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公开(公告)号：TW202010948A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108139658
申请日：2017-01-10
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 優莫林 艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 , EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARINA , 加多比吉歐 吉凡尼 路卡 , GATTOBIGIO, GIOVANNI LUCA , 麥爾曼 喬漢斯 康納歷斯 波勒斯 , MELMAN, JOHANNES CORNELIS PAULUS , 廉碧司 韓 亨利克斯 亞德恭達 , LEMPENS, HAN HENRICUS ALDEGONDA , 于淼 , YU, MIAO , 羅伯茲 康納利 馬利亞 , ROPS, CORNELIUS MARIA , 歐利史萊吉斯 羅德 , OLIESLAGERS, RUUD , 優路肯 亞頓克 , ULUCAN, ARTUNC , 波列特 喜爾多爾斯 威爾赫瑪斯 , POLET, THEODORUS WILHELMUS , 斯布坦堡 派翠克 喬韓妮絲 威爾海莫斯 , SPRUYTENBURG, PATRICK JOHANNES WILHELMUS
Abstract: 本發明係關於一種包含一流體處置結構之微影浸潤裝置及一種器件製造方法。在實施例中，流體處置結構經組態以將浸潤流體侷限於區且包含氣刀系統，該氣刀系統包含各自具有退出口之通道，該等通道包含具有複數個對應第一退出口之複數個第一通道及具有複數個對應第二退出口之複數個第二通道，其中至少一個第一通道及至少一個第二通道經組態以使得退出第一退出口之氣體的停滯壓力大於退出第二退出口之氣體的停滯壓力，其中複數個第一通道及複數個第二通道交纏且以直線配置，使得第一退出口及第二退出口形成平面圖中之形狀的一側。在實施例中，流體處置結構經組態以將浸潤流體侷限於區且在使用中包含氣刀，流體處置結構包含至少一個退出口，其中至少一個退出口經配置以使得氣刀形成平面圖中之形狀的一側，且至少一個退出口具有經組態以允許浸潤流體之小滴自氣刀之徑向外部的位置移動至氣刀之徑向內部的位置且經組態以約束浸潤流體之小滴自氣刀之徑向內部的位置移動至氣刀之徑向外部的位置之幾何形狀。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种包含一流体处置结构之微影浸润设备及一种器件制造方法。在实施例中，流体处置结构经组态以将浸润流体局限于区且包含气刀系统，该气刀系统包含各自具有退出口之信道，该等信道包含具有复数个对应第一退出口之复数个第一信道及具有复数个对应第二退出口之复数个第二信道，其中至少一个第一信道及至少一个第二信道经组态以使得退出第一退出口之气体的停滞压力大于退出第二退出口之气体的停滞压力，其中复数个第一信道及复数个第二信道交缠且以直线配置，使得第一退出口及第二退出口形成平面图中之形状的一侧。在实施例中，流体处置结构经组态以将浸润流体局限于区且在使用中包含气刀，流体处置结构包含至少一个退出口，其中至少一个退出口经配置以使得气刀形成平面图中之形状的一侧，且至少一个退出口具有经组态以允许浸润流体之小滴自气刀之径向外部的位置移动至气刀之径向内部的位置且经组态以约束浸润流体之小滴自气刀之径向内部的位置移动至气刀之径向外部的位置之几何形状。
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公开(公告)号：TW201920837A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107138005
申请日：2017-01-10
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 優莫林艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 , EUMMELEN,ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARINA , 加多比吉歐吉凡尼 路卡 , GATTOBIGIO,GIOVANNI LUCA , 麥爾曼喬漢斯 康納歷斯 波勒斯 , MELMAN,JOHANNES CORNELIS PAULUS , 廉碧司韓 亨利克斯 亞德恭達 , LEMPENS,HAN HENRICUS ALDEGONDA , 于淼 , YU,MIAO , 羅伯茲康納利 馬利亞 , ROPS,CORNELIUS MARIA , 歐利史萊吉斯羅德 , OLIESLAGERS,RUUD , 優路肯亞頓克 , ULUCAN,ARTUNC , 波列特喜爾多爾斯 威爾赫瑪斯 , POLET,THEODORUS WILHELMUS , 斯布坦堡派翠克 喬韓妮絲 威爾海莫斯 , SPRUYTENBURG,PATRICK JOHANNES WILHELMUS
