그래핀을 촉매로 한 실리콘의 화학적 식각 방법
    2.
    发明申请
    그래핀을 촉매로 한 실리콘의 화학적 식각 방법 审中-公开
    使用石墨作为催化剂的硅化学蚀刻方法

    公开(公告)号:WO2016178452A1

    公开(公告)日:2016-11-10

    申请号:PCT/KR2015/005501

    申请日:2015-06-02

    Inventor: 최석호 김정길

    CPC classification number: C23F1/10

    Abstract: 귀금속이 아닌 그래핀을 촉매로 사용하여 경제적인 비용 부담을 낮추고, 독성이 높은 강산성의 용액을 사용하지 않아 상대적으로 안전한 그래핀을 촉매로 한 실리콘의 화학적 식각 방법을 제공한다.

    Abstract translation: 提供了使用石墨烯作为催化剂的硅的化学蚀刻方法,其降低了由不是贵金属的石墨烯催化剂所使用的经济成本负担,并且相对安全,因为不使用任何高毒性 强酸性溶液。

    이온주입을 통한 지지층 기반의 그래핀의 도핑 방법
    3.
    发明申请
    이온주입을 통한 지지층 기반의 그래핀의 도핑 방법 审中-公开
    通过离子注射来支持基于层的石墨的方法

    公开(公告)号:WO2016182118A1

    公开(公告)日:2016-11-17

    申请号:PCT/KR2015/006277

    申请日:2015-06-22

    CPC classification number: C01B32/20

    Abstract: 이온주입법을 이용하여 도펀트 이온을 지지층이 코팅된 그래핀에 주입하고, 도펀트 이온이 주입된 그래핀을 열처리하여 그래핀에 도펀트 이온을 도핑하는 이온주입을 통한 지지층 기반의 그래핀의 도핑 방법에 관한 것으로, 성장된 그래핀에 지지층을 덮어 강한 이온 빔 에너지에 의한 그래핀 층의 손상을 최소화할 수 있고, 도펀트 이온들이 얇은 그래핀을 뚫고 지나가는 것을 차단할 수 있으며, 그래핀 표면에 도펀트 이온들을 최대한 분포시켜 넓은 면적에 균일하게 도핑할 수 있어, 차세대 광전자 소자 및 전자 소자 산업에 도핑된 그래핀의 응용 가능성을 높일 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种通过离子注入来掺杂支持层的石墨烯的方法,该方法通过使用离子注入法将掺杂剂离子注入支撑层涂覆的石墨烯中,并将掺杂剂离子热处理掺杂离子掺杂到石墨烯中 被注入的石墨烯。 支撑层覆盖在生长的石墨烯上,从而最小化由强离子束能量引起的石墨烯层的损伤,并防止掺杂剂离子穿透薄的石墨烯,并且掺杂剂离子最大程度地分布在石墨烯的表面上,从而允许在大的石墨烯上均匀掺杂 因此可以在下一代光电器件和电子器件行业中增加掺杂石墨烯的适用性。

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