公开(公告)号：TWI692993B

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：TW104100987

申请日：2015-01-12

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 俄林斯 馬可斯 法蘭西斯 安東尼奧斯 ,  EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS ,  克理門司 尼可 安東尼司 傑科伯司 瑪麗亞 ,  KLEEMANS, NIEK ANTONIUS JACOBUS MARIA ,  凡 迪及西爾當克 安東尼爾斯 喬漢尼司 喬瑟夫司 ,  VAN DIJSSELDONK, ANTONIUS JOHANNES JOSEPHUS ,  霍夫札 羅門 馬克 ,  HOFSTRA, RAMON MARK ,  諾德曼 奧斯卡 法蘭西斯 喬瑟夫 ,  NOORDMAN, OSCAR FRANCISCUS JOZEPHUS ,  法姆 田 南 ,  PHAM, TIEN NANG ,  凡 沙特 珍 伯納德 波萊奇莫斯 ,  VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS ,  王俊程 ,  WANG, JIUN CHENG ,  張 衛民 ,  ZHANG, KEVIN WEIMIN

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

公开(公告)号：TW201532481A

公开(公告)日：2015-08-16

申请号：TW104100987

申请日：2015-01-12

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 俄林斯 馬可斯 法蘭西斯 安東尼奧斯 ,  EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS ,  克理門司 尼可 安東尼司 傑科伯司 瑪麗亞 ,  KLEEMANS, NIEK ANTONIUS JACOBUS MARIA ,  凡 迪及西爾當克 安東尼爾斯 喬漢尼司 喬瑟夫司 ,  VAN DIJSSELDONK, ANTONIUS JOHANNES JOSEPHUS ,  霍夫札 羅門 馬克 ,  HOFSTRA, RAMON MARK ,  諾德曼 奧斯卡 法蘭西斯 喬瑟夫 ,  NOORDMAN, OSCAR FRANCISCUS JOZEPHUS ,  法姆 田 南 ,  PHAM, TIEN NANG ,  凡 沙特 珍 伯納德 波萊奇莫斯 ,  VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS ,  王俊程 ,  WANG, JIUN CHENG ,  張 衛民 ,  ZHANG, KEVIN WEIMIN

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一種琢面化反射器，其用於接收一入射輻射光束且將一經反射輻射光束導向於一目標處。該琢面化反射器包含複數個琢面，該複數個琢面中每一者包含一反射表面。該複數個琢面之一第一子集中每一者之該等反射表面界定一第一連續表面之各別部分，且經配置以在一第一方向上反射該入射輻射光束之各別第一部分以提供該經反射輻射光束之一第一部分。該複數個琢面之一第二子集中每一者之該等反射表面界定一第二連續表面之各別部分，且經配置以在一第二方向上反射該入射輻射光束之各別第二部分以提供該經反射輻射光束之一第二部分。

Abstract in simplified Chinese: 一种琢面化反射器，其用于接收一入射辐射光束且将一经反射辐射光束导向于一目标处。该琢面化反射器包含复数个琢面，该复数个琢面中每一者包含一反射表面。该复数个琢面之一第一子集中每一者之该等反射表面界定一第一连续表面之各别部分，且经配置以在一第一方向上反射该入射辐射光束之各别第一部分以提供该经反射辐射光束之一第一部分。该复数个琢面之一第二子集中每一者之该等反射表面界定一第二连续表面之各别部分，且经配置以在一第二方向上反射该入射辐射光束之各别第二部分以提供该经反射辐射光束之一第二部分。