Abstract: 本發明係關於一種包含一流體處置結構之微影浸潤裝置及一種器件製造方法。在實施例中，流體處置結構經組態以將浸潤流體侷限於區且包含氣刀系統，該氣刀系統包含各自具有退出口之通道，該等通道包含具有複數個對應第一退出口之複數個第一通道及具有複數個對應第二退出口之複數個第二通道，其中至少一個第一通道及至少一個第二通道經組態以使得退出第一退出口之氣體的停滯壓力大於退出第二退出口之氣體的停滯壓力，其中複數個第一通道及複數個第二通道交纏且以直線配置，使得第一退出口及第二退出口形成平面圖中之形狀的一側。在實施例中，流體處置結構經組態以將浸潤流體侷限於區且在使用中包含氣刀，流體處置結構包含至少一個退出口，其中至少一個退出口經配置以使得氣刀形成平面圖中之形狀的一側，且至少一個退出口具有經組態以允許浸潤流體之小滴自氣刀之徑向外部的位置移動至氣刀之徑向內部的位置且經組態以約束浸潤流體之小滴自氣刀之徑向內部的位置移動至氣刀之徑向外部的位置之幾何形狀。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种包含一流体处置结构之微影浸润设备及一种器件制造方法。在实施例中，流体处置结构经组态以将浸润流体局限于区且包含气刀系统，该气刀系统包含各自具有退出口之信道，该等信道包含具有复数个对应第一退出口之复数个第一信道及具有复数个对应第二退出口之复数个第二信道，其中至少一个第一信道及至少一个第二信道经组态以使得退出第一退出口之气体的停滞压力大于退出第二退出口之气体的停滞压力，其中复数个第一信道及复数个第二信道交缠且以直线配置，使得第一退出口及第二退出口形成平面图中之形状的一侧。在实施例中，流体处置结构经组态以将浸润流体局限于区且在使用中包含气刀，流体处置结构包含至少一个退出口，其中至少一个退出口经配置以使得气刀形成平面图中之形状的一侧，且至少一个退出口具有经组态以允许浸润流体之小滴自气刀之径向外部的位置移动至气刀之径向内部的位置且经组态以约束浸润流体之小滴自气刀之径向内部的位置移动至气刀之径向外部的位置之几何形状。
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公开(公告)号：TWI701523B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW108111656
申请日：2019-04-02
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 于淼 , YU, MIAO , 阿茲 彼卓司 馬度那斯 葛瑞德斯 裘漢那斯 , ARTS, PETRUS MARTINUS GERARDUS JOHANNES , 優莫林 艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 , EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARINA , 加多比吉歐 吉凡尼 路卡 , GATTOBIGIO, GIOVANNI LUCA , 霍爾查思特 馬汀 , HOLTRUST, MAARTEN , 廉碧司 韓 亨利克斯 亞德恭達 , LEMPENS, HAN HENRICUS ALDEGONDA , 麥克齊伯林克 佛迪 , MIGCHELBRINK, FERDY , 波列特 喜爾多爾斯 威爾赫瑪斯 , POLET, THEODORUS WILHELMUS , 坦納撒 喬爾發 , TANASA, GHEORGHE
IPC: G03F7/20
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公开(公告)号：TW201819887A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106133881
申请日：2017-09-30
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 關天男 , GUAN, TIANNAN , 李敬師 , LI, JINGSHI , 于淼 , YU, MIAO
Abstract: 本發明揭示一種量測經組態以固持一生產基板之一基板固持器之磨損的方法，該方法包含： 將一量測基板夾持至該基板固持器；及 量測該量測基板中之應變以產生一量測結果。 該量測基板可包含：一本體，該本體之尺寸相似於該生產基板之尺寸；及 該本體中之一應變感測器，其經組態以量測該量測基板之一周邊部分中之應變。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种量测经组态以固持一生产基板之一基板固持器之磨损的方法，该方法包含： 将一量测基板夹持至该基板固持器；及 量测该量测基板中之应变以产生一量测结果。 该量测基板可包含：一本体，该本体之尺寸相似于该生产基板之尺寸；及 该本体中之一应变传感器，其经组态以量测该量测基板之一周边部分中之应变。
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公开(公告)号：TWI669576B
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：TW105121930
申请日：2016-07-12
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 薩意德 史文 , SAEED, SEERWAN , 加多比吉歐 吉凡尼 路卡 , GATTOBIGIO, GIOVANNI LUCA , 于淼 , YU, MIAO , 優莫林 艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 , EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARIN , 麥克齊伯林克 佛迪 , MIGCHELBRINK, FERDY , 凡 尚默任 丹 丹尼爾 喬納斯 安東尼斯 , VAN SOMMEREN, DAAN DANIEL JOHANNES ANTONIUS , 凡 迪 溫可 吉米 馬特斯 威哈幕斯 , VAN DE WINKEL, JIMMY MATHEUS WILHELMUS , 雷梅克斯 傑羅伊恩 阿諾多斯 李奧納多斯 裘漢那斯 , RAAYMAKERS, JEROEN ARNOLDUS LEONARDUS JOHA , 雷思 阿努德斯 喬納斯 馬丁諾斯 喬瑟夫 , RAS, ARNOLDUS JOHANNES MARTINUS JOZ , 阿茲 彼卓司 馬度那斯 葛瑞德斯 裘漢那斯 , ARTS, PETRUS MARTINUS GERARDUS JOHAN , 布登貝格 哈洛德 賽巴斯汀 , BUDDENBERG, HAROLD SEBASTIAAN , 庫肯斯 弗羅爾 羅德維克 , KEUKENS, FLOOR LODEWIJK , 坦納撒 喬爾發 , TANASA, GHEORGHE , 瓦特斯 馬瑞吉 , WOUTERS, MARIJN
