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公开(公告)号：CN103153887A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180051953.5
申请日：2011-10-28
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
IPC: C03B19/10
CPC classification number: C03B20/00 , C03B19/1005 , C03C12/00
Abstract: 通过将由多孔小粒制成的可流动的SiO2粒料玻璃化而制造石英玻璃颗粒是在时间和成本上高耗费的。为了给出一种能够从多孔SiO2粒料出发连续且廉价地制造致密的合成石英玻璃颗粒的方法，根据本发明提出以下方法步骤：(a)将热解生产的硅酸粒化，同时形成由多孔小粒（9）组成的SiO2粒料，(b)干燥该SiO2粒料，(c)通过在纯化炉中在含卤气氛中加热来纯化该SiO2粒料，(d)通过在玻璃化炉中烧结来将纯化后的SiO2粒料玻璃化，同时形成该石英玻璃颗粒，其中该SiO2粒料的干燥、纯化和玻璃化分别在一个旋转管炉中的一个围绕中轴线旋转的旋转管中进行，其中用于进行玻璃化的旋转管炉具有一个旋转管，该旋转管至少在其内壁的部分长度上由作为未掺杂的石英玻璃的、软化温度较高的陶瓷材料组成，并且其中该旋转管用贫氮的处理气体冲刷或者用该处理气体清洗，该处理气体包含至少30体积%的氦气和/或氢气。
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公开(公告)号：CN104662210B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201380050766.4
申请日：2013-09-17
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
CPC classification number: C30B15/10 , C30B29/06 , Y10T117/1032
Abstract: 在已知的根据切克劳斯基法提拉半导体单晶的方法中，在石英玻璃坩埚中制造半导体熔体并从中提拉半导体单晶。所述石英玻璃坩埚的内壁和所述半导体熔体的自由熔体表面在此在坩埚内壁上径向环绕的接触区彼此接触并分别与熔体气氛接触，由此引发从所述接触区开始的熔体初振动。以在此基础上提供一种方法，其以减少的熔体振动和特别是以简单而短暂的拉晶过程为特征，本发明提出，引发频率彼此不同的初振动。
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公开(公告)号：CN104245609B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380022734.3
申请日：2013-04-17
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
CPC classification number: C03B20/00 , C03B19/1095 , C03B2201/02 , C04B35/185 , C04B35/62665 , C04B35/64 , C04B2235/5427 , C04B2235/77 , C04B2235/94 , C23C4/10 , C23C4/11 , C23C4/18 , C23C4/185 , F27B7/00 , F27B7/04 , F27B7/34
Abstract: 石英玻璃粒料的制备包括将热解制备的硅酸制粒、形成SiO2粒料和使所述SiO2粒料用处理气体玻璃化，所述处理气体含有至少30体积%的氦气和/或氢气。所述方法耗时且成本高。为了提供可以由多孔SiO2粒料起始以成本有效的方式制备致密的合成石英玻璃粒料的方法，其中所述石英玻璃粒料适合用于熔融由石英玻璃制成的无气泡组件，根据本发明所述SiO2粒料在具有含莫来石的陶瓷转筒的转筒炉中玻璃化，为此将含有摩尔份数至少45%的SiO2和Al2O3的起始粉末通过热粉末喷雾法施加到模具芯上以形成含莫来石的层，和随后移除模具芯，和其中所述陶瓷转筒用处理气体注满或用处理气体冲洗，其中所述处理气体含有至少30体积%的氦气和/或氢气。
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公开(公告)号：CN102906038A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201180026244.1
申请日：2011-05-26
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
CPC classification number: C03B19/1492 , C03C17/004 , C03C17/02 , C03C21/003 , C03C23/0025 , C03C2217/213 , C03C2218/1525
Abstract: 本发明的基本目的是，提供一种方法，用于制造具有由透明的、少气泡的、纯净的、具有较长使用寿命的石英玻璃制成的内层的一种石英玻璃坩埚。根据本发明的目的是由一种方法实现的，该方法包括以下方法步骤：(a)制备一个具有内侧面的、由石英玻璃制成的坩埚基体，(b)通过气相沉积在坩埚基体的内侧面的至少一个部分面积上制造一个多孔SiO2灰料层，将多孔的SiO2灰料层干燥以减少羟基含量，以及在贫氢的气氛中将灰料层烧结成由透明石英玻璃制成的内层，从而将内层的石英玻璃中的羟基含量设定为小于100重量ppm。
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公开(公告)号：CN102753493A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201180009805.7
申请日：2011-02-15
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
CPC classification number: C03B19/095 , C03B19/066
Abstract: 本发明涉及一种用于生产用来拉拔单晶的石英玻璃坩埚的方法，其方式为在熔融模具中成型一个颗粒层并且将其烧结或熔化，同时形成该石英玻璃坩埚。为了给出成本低廉地生产用于石英玻璃坩埚的石英玻璃的方式，其中该石英玻璃的突出之处是较高的纯度并且不仅能够可重现地设定其无气泡程度而且还能获得明确而均匀的小孔孔隙度，根据本发明提出，将颗粒层的至少一部分用一种石英玻璃粒料来制造，其生产包括以下方法步骤：借助于滚轧成块方法将硅酸粉末机械地致密化，同时形成具有实质上统一的、类球体式的形貌的模具压制件，并且将该模具压制件或其片段热致密化成为氧化硅玻璃粒料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105461196B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201510630029.2
