Abstract:
본 발명은 가시영역(VIS) 감광 전자-주게(p-형) 고분자 및 적외영역(NIR) 감광 전자-받게(n-형) 고분자의 나노구조화된 벌크이형접합층(BHT layers)들을 포함하여 근적외영역 내지 가시영역에 걸치는 광대역에서 감광이 가능한 광대역 감광 전-고분자 유기광전자소자에 관한 것으로서, 상기 광대역 감광 전-고분자 유기광전자소자는 전자주게 또는 전자받게로서의 근적외영역 감광 고분자를 포함함을 특징으로 한다:
Abstract:
기판 상에 형성된 게이트 전극과 소스 및 드레인 전극을 포함하는 메모리 소자에 있어서, 상기 게이트 전극과 소스 및 드레인 전극 사이에 상호간에 크로스링킹이 가능한 무기질과 유기질의 혼합 물질로 히스테리시스를 나타내는 전기적으로 분극 가능한 하이브리드 메모리 절연층이 형성된다. 상기와 같은 본 발명에 따르면, 메모리 절연층을 폴리비닐페놀(polyvinyl phenol)의 유기질 물질과 비닐트리에톡시실란(Vinyltriethoxysilane)의 무기질 물질을 혼합한 하이브리드 절연층으로 형성되도록 하여, 무기 메모리와 유기 메모리 소자의 특성을 상호 보완하여 메모리 성능이 향상되며, 저온 뿐만 아니라 고온에서도 안정적으로 작동되어 사용범위가 매우 넓은 효과가 있다. 또한, 절연층을 폴리비닐페놀의 유기질 물질과 비닐트리에톡시실란의 무기질 물질의 크로스링킹을 통한 화학적 결합을 통해 유전율을 낮추면서도 히스테리시스 누설이 거의 없어 저전압에서 우수한 드레인 전류 특성을 가지도록 하여 저전압에서 구동이 가능한 효과가 있다. 또한, 폴리비닐페놀 물질을 실리콘 베이스 무기물인 비닐트리에톡시실란과 화학결합시켜 절연층이 단단해져 절연층 자체를 기판으로 사용할 수 있어, 별도의 기판 형성단계가 필요치 않아 제조시간을 단축할 수 있으며, 제조비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.
Abstract:
본 발명은 폴리비닐알코올(PVA : Polyvinyl Alcohol)과 고분자 물질의 혼합 물질로 이루어진 고분자 메모리 절연층을 게이트 전극과 전하 수송층 사이에 형성하여, 히스테리시스(hysteresis)를 나타내는 전기적으로 분극 가능하도록 하여 드레인 전류가 히스테리시스 특성을 갖도록 함으로써 트랜지스터 구조를 가지면서 메모리 기능을 갖는 유기 메모리 소자 그 제조 방법에 관한 것이다. 이를 위한, 본 발명은 기판 상에 형성된 게이트 전극과 소오스 및 드레인 전극을 포함하는 트랜지스터에 있어서, 게이트 전극과 소오스 및 드레인 전극 사이에 폴리비닐알코올(PVA : Polyvinyl Alcohol)과 철 함유 단백질(Heme protein)의 혼합 물질로 이루어져 히스테리시스를 나타내는 전기적으로 분극 가능한 고분자 메모리 절연층이 형성된 것이다.
Abstract:
본 발명은 쌍극자 제어층을 포함한 액정-게이트-전계효과 트랜지스터 및 이를 이용한 촉각센서에 관한 것으로서, 기판 및 상기 기판 상에 형성되는 게이트 전극 및 상기 기판 상에 상기 게이트 전극과 이격되게 형성되는 소스 전극 및 상기 기판 상에 상기 소스 전극과 이격되게 형성되는 드레인 전극 및 상기 기판 상에 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극을 덮도록 형성되고, 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극을 전기적으로 연결하는 채널층 및 상기 기판 상에 상기 게이트 전극과 상기 채널층을 연결하도록 형성되는 액정층 및 상기 액정층과 상기 채널층 간에 개재되어 상기 액정층이 상기 채널층에 전하 생성을 유도하는 것을 최소화하는 쌍극자 제어층을 포함하여 이루어진다. 상기와 같은 본 발명에 의하면, 기존의 액정-게이트-전계효과 트랜지스터의 구조에 유전율이 낮은 고분자 물질을 접목하여 '0'게이트 전압 상태에서 채널층을 통한 드레인 전류의 누설을 현저하게 감소시킴으로써, 트랜지스터의 기능을 제공하면서 센싱 감도가 현저하게 향상된 촉각센서의 기능도 동시에 제공할 수 있게 된다.
Abstract:
본 발명은 고온 열처리를 이용한 유기 메모리 소자 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 80℃ 이상의 고온에서 열처리하여 고분자 메모리 절연층을 형성시킴으로써 열적 안정성을 확보하면서도 저전압에서도 우수한 메모리 특성을 보일 수 있으며, 산성도가 적어 전하 수송층의 안정성을 높일 수 있고 유리전이온도가 매우 높아 300℃까지의 고온에서도 열처리가 가능한 술폰산(sulfonic acid) 계열의 유기물질을 메모리 저장층으로 적용시킨 고온 열처리를 이용한 유기 메모리 소자 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일측면에 따른 유기 메모리 소자는, 기판 상에 형성된 게이트 전극과 소스 및 드레인 전극을 포함하는 트랜지스터에 있어서, 상기 게이트 전극과 소스 및 드레인 전극 사이에 열처리된 유기물질로 이루어져 히스테리시스를 나타내는 전기적으로 분극 가능한 고분자 메모리 절연층이 형성된 것을 특징으로 하는 고온 열처리를 이용한 유기 메모리 소자이다.