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201812953A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106122856
申请日：2017-07-07
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 雷梅克斯 傑羅伊恩 阿諾多斯 李奧納多斯 裘漢那斯 , RAAYMAKERS, JEROEN ARNOLDUS LEONARDUS JOHANNES , 雷帝茲 彼得 喬漢斯 安東尼奧斯 , RAEDTS, PETER JOHANNES ANTONIUS , 于淼 , YU, MIAO
CPC classification number: H01L21/67253 , G03F7/7085 , H01L22/34
Abstract: 一種用於檢測用於處理生產基板之一裝置之一組件的檢測基板，該檢測基板包含： 一本體，其具有相似於該等生產基板之尺寸，使得該檢測基板與該裝置相容； 一感測器，其經組態以產生與該裝置之該組件之一參數相關的檢測資訊，該感測器嵌入於該本體中； 一控制偵測器，其嵌入於該本體中且經組態以偵測由用於處理生產基板之該裝置傳輸之一控制信號； 一控制器，其嵌入於該本體中且經組態以回應於偵測到該控制信號而控制該感測器。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于检测用于处理生产基板之一设备之一组件的检测基板，该检测基板包含： 一本体，其具有相似于该等生产基板之尺寸，使得该检测基板与该设备兼容； 一传感器，其经组态以产生与该设备之该组件之一参数相关的检测信息，该传感器嵌入于该本体中； 一控制侦测器，其嵌入于该本体中且经组态以侦测由用于处理生产基板之该设备传输之一控制信号； 一控制器，其嵌入于该本体中且经组态以回应于侦测到该控制信号而控制该传感器。
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公开(公告)号：TW201732160A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106100677
申请日：2017-01-10
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 優莫林 艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 , EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARINA , 加多比吉歐 吉凡尼 路卡 , GATTOBIGIO, GIOVANNI LUCA , 麥爾曼 喬漢斯 康納歷斯 波勒斯 , MELMAN, JOHANNES CORNELIS PAULUS , 廉碧司 韓 亨利克斯 亞德恭達 , LEMPENS, HAN HENRICUS ALDEGONDA , 于淼 , YU, MIAO , 羅伯茲 康納利 馬利亞 , ROPS, CORNELIUS MARIA , 歐利史萊吉斯 羅德 , OLIESLAGERS, RUUD , 優路肯 亞頓克 , ULUCAN, ARTUNC , 波列特 喜爾多爾斯 威爾赫瑪斯 , POLET, THEODORUS WILHELMUS , 斯布坦堡 派翠克 喬韓妮絲 威爾海莫斯 , SPRUYTENBURG, PATRICK JOHANNES WILHELMUS
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 本發明係關於一種包含一流體處置結構之微影浸潤裝置及一種器件製造方法。在實施例中，流體處置結構經組態以將浸潤流體侷限於區且包含氣刀系統，該氣刀系統包含各自具有退出口之通道，該等通道包含具有複數個對應第一退出口之複數個第一通道及具有複數個對應第二退出口之複數個第二通道，其中至少一個第一通道及至少一個第二通道經組態以使得退出第一退出口之氣體的停滯壓力大於退出第二退出口之氣體的停滯壓力，其中複數個第一通道及複數個第二通道交纏且以直線配置，使得第一退出口及第二退出口形成平面圖中之形狀的一側。在實施例中，流體處置結構經組態以將浸潤流體侷限於區且在使用中包含氣刀，流體處置結構包含至少一個退出口，其中至少一個退出口經配置以使得氣刀形成平面圖中之形狀的一側，且至少一個退出口具有經組態以允許浸潤流體之小滴自氣刀之徑向外部的位置移動至氣刀之徑向內部的位置且經組態以約束浸潤流體之小滴自氣刀之徑向內部的位置移動至氣刀之徑向外部的位置之幾何形狀。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种包含一流体处置结构之微影浸润设备及一种器件制造方法。在实施例中，流体处置结构经组态以将浸润流体局限于区且包含气刀系统，该气刀系统包含各自具有退出口之信道，该等信道包含具有复数个对应第一退出口之复数个第一信道及具有复数个对应第二退出口之复数个第二信道，其中至少一个第一信道及至少一个第二信道经组态以使得退出第一退出口之气体的停滞压力大于退出第二退出口之气体的停滞压力，其中复数个第一信道及复数个第二信道交缠且以直线配置，使得第一退出口及第二退出口形成平面图中之形状的一侧。在实施例中，流体处置结构经组态以将浸润流体局限于区且在使用中包含气刀，流体处置结构包含至少一个退出口，其中至少一个退出口经配置以使得气刀形成平面图中之形状的一侧，且至少一个退出口具有经组态以允许浸润流体之小滴自气刀之径向外部的位置移动至气刀之径向内部的位置且经组态以约束浸润流体之小滴自气刀之径向内部的位置移动至气刀之径向外部的位置之几何形状。
