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    輻射接收系統
    1.
    发明专利
    輻射接收系統 审中-公开
    辐射接收系统

    公开(公告)号：TW201903533A

    公开(公告)日：2019-01-16

    申请号：TW107111751

    申请日：2018-04-03

    Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 保羅 亞歷山卓 ,  POLO, ALESSANDRO ,  帕迪 尼特許 ,  PANDEY, NITESH ,  柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 ,  KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT

    IPC: G03F7/20 ,  G01J3/02 ,  G01J3/18 ,  G01J3/28 ,  G01J3/36

    Abstract: 本發明揭示一種用於一檢測裝置之輻射接收系統，其包含具有數個輸入之一光譜儀，該檢測裝置用以對微影基板上之目標結構執行量測以作為一微影製程之一部分。該輻射接收系統包含：複數個輸入，各輸入經配置以提供來自一目標結構之輻射；一第一光學元件，其可操作以接收來自該複數個輸入中之各者的輻射；一第二光學元件，其可操作以接收來自該第一光學元件之輻射且散射該輻射；及一第三光學元件，其可操作以將該散射輻射導引至一偵測器上。該第二光學元件可例如為使入射輻射繞射成一輸出輻射光譜之一反射繞射光柵。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于一检测设备之辐射接收系统，其包含具有数个输入之一光谱仪，该检测设备用以对微影基板上之目标结构运行量测以作为一微影制程之一部分。该辐射接收系统包含：复数个输入，各输入经配置以提供来自一目标结构之辐射；一第一光学组件，其可操作以接收来自该复数个输入中之各者的辐射；一第二光学组件，其可操作以接收来自该第一光学组件之辐射且散射该辐射；及一第三光学组件，其可操作以将该散射辐射导引至一侦测器上。该第二光学组件可例如为使入射辐射绕射成一输出辐射光谱之一反射绕射光栅。

    位置感測器、微影裝置及器件製造方法
    2.
    发明专利
    位置感測器、微影裝置及器件製造方法 审中-公开
    位置传感器、微影设备及器件制造方法

    公开(公告)号：TW201820057A

    公开(公告)日：2018-06-01

    申请号：TW106125006

    申请日：2017-07-26

    Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 休斯曼 賽門 雷納德 ,  HUISMAN, SIMON REINALD ,  麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 ,  MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS ,  高爾登 賽巴斯汀亞努斯 安德里亞努斯 ,  GOORDEN, SEBASTIANUS ADRIANUS ,  阿克布魯特 都古 ,  AKBULUT, DUYGU ,  保羅 亞歷山卓 ,  POLO, ALESSANDRO

    IPC: G03F9/00

    Abstract: 一微影裝置中之一種對準感測器包含一光學系統(500；600)，其經組態以遞送、收集及處理選擇性地在一第一波帶(例如500奈米至900奈米)中及/或在一第二波帶(例如1500奈米至2500奈米)中之輻射。該第一波帶及該第二波帶之該輻射共用該光學系統之至少某一部分中的一共同光學路徑(506至508；606)，而該第一波帶之該輻射係由一第一處理子系統(552a)處理且該第二波帶(552b)之該輻射係由一第二處理子系統處理。該等處理子系統在一個實例中包含自參考干涉計(556a/556b；656a/656b)。該第二波帶之該輻射允許經由諸如碳硬式光罩之一不透明層(308)來量測標記。每一處理子系統之光學塗層及其他組件可根據該各別波帶予以定製，而不完全複製該光學系統。

    Abstract in simplified Chinese: 一微影设备中之一种对准传感器包含一光学系统(500；600)，其经组态以递送、收集及处理选择性地在一第一波带(例如500奈米至900奈米)中及/或在一第二波带(例如1500奈米至2500奈米)中之辐射。该第一波带及该第二波带之该辐射共享该光学系统之至少某一部分中的一共同光学路径(506至508；606)，而该第一波带之该辐射系由一第一处理子系统(552a)处理且该第二波带(552b)之该辐射系由一第二处理子系统处理。该等处理子系统在一个实例中包含自参考干涉计(556a/556b；656a/656b)。该第二波带之该辐射允许经由诸如碳硬式光罩之一不透明层(308)来量测标记。每一处理子系统之光学涂层及其他组件可根据该各别波带予以定制，而不完全复制该光学系统。

