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公开(公告)号：CN102096338A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201110008388.6
申请日：2011-01-14
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种掩膜台系统，主要用于光刻机系统中。该系统包括磁悬浮装置，振动装置、驱动装置和掩膜台。所述磁悬浮装置由固定在掩膜台上的永磁体和被永磁体吸引的固定在光刻机机架上的铁磁性部件组成，在驱动装置的配合下使掩膜台在工作中保持悬浮状态；所述振动装置包括两个设置在掩模台两端的永磁体和与永磁体配合的固定在光刻机机架上的两个电磁铁，且两者同极相对而互斥；所述驱动装置由固定在光刻机机架上的线圈阵列和固定在掩膜台上的永磁体阵列组成，在调整掩膜台姿态的同时直接驱动掩膜台在振动装置中往复高速运动。该系统简化了掩膜台结构，提高了掩模台的速度，加速度和控制带宽，进而提高了光刻机的生产率、套刻精度和分辨率。
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公开(公告)号：CN101694560A
公开(公告)日：2010-04-14
申请号：CN200910172949.9
申请日：2009-09-11
Applicant: 清华大学
Abstract: 采用气浮平面电机的硅片台双台交换系统，主要用于光刻机系统中。该硅片台双台交换系统包括基台、两个结构相同的分别工作于预处理工位和曝光工位的硅片台和硅片台驱动装置。所述硅片台驱动装置由平面电机和气浮结构组成，平面电机采用永磁平面电机、步进式平面电动机、感应式平面电动机或开关磁阻式平面电机，平面电机一个定子和两个动子组成，定子设置在基台顶部，动子设置在硅片台的底部；所述气浮结构由多个设置于硅片台底部的气浮轴承组成。该系统通过平面电机直接驱动硅片台实现平面上的双台交换和步进扫描运动，提高了光刻机的生产率、套刻精度和分辨率。
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公开(公告)号：CN101610022A
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200910088894.3
申请日：2009-07-21
Applicant: 清华大学
IPC: H02K33/18
CPC classification number: H02K41/03 , H02K2201/18
Abstract: 一种采用槽型线圈的平面电机，主要应用于机械制造设备与机器人领域。该平面电机包括动子和定子，所述动子由四个一维线圈阵列组成，相邻线圈阵列的排列方向互成90°，每个一维线圈阵列由无铁芯矩形线圈和矩形两短边上翘成槽型的无铁芯槽型线圈交错排列而成，每个矩形线圈的两条长边之间嵌入一个相邻槽型线圈的长边，或每个矩形线圈的两条长边之间嵌入左右两个相邻槽型线圈的一条长边，且两种线圈的长边都布置在同一平面上；所述定子由永磁阵列组成。与矩形无铁芯线圈组成的线圈阵列相比，该线圈阵列在永磁阵列的周期磁场中能产生更大的推力，从而提高平面电机的推力和加速度。
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公开(公告)号：CN101515119A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910131508.4
申请日：2009-04-03
Applicant: 清华大学
IPC: G03F7/20 , H01L21/677 , H01L21/68 , H02K33/18
CPC classification number: G03F7/70758 , G03F7/70733
Abstract: 一种采用气浮平面电机的硅片台双台交换系统，该硅片台双台交换系统包括基台和两个相同的可以在基台上做大范围平面运动的硅片台。基台顶部设置有平面永磁阵列，每个硅片台由平台和设置于平台底部的移动电磁结构和气浮结构组成，移动电磁结构由n个在以硅片台质心为原点的坐标系中关于X轴对称分布且关于Y轴对称分布的线圈阵列组成，n为大于等于4的偶数，相邻线圈阵列排列方向互成90°布置；所述气浮结构至少由两个轴对称均布的气浮轴承组成。保证了硅片台的质心驱动，简化了系统的控制结构；减轻了驱动负载，提高了硅片台的响应速度以及硅片台运动过程中的加速度和运动定位精度，提高了光刻机的生产率、套刻精度和分辨率。
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公开(公告)号：CN101231471B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200710303712.0
申请日：2007-12-21
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统，属于半导体制造装备技术领域。本发明含有运行于预处理工位的硅片台和运行于曝光工位的硅片台；在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元，所述的H型驱动单元由双侧X向直线电机以及Y向直线电机组成，用于驱动硅片台在预处理工位和曝光工位上作X方向和Y方向运动。本发明的技术要点是在基台中间设置有两个过渡承接装置，过渡承接装置上安装有摩擦轮，当H型驱动单元与其精确对准时，靠摩擦轮的摩擦力，实现硅片台从预处理工位过渡到曝光工位。有效避免了导轨精密对接的问题，降低了系统结构的复杂性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101609265A