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公开(公告)号：TWI641923B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW106122305
申请日：2017-07-04
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 雷梅克斯 傑羅伊恩 阿諾多斯 李奧納多斯 裘漢那斯 , RAAYMAKERS, JEROEN ARNOLDUS LEONARDUS JOHANNES , 波勒曼 伯斯科 簡 亨利 , BLOEMEN, PASCAL JEAN HENRI , 杰特 彼得斯 希爾多斯 , JUTTE, PETRUS THEODORUS , 雷思 阿努德斯 喬納斯 馬丁諾斯 喬瑟夫 , RAS, ARNOLDUS JOHANNES MARTINUS JOZEPH , 于淼 , YU, MIAO
IPC: G03F7/20
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公开(公告)号：TWI641763B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW106100677
申请日：2017-01-10
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 優莫林 艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 , EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARINA , 加多比吉歐 吉凡尼 路卡 , GATTOBIGIO, GIOVANNI LUCA , 麥爾曼 喬漢斯 康納歷斯 波勒斯 , MELMAN, JOHANNES CORNELIS PAULUS , 廉碧司 韓 亨利克斯 亞德恭達 , LEMPENS, HAN HENRICUS ALDEGONDA , 于淼 , YU, MIAO , 羅伯茲 康納利 馬利亞 , ROPS, CORNELIUS MARIA , 歐利史萊吉斯 羅德 , OLIESLAGERS, RUUD , 優路肯 亞頓克 , ULUCAN, ARTUNC , 波列特 喜爾多爾斯 威爾赫瑪斯 , POLET, THEODORUS WILHELMUS , 斯布坦堡 派翠克 喬韓妮絲 威爾海莫斯 , SPRUYTENBURG, PATRICK JOHANNES WILHELMUS
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公开(公告)号：TW201812463A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106122305
申请日：2017-07-04
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 雷梅克斯 傑羅伊恩 阿諾多斯 李奧納多斯 裘漢那斯 , RAAYMAKERS, JEROEN ARNOLDUS LEONARDUS JOHANNES , 波勒曼 伯斯科 簡 亨利 , BLOEMEN, PASCAL JEAN HENRI , 杰特 彼得斯 希爾多斯 , JUTTE, PETRUS THEODORUS , 雷思 阿努德斯 喬納斯 馬丁諾斯 喬瑟夫 , RAS, ARNOLDUS JOHANNES MARTINUS JOZEPH , 于淼 , YU, MIAO
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70916
Abstract: 一種用於檢測用於處理生產基板之一裝置之一組件的檢測基板，該檢測基板包含： 一本體，其具有相似於該等生產基板之尺寸，使得該檢測基板與該裝置相容； 一照明器件，其嵌入於該本體中，該照明器件經組態以將輻射朝向該裝置之該組件之目標區域發射； 一成像器件，其嵌入於該本體中，該成像器件經組態以偵測該目標區域處散射之輻射且自該偵測到輻射產生一影像； 其中該照明器件經組態以發射該輻射使得在該目標區域處經鏡面反射的輻射並不促成由該成像器件產生之該影像。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于检测用于处理生产基板之一设备之一组件的检测基板，该检测基板包含： 一本体，其具有相似于该等生产基板之尺寸，使得该检测基板与该设备兼容； 一照明器件，其嵌入于该本体中，该照明器件经组态以将辐射朝向该设备之该组件之目标区域发射； 一成像器件，其嵌入于该本体中，该成像器件经组态以侦测该目标区域处散射之辐射且自该侦测到辐射产生一影像； 其中该照明器件经组态以发射该辐射使得在该目标区域处经镜面反射的辐射并不促成由该成像器件产生之该影像。
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