나노스피어 형틀 형태의 나노임프린트용 템플릿 제조 방법,이를 이용한 단일층 나노스피어 고분자 패턴 형성 방법 및상기 단일층 나노스피어 패턴을 이용한 응용방법
    2.
    发明授权
    나노스피어 형틀 형태의 나노임프린트용 템플릿 제조 방법,이를 이용한 단일층 나노스피어 고분자 패턴 형성 방법 및상기 단일층 나노스피어 패턴을 이용한 응용방법 失效
    나노스피어형틀형태의나노임프린트용템플릿제조방법,이를이용한층일층나노스피어고분자패턴형형성방법및상기단일층나노스피어패턴을이용한응용방

    公开(公告)号:KR100930924B1

    公开(公告)日:2009-12-10

    申请号:KR1020080002594

    申请日:2008-01-09

    Abstract: 나노스피어 형틀 형태의 나노임프린트용 템플릿 제조방법, 나노임프린트 기술을 이용한 단일층 나노스피어 고분자 패턴 형성 방법 및 상기 단일층 나노스피어 고분자 패턴을 이용한 응용방법이 제공되며, 본 발명에 따른 나노스피어 형틀 형태의 나노임프린트용 템플릿은 기판상에 나노스피어를 적층하는 단계; 상기 나노스피어의 외곽층을 템플릿용 고분자 층에 전사하는 단계; 상기 템플릿용 고분자층으로부터 상기 나노스피어를 제거하여 나노스피어 형상의 템플릿을 완성하는 단계를 포함하며, 넓은 면적에서 균일한 모폴로지를 갖는 단일층 나노스피어 고분자 패턴 구조를 기판상에 형성시킬 수 있다.

    Abstract translation: 提供了用于制造用于纳米压印的纳米球型模板的方法和使用该方法的单层纳米球图案,以使得能够在基底上形成单层纳米球。 一种用于纳米压印的纳米球型模板的制造方法,包括以下步骤:将纳米球层(210)层压在基板(200)上; 将纳米球层的外层转移到用于模板的聚合物层(220); 并从模板的聚合物层中去除纳米球以形成纳米球型(230)模板。 用于模板的聚合物层代表选自聚氯乙烯(PVC),聚碳酸酯(PC)和聚甲基丙烯酸甲酯中的一种或多种化合物。

    마이크로-나노 금속 구조물의 제조 방법
    3.
    发明授权
    마이크로-나노 금속 구조물의 제조 방법 失效
    마이크로 - 나노금속구조물의제조방법

    公开(公告)号:KR100927481B1

    公开(公告)日:2009-11-19

    申请号:KR1020070057577

    申请日:2007-06-13

    Abstract: A method for preparing a micro-nano metal structure is provided to reproduce the complex or fine surface pattern structure on the semi-permanent metal structure precisely and cheaply. A method for preparing a micro-nano metal structure comprises the steps of preparing a master(102) where a nano-sized or micro-sized micropattern structure on surface and a PVC film(101) where the pattern of the master is transferred; pressurizing the PVC film with the master at the temperature above the glass transition temperature of the PVC film so as to transfer the pattern of the master to the PVC film; separating or removing the master from the PVC film at the temperature below the glass transition temperature of the PVC film; forming a metal seed layer for the electroplating of a thin film on the surface of the PVC film according to the pattern; carrying out the electroplating on the metal seed layer to form an electroplated material layer for charging the pattern of the PVC film; and separating or removing the PVC film from the electroplated material layer.

    Abstract translation: 提供了用于制备微纳米金属结构的方法,以精确且便宜地再现半永久性金属结构上的复杂或精细表面图案结构。 一种用于制备微纳米金属结构的方法包括以下步骤:准备其中表面上具有纳米尺寸或微米尺寸的微图案结构的主模块(102)和其中转移模板的PVC膜(101) 在高于PVC膜的玻璃化转变温度的温度下用母模加压PVC膜,以将母模的图案转印到PVC膜上; 在PVC薄膜的玻璃化转变温度以下的温度下将所述母料与所述PVC薄膜分离或除去; 根据图案形成用于在PVC膜的表面上电镀薄膜的金属种子层; 对金属种子层进行电镀以形成用于对PVC膜的图案进行充电的电镀材料层; 并从电镀材料层分离或除去PVC膜。