    參數判定方法及其裝置
    3.
    发明专利
    參數判定方法及其裝置 审中-公开
    参数判定方法及其设备

    公开(公告)号：TW201921130A

    公开(公告)日：2019-06-01

    申请号：TW107125413

    申请日：2018-07-24

    Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 帕迪 尼特許 ,  PANDEY, NITESH ,  帕薩瑞可 馬克辛 ,  PISARENCO, MAXIM ,  保羅 亞歷山卓 ,  POLO, ALESSANDRO

    IPC: G03F7/20 ,  G01N29/06

    Abstract: 本發明揭示一種用以自度量衡目標之影像量測疊對之方法及裝置，該等影像為使用聲波所獲得之影像，例如使用一聲學顯微鏡所獲得之影像。獲得兩個目標之影像，一個影像使用聲波獲得且一個影像使用光波獲得，判定該等影像之邊緣，且獲得該兩個目標之間的疊對而作為該兩個影像之該等邊緣之間的差。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用以自度量衡目标之影像量测叠对之方法及设备，该等影像为使用声波所获得之影像，例如使用一声学显微镜所获得之影像。获得两个目标之影像，一个影像使用声波获得且一个影像使用光波获得，判定该等影像之边缘，且获得该两个目标之间的叠对而作为该两个影像之该等边缘之间的差。

    度量衡感測器、微影裝置及器件製造方法
    5.
    发明专利
    度量衡感測器、微影裝置及器件製造方法 审中-公开
    度量衡传感器、微影设备及器件制造方法

    公开(公告)号：TW201837623A

    公开(公告)日：2018-10-16

    申请号：TW106141721

    申请日：2017-11-30

    Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 高爾登 賽巴斯汀亞努斯 安德里亞努斯 ,  GOORDEN, SEBASTIANUS ADRIANUS ,  帕迪 尼特許 ,  PANDEY, NITESH ,  阿克布魯特 都古 ,  AKBULUT, DUYGU ,  保羅 亞歷山卓 ,  POLO, ALESSANDRO ,  休斯曼 賽門 雷納德 ,  HUISMAN, SIMON REINALD

    IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

    Abstract: 本發明揭示一種度量衡感測器系統，諸如一種位置感測器。該系統包含：一光學收集系統，其經組態以自一基板上之一度量衡標記收集繞射或散射輻射，該經收集輻射包含至少一個參數敏感信號及不參數敏感之雜訊信號；一處理系統，其可操作以處理該經收集輻射；及一模組殼體。一光學導引件被提供用於將與該雜訊信號分離之該至少一個參數敏感信號自該處理系統導引至該殼體外部之一偵測系統。一偵測器偵測經分離之該至少一個參數敏感信號。用於阻擋零階輻射之一遮蔽件及/或一縮微光學系統可提供於該光學導引件與該偵測器之間。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种度量衡传感器系统，诸如一种位置传感器。该系统包含：一光学收集系统，其经组态以自一基板上之一度量衡标记收集绕射或散射辐射，该经收集辐射包含至少一个参数敏感信号及不参数敏感之噪声信号；一处理系统，其可操作以处理该经收集辐射；及一模块壳体。一光学导引件被提供用于将与该噪声信号分离之该至少一个参数敏感信号自该处理系统导引至该壳体外部之一侦测系统。一侦测器侦测经分离之该至少一个参数敏感信号。用于阻挡零阶辐射之一屏蔽件及/或一缩微光学系统可提供于该光学导引件与该侦测器之间。

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