用于低压力等离子体工艺在连续功率模式下生成等离子体的改进方式

    公开(公告)号:CN105848789B

    公开(公告)日:2023-01-03

    申请号:CN201480065310.X

    申请日:2014-10-07

    Abstract: 本发明涉及一种方法,包括步骤:引入包括待在低压力反应腔室中涂敷的表面的衬底;在所述反应腔室内在处理时段期间将所述表面暴露于等离子体;通过施加功率输入来确保稳定等离子体激发,其特征在于,功率输入在所述处理时段期间连续地严格高于零瓦特(W),并且包括至少一个下限功率以及严格大于所述下限功率的至少一个上限功率,由此获得具有受涂敷的表面的衬底。本发明还涉及一种用于通过低压力等离子体工艺来处理衬底的装置以及因此而处理的衬底。

    表面涂层
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104718258A

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201380053358.4

    申请日:2013-08-13

    CPC classification number: C09D5/24

    Abstract: 保护部件免受侵蚀和向所述部件上的一个或者多个电接触提供导电性的方法,所述方法包括以下步骤:将所述部件置于腔室中,和通过等离子体沉积由以下前体单体丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或者有机硅烷中的任意一种或者多种形成的聚合物涂层来涂覆所述部件。

    用于施加表面涂层的装置和方法

    公开(公告)号:CN104822859B

    公开(公告)日:2019-03-12

    申请号:CN201380062956.8

    申请日:2013-10-09

    Abstract: 本发明提供用于在例如织物片上施加表面涂层的方法并且进一步提供用于将织物片用聚合物层涂布的等离子体腔室(10),所述织物例如纺织品材料,等离子体腔室(10)包括在等离子体腔室内相继地排列的多个电极层(RF,M),其中至少两个相邻的电极层为射频电极层(RF)或接地电极层(M),从而在织物片的两侧上提供表面涂层。

    表面涂层
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104718258B

    公开(公告)日:2017-08-08

    申请号:CN201380053358.4

    申请日:2013-08-13

    CPC classification number: C09D5/24

    Abstract: 保护部件免受侵蚀和向所述部件上的一个或者多个电接触提供导电性的方法,所述方法包括以下步骤:将所述部件置于腔室中,和通过等离子体沉积由以下前体单体丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或者有机硅烷中的任意一种或者多种形成的聚合物涂层来涂覆所述部件。

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