴(58、60、62)；以及当砂轮修整工具处于退让位置时将清洗液喷雾到砂轮修整工具头罩壳(30a、30b、30c)的外表面的喷雾喷嘴(62、64、66)。本发明可防止在研磨基板时向研磨台周围飞散的研磨液附着在研磨台周围的各种构成部件表面上并干燥。
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公开(公告)号：CN103786090A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201310533355.2
申请日：2013-10-31
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B24B53/017 , B24B37/04 , B24B37/102 , B24B37/32 , B24B37/34
Abstract: 一种研磨装置具有：用于支撑具有研磨面(10a)的研磨块(10)的研磨台(12)；具有顶环(14)的顶环头(16)；包围顶环头(16)的顶环头罩壳(24)；具有砂轮修整工具(20)的砂轮修整工具头(22)；包围所述砂轮修整工具头的砂轮修整工具头罩壳(30a、30b、30c)；当顶环处于基板交接位置时将清洗液喷雾到顶环的上表面及顶环头罩壳的外表面的喷雾喷嘴(58、60、62)；以及当砂轮修整工具处于退让位置时将清洗液喷雾到砂轮修整工具头罩壳(30a、30b、30c)的外表面的喷雾喷嘴(62、64、66)。本发明可防止在研磨基板时向研磨台周围飞散的研磨液附着在研磨台周围的各种构成部件表面上并干燥。
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