公开(公告)号：TWI641821B

公开(公告)日：2018-11-21

申请号：TW105112331

申请日：2016-04-20

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 巴賽曼 喬納斯 喬可巴斯 麥修斯 ,  BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS ,  迪 巴克 彼得 巴特 艾洛伊斯 ,  凡羅斯 妮可 ,  VANROOSE, NICO ,  伊波寧特 吉凡尼 ,  IMPONENTE, GIOVANNI ,  史塔斯 羅南 裘翰斯 威廉瑪斯 ,  STAS, ROLAND JOHANNES WILHELMUS ,  考爾 珊比特 ,  KAUR, CHANPREET ,  道尼斯 詹姆士 羅伯特 ,  DOWNES, JAMES ROBERT

IPC: G01M11/02 ,  G03F7/20

公开(公告)号：TWI575228B

公开(公告)日：2017-03-21

申请号：TW104132622

申请日：2015-10-02

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 帕迪 尼特許 ,  PANDEY, NITESH ,  史塔斯 羅南 裘翰斯 威廉瑪斯 ,  STAS, ROLAND JOHANNES WILHELMUS

IPC: G01J1/04 ,  G01T1/29 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70666 ,  G01J1/0437 ,  G03F7/7085

公开(公告)号：TW201629443A

公开(公告)日：2016-08-16

申请号：TW104132622

申请日：2015-10-02

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 帕迪 尼特許 ,  PANDEY, NITESH ,  史塔斯 羅南 裘翰斯 威廉瑪斯 ,  STAS, ROLAND JOHANNES WILHELMUS

IPC: G01J1/04 ,  G01T1/29 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70666 ,  G01J1/0437 ,  G03F7/7085

Abstract: 一種用於感測經由一微影圖案化器件而投影之一影像之一區之影像感測器包含一感測器光罩陣列及一感測器元件陣列，其中該感測器光罩陣列包含感測器光罩的一陣列，每一感測器光罩定位於該等感測器元件中之各別至少一感測器元件上方；該等感測器光罩中之每一者具有孔隙之一圖案，且該等感測器光罩中之至少一者之該孔隙圖案不同於該等感測器光罩中之至少一其他感測器光罩之該孔隙圖案。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于传感经由一微影图案化器件而投影之一影像之一区之影像传感器包含一传感器光罩数组及一传感器组件数组，其中该传感器光罩数组包含传感器光罩的一数组，每一传感器光罩定位于该等传感器组件中之各别至少一传感器组件上方；该等传感器光罩中之每一者具有孔隙之一图案，且该等传感器光罩中之至少一者之该孔隙图案不同于该等传感器光罩中之至少一其他传感器光罩之该孔隙图案。

公开(公告)号：TW201702569A

公开(公告)日：2017-01-16

申请号：TW105112331

申请日：2016-04-20

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 巴賽曼 喬納斯 喬可巴斯 麥修斯 ,  BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS ,  迪 巴克 彼得 巴特 艾洛伊斯 ,  凡羅斯 妮可 ,  VANROOSE, NICO ,  伊波寧特 吉凡尼 ,  IMPONENTE, GIOVANNI ,  史塔斯 羅南 裘翰斯 威廉瑪斯 ,  STAS, ROLAND JOHANNES WILHELMUS ,  考爾 珊比特 ,  KAUR, CHANPREET ,  道尼斯 詹姆士 羅伯特 ,  DOWNES, JAMES ROBERT

IPC: G01M11/02 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/706 ,  G01M11/0242 ,  G01M11/0257 ,  G03F7/70866

Abstract: 一種方法，其包含：照明包含複數個經圖案化區之一圖案化器件，該複數個經圖案化區各自圖案化一量測光束；運用一投影系統將該等量測光束投影至包含複數個偵測器區之一感測器裝置上；在該圖案化器件及該感測器裝置經定位而呈一第一相對組態時進行輻射之一第一量測；移動該圖案化器件及該感測器裝置中之至少一者以便將該圖案化器件之該相對組態改變至一第二相對組態；在該圖案化器件及該感測器裝置經定位而呈該第二相對組態時進行輻射之一第二量測，在該第二相對組態中，該複數個偵測器區中之至少一些接收的一量測光束不同於在該第一相對組態中在該各別偵測器區處接收之該量測光束；及判定由該投影系統造成之像差。

Abstract in simplified Chinese: 一种方法，其包含：照明包含复数个经图案化区之一图案化器件，该复数个经图案化区各自图案化一量测光束；运用一投影系统将该等量测光束投影至包含复数个侦测器区之一传感器设备上；在该图案化器件及该传感器设备经定位而呈一第一相对组态时进行辐射之一第一量测；移动该图案化器件及该传感器设备中之至少一者以便将该图案化器件之该相对组态改变至一第二相对组态；在该图案化器件及该传感器设备经定位而呈该第二相对组态时进行辐射之一第二量测，在该第二相对组态中，该复数个侦测器区中之至少一些接收的一量测光束不同于在该第一相对组态中在该各别侦测器区处接收之该量测光束；及判定由该投影系统造成之像差。