申请日：2015-09-29
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03B19/066 , C03B19/108 , C03B19/1095 , C03B2201/02 , C03C3/06 , C03C11/00 , C03C12/00 , C03C2201/02
Abstract: 本发明公开了生产SiO2颗粒的合成石英玻璃的方法及SiO2颗粒。通过熔化SiO2颗粒生产不透明合成石英玻璃的已知方法包括：合成无定形SiO2初级粒子，使无定形SiO2初级粒子成粒以形成开孔SiO2颗粒，通过在烧结气氛中在烧结温度下和烧结周期内加热来烧结开孔SiO2颗粒，以形成致密化的SiO2颗粒，和在熔融温度下熔融致密化的SiO2颗粒，以形成合成石英玻璃。根据本发明在烧结期间调节烧结气氛、烧结温度和烧结持续时间，使得致密化的SiO2颗粒一方面仍包含开孔，并且另一方面在1700 nm波长下显示材料特定的红外透射率T1700，该透射率为相同材料的石英玻璃颗粒的红外透射率T1700的50‑95%。
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公开(公告)号：CN103153887B
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201180051953.5
申请日：2011-10-28
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
IPC: C03B19/10
CPC classification number: C03B20/00 , C03B19/1005 , C03C12/00
Abstract: 通过将由多孔小粒制成的可流动的SiO2粒料玻璃化而制造石英玻璃颗粒是在时间和成本上高耗费的。为了给出一种能够从多孔SiO2粒料出发连续且廉价地制造致密的合成石英玻璃颗粒的方法，根据本发明提出以下方法步骤：(a) 将热解生产的硅酸粒化，同时形成由多孔小粒（9）组成的SiO2粒料，(b) 干燥该SiO2粒料，(c) 通过在纯化炉中在含卤气氛中加热来纯化该SiO2粒料，(d) 通过在玻璃化炉中烧结来将纯化后的SiO2粒料玻璃化，同时形成该石英玻璃颗粒，其中该SiO2粒料的干燥、纯化和玻璃化分别在一个旋转管炉中的一个围绕中轴线旋转的旋转管中进行，其中用于进行玻璃化的旋转管炉具有一个旋转管，该旋转管至少在其内壁的部分长度上由作为未掺杂的石英玻璃的、软化温度较高的陶瓷材料组成，并且其中该旋转管用贫氮的处理气体冲刷或者用该处理气体清洗，该处理气体包含至少30体积%的氦气和/或氢气。
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公开(公告)号：CN102906037A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201180025936.4
申请日：2011-05-25
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
CPC classification number: C03B19/095 , C30B11/002 , C30B15/10 , C30B35/002
Abstract: 在已知的用于生产石英玻璃坩埚的方法中提供了一种真空熔融模具，在其内侧面上成形出一个SiO2颗粒的坩埚形颗粒层，该颗粒层具有一个底部区域和一个侧壁区域。在该多孔颗粒层的至少一部分上构成了一个少气泡的石英玻璃构成的表皮层。通过施加负压，至少从与该表皮层相邻的颗粒层的一部分中去除了气态组分，并且该颗粒层被玻璃化，同时形成具有坩埚高度H的石英玻璃坩埚。为了由此出发提供一种简化生成过程并且降低杂质进入硅熔体中的危险的石英玻璃坩埚，根据本发明提出，在该颗粒层的一个上部区域中在玻璃化时在该表皮层之下并且与之相邻地制造一个气泡区，该上部区域与下部区域相接并且延伸直至全高H，该气泡区包含具有一个比气泡体积的多个填充有气体的气泡，该比气泡体积为该少气泡的石英玻璃中填充有气体的气泡的比体积的至少两倍，其实现方式为在该颗粒层的一个下部区域中施加一个负压，该下部区域从底部区域最大延伸直至坩埚高度H的0.8倍。
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公开(公告)号：CN105461196A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510630029.2
申请日：2015-09-29
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03B19/066 , C03B19/108 , C03B19/1095 , C03B2201/02 , C03C3/06 , C03C11/00 , C03C12/00 , C03C2201/02
Abstract: 本发明公开了生产SiO2颗粒的合成石英玻璃的方法及SiO2颗粒。通过熔化SiO2颗粒生产不透明合成石英玻璃的已知方法包括：合成无定形SiO2初级粒子，使无定形SiO2初级粒子成粒以形成开孔SiO2颗粒，通过在烧结气氛中在烧结温度下和烧结周期内加热来烧结开孔SiO2颗粒，以形成致密化的SiO2颗粒，和在熔融温度下熔融致密化的SiO2颗粒，以形成合成石英玻璃。根据本发明在烧结期间调节烧结气氛、烧结温度和烧结持续时间，使得致密化的SiO2颗粒一方面仍包含开孔，并且另一方面在1700nm波长下显示材料特定的红外透射率T1700，该透射率为相同材料的石英玻璃颗粒的红外透射率T1700的50-95%。
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公开(公告)号：CN102906038B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201180026244.1
申请日：2011-05-26
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
CPC classification number: C03B19/1492 , C03C17/004 , C03C17/02 , C03C21/003 , C03C23/0025 , C03C2217/213 , C03C2218/1525
Abstract: 本发明的基本目的是，提供一种方法，用于制造具有由透明的、少气泡的、纯净的、具有较长使用寿命的石英玻璃制成的内层的一种石英玻璃坩埚。根据本发明的目的是由一种方法实现的，该方法包括以下方法步骤：(a)制备一个具有内侧面的、由石英玻璃制成的坩埚基体，(b)通过气相沉积在坩埚基体的内侧面的至少一个部分面积上制造一个多孔SiO2灰料层，将多孔的SiO2灰料层干燥以减少羟基含量，以及在贫氢的气氛中将灰料层烧结成由透明石英玻璃制成的内层，从而将内层的石英玻璃中的羟基含量设定为小于100重量ppm。
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