图像曝光装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1181393C

    公开(公告)日:2004-12-22

    申请号:CN02158365.X

    申请日:2002-12-27

    CPC classification number: G03B27/72

    Abstract: 一种图像曝光装置,设置有:使从半导体激光元件射出的光束对感光体扫描的光束扫描机构BS,和驱动所述半导体激光元件的激光驱动机构;所述激光驱动机构,根据所输入的图像信号,使所述半导体激光元件的驱动电流变化;还设有:测定在所述半导体激光元件的设定电流范围的电流-光输出特性,并根据其测定信息、设定在所述激光驱动机构上的输入图像信号和半导体激光元件的驱动电流之间的对应关系的激光输出管理机构。这一种图像曝光装置,直接调制半导体激光元件,以形成曝光图像并可提高图像质量。

    工件处理装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101312122B

    公开(公告)日:2010-07-21

    申请号:CN200810099703.9

    申请日:2008-05-21

    CPC classification number: H01L21/67069

    Abstract: 本发明涉及一种工件处理装置(S),包括:等离子体发生装置(6),具有将提供的规定气体等离子体化的等离子体发生部(18),并从所述等离子体发生部(18)放出等离子体化的气体;输送装置(2),在所述等离子体发生部(18)的下方支撑作为处理对象的工件(W);通过对所述工件(W)照射等离子体化的气体,执行规定的处理;所述工件处理装置(S)还包括安装框(4),用于安装所述等离子体发生装置(6),以使所述等离子体发生部(18)位于工件(W)上方。而且,所述等离子体发生装置(6)相对于所述安装框(4)安装成可以从使所述等离子体发生部(18)配置在工件(W)上方的安装位置沿水平方向拉出。

    光扫描装置及具有该装置的相片处理设备

    公开(公告)号:CN1194243C

    公开(公告)日:2005-03-23

    申请号:CN01110273.X

    申请日:2001-04-05

    Abstract: 一种光扫描装置,边相对地移动感光材料边进行扫描曝光,其特征在于,包括:分别射出不同波长光束的多数光源,和按照图像信息调制由所述各光源所射出的光束的多数光束的调制机构,和控制所述各光束调制机构的调制定时的定时控制机构,和沿主扫描方向偏转所述光束调制机构中已调制的光束的偏转机构,以及使由所述偏转机构所射出的光束在感光材料上聚束的光学机构;所述定时控制机构通过基准时钟发生电路变更并设定激光的各成分的基准时钟频率和扫描开始定时、而对所述各光束调制机构分别控制调制定时,以控制各色激光主扫描范围的偏移,从而使各色激光在通过所述光学机构之后的主范围一致。

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