公开(公告)号：KR100863210B1

公开(公告)日：2008-10-13

申请号：KR1020070049604

申请日：2007-05-22

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 박규환 ,  최원준 ,  전헌수

IPC: H01L33/20 ,  H01L33/04

CPC classification number: H01L33/10 ,  H01L33/22

Abstract: A polarized LED is provided to reduce largely a manufacturing cost by eliminating a polarizing plate in an LCD display device. A nitride thin film layer(20) is formed on a substrate(10). A quantum well layer(30) is formed on the nitride thin film layer. A first grating layer(40) is formed on the quantum well layer. The first grating layer is formed to pass partially the light of the quantum well layer and to reflect partially the light of the quantum well layer. A second grating layer(50) is formed on an upper part of the substrate so that the light reflected from the first grating layer. The first and second grating layers have different grating pattern directions.

Abstract translation: 提供了一种偏振LED，以通过消除LCD显示装置中的偏振片来大大降低制造成本。 在衬底（10）上形成氮化物薄膜层（20）。 在氮化物薄膜层上形成量子阱层（30）。 第一光栅层（40）形成在量子阱层上。 第一光栅层被形成为部分地通过量子阱层的光并部分地反射量子阱层的光。 第二光栅层（50）形成在基板的上部，使得从第一光栅层反射的光。 第一和第二光栅层具有不同的光栅图案方向。

公开(公告)号：KR101753355B1

公开(公告)日：2017-07-06

申请号：KR1020160092245

申请日：2016-07-20

Applicant: 서울대학교산학협력단 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 전헌수 ,  김한빛 ,  정현호 ,  이규백

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70408 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70716

Abstract: 본발명은레이저홀로그래픽리소그래피장치및 그를사용한패턴제조방법에관한것으로서, 보다상세하게는, 본발명에의한레이저홀로그래픽리소그래피장치및 그를이용한패턴제조방법에의하면오목거울을구비함으로써점진적으로주기가변하는회절격자패턴구조를제조할수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种图形光刻设备和用于制造图案与他单独激光器，更具体地，根据本发明单独使用的激光，根据该图形光刻设备以及用于制造使用相同的图案的方法而变化逐步周期的方法作为由具有凹面镜衍射 可以制造网格图案结构。

公开(公告)号：KR101527396B1

公开(公告)日：2015-06-09

申请号：KR1020140070028

申请日：2014-06-10

Applicant: 서울대학교산학협력단 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 전헌수 ,  정현호 ,  김한빛 ,  이규백 ,  이동현

IPC: G03H1/08 ,  B82Y20/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 본발명은대면적에효율적으로나노스케일의패턴을형성할수 있는레이저홀로그래픽리소그래피장치및 이를이용한점진적으로크기가변화하는나노패턴의제조방법을위하여, 레이저광원, 상기레이저광원으로부터조사된레이저빔의노이즈를제거하고동시에빔 사이즈를확장시키는공간필터, 상기공간필터로부터확장된레이저빔이조사될수 있으며, 웨이퍼홀더및 반사거울이부가된, 웨이퍼스테이지및 상기웨이퍼홀더상에위치하며, 상기공간필터로부터바로입사되는제 1 평행광및 상기반사거울에의하여입사하는제 2 평행광이입사될수 있는, 가변밀도필터를포함하는, 레이저홀로그래픽리소그래피장치를제공한다.

Abstract translation: 对于激光全息光刻设备和使用其的尺寸梯度纳米图案的制造方法，激光全息光刻设备包括激光束源，空间滤光器，其消除从激光束源发射的激光束的噪声并且扩展 光束尺寸同时可以从空间滤光片发射扩展的激光束并且具有晶片保持器和后反射镜的晶片台和位于晶片保持器上的可变浓度滤光器，并且透射发射的第一平行射线 从空间滤光器和从后视镜发射的第二平行光线。