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200910088892.4
申请日：2009-07-21
Applicant: 清华大学
Abstract: 采用磁悬浮平面电机的硅片台多台交换系统，主要用于光刻机系统中。该硅片台多台交换系统包括基台、硅片台组和硅片台驱动装置，所述硅片台组包括多个结构相同的分别工作于预处理工位或曝光工位的硅片台，所述硅片台驱动装置采用磁悬浮平面电机，磁悬浮平面电机的定子设置在基台顶部，平面电机的动子设置在硅片台底部。本发明给出了该硅片台多台交换系统的一个采用动圈式永磁磁悬浮平面电机的具体实例。实例中，平面电机的定子采用了相邻永磁体充磁方向互成45°角的新型平面永磁阵列。该硅片台多台交换系统通过平面电机直接驱动硅片台实现平面上的多台交换和步进扫描运动，提高了光刻机的生产率、套刻精度和分辨率。
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公开(公告)号：CN100570496C
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200710303713.5
申请日：2007-12-21
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种采用十字导轨的光刻机硅片台双台交换系统，该系统主要应用于半导体光刻机中。本发明含有运行于预处理工位的硅片台、运行于曝光工位的硅片台和两个十字导轨驱动单元，每个十字导轨驱动单元包含X向直线电机、Y向直线电机和用以推动硅片台运动的推杆；十字导轨驱动单元与硅片台之间通过真空轴承吸住，带动硅片台作大范围X、Y方向运动。本发明采用两个双自由度驱动单元，使系统结构大大得以简化，有效降低了同步控制的要求。
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公开(公告)号：CN101231471A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200710303712.0
申请日：2007-12-21
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统，属于半导体制造装备技术领域。本发明含有运行于预处理工位的硅片台和运行于曝光工位的硅片台；在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元，所述的H型驱动单元由双侧X向直线电机以及Y向直线电机组成，用于驱动硅片台在预处理工位和曝光工位上作X方向和Y方向运动。本发明的技术要点是在基台中间设置有两个过渡承接装置，过渡承接装置上安装有摩擦轮，当H型驱动单元与其精确对准时，靠摩擦轮的摩擦力，实现硅片台从预处理工位过渡到曝光工位。有效避免了导轨精密对接的问题，降低了系统结构的复杂性。
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公开(公告)号：CN101221367A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200710303713.5
申请日：2007-12-21
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种采用十字导轨的光刻机硅片台双台交换系统，该系统主要应用于半导体光刻机中。本发明含有运行于预处理工位的硅片台、运行于曝光工位的硅片台和两个十字导轨驱动单元，每个十字导轨驱动单元包含X向直线电机、Y向直线电机和用以推动硅片台运动的推杆；十字导轨驱动单元与硅片台之间通过真空轴承吸住，带动硅片台作大范围X、Y方向运动。本发明采用两个双自由度驱动单元，使系统结构大大得以简化，有效降低了同步控制的要求。
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公开(公告)号：CN101022040A
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：CN200710064152.8
申请日：2007-03-02
Applicant: 清华大学
Abstract: 大范围移动磁浮平面工作台，涉及一种磁浮平面工作台，特别是一种大范围移动磁浮平面工作台，主要应用于制造设备与机器人领域。该工作台包括基台和移动台，所述移动台由平台和设置于平台底部的移动电磁结构组成，在基台顶部设置有平面永磁阵列，移动电磁结构由3个以上电枢单元组成，每个电枢单元包括电枢铁心、X相绕组和Y相绕组，X相绕组和Y相绕组在电枢单元底面的竖直方向上相互重叠，且X相绕组的任一有效边与Y相绕组的任一有效边之间相互垂直。由于所述移动台的移动范围不受移动台尺寸的限制，使得移动台可以在平面尺寸远大于移动台平面尺寸的基台上移动，从而大大增加了移动台的相对行程，实现移动台的大范围平移。
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