    평면표시장치용 백라이트 유닛의 나노패턴 형성 방법
    5.
    发明授权
    평면표시장치용 백라이트 유닛의 나노패턴 형성 방법 失效
    制造平板显示器背光单元纳米图案的方法

    公开(公告)号:KR101038801B1

    公开(公告)日:2011-06-03

    申请号:KR1020090007701

    申请日:2009-01-30

    Inventor: 이헌 홍성훈

    Abstract: LED를 광원으로 이용하는 평면표시장치용 백라이트 유닛의 광확산 효율을 향상시킬 수 있는 나노패턴 형성방법에 관하여 개시한다.
    본 발명의 일실시예에 따른 백라이트 유닛의 나노패턴 형성방법의 일실시예는 (a)표면에 나노패턴이 형성된 마스터 스탬프를 고분자 시트(Polymer Sheet) 상에 위치시키는 단계; (b)핫 엠보싱(Hot-embossing) 방법으로 상기 마스터 스탬프의 나노패턴을 상기 고분자 시트에 전사하여, 나노패턴을 갖는 고분자 몰드를 제작하는 단계; (c)상기 제작된 고분자 몰드 표면에 SiO
    2 를 증착하는 단계; (d)액상 또는 기상 SAM(Self Assembled Monolayer) 코팅을 통하여, 상기 SiO
    2 표면에 이형용 막을 형성하는 단계; (e)LED 표면에 용융상태의 레진을 도포하는 단계; (f)상기 레진 상에 상기 고분자 몰드를 위치시키고, 압력을 가해 상기 고분자 몰드의 나노패턴 내부에 상기 레진이 충진되도록 한 상태에서 레진을 경화시켜, 상기 LED 표면에 나노패턴을 형성하는 단계; 및 (g)상기 고분자 몰드를 분리하는 단계를 포함하여 이루어진다.

    평면표시장치용 백라이트 유닛의 나노패턴 형성 방법
    6.
    发明公开
    평면표시장치용 백라이트 유닛의 나노패턴 형성 방법 失效
    用于平板显示的背光单元的纳米图案的制作方法

    公开(公告)号:KR1020100088460A

    公开(公告)日:2010-08-09

    申请号:KR1020090007701

    申请日:2009-01-30

    Inventor: 이헌 홍성훈

    CPC classification number: G02F1/133504 G02B6/0025 G02B6/0065 G03F7/0002

    Abstract: PURPOSE: A nano pattern formation method capable of improving light diffusing efficiency of a backlight unit for a flat screen display device is provided to form precise nano pattern on a surface of an optical plate by low cost process such as hot embossing process and ultraviolet ray imprinting process, thereby improving productivity. CONSTITUTION: A master stamp is located on polymer sheet(S210). A nano pattern of the master stamp is projected on the polymer sheet by Hot-embossing(S220). A SiO2 is evaporated on a surface of polymer mold(S230). A mold release film is formed on a SiO2 surface(S240). Resin of a melting state is spread on a LED(Light Emitting Diode) surface(S250). The polymer mold is located on the resin. The nano pattern is formed on a LED surface by hardening of the resin by pressure(S260).

    Abstract translation: 目的:提供能够提高平板显示装置的背光单元的光漫射效率的纳米图案形成方法,以通过低压成型工艺(例如热压花加工和紫外线印记)在光学板的表面上形成精确的纳米图案 过程,从而提高生产率。 构成:主印章位于聚合物薄片上(S210)。 通过热压花将主印模的纳米图案投影在聚合物片材上(S220)。 在聚合物模具的表面上蒸发SiO 2(S230)。 在SiO 2表面上形成脱模膜(S240)。 熔化状态的树脂扩散在LED(发光二极管)表面上(S250)。 聚合物模具位于树脂上。 纳米图案通过压力使树脂硬化形成在LED表面上(S260)。

    고분자 스탬프 제조 방법 및 이를 이용한 발광다이오드의 광결정 패턴 형성 방법
    7.
    发明公开
    고분자 스탬프 제조 방법 및 이를 이용한 발광다이오드의 광결정 패턴 형성 방법 有权
    使用聚合物印花的制造聚合物印花和制造方法的光电晶体图案的方法

    公开(公告)号:KR1020100067339A

    公开(公告)日:2010-06-21

    申请号:KR1020080125861

    申请日:2008-12-11

    CPC classification number: G03F7/0002 B82Y40/00 H01L33/04

    Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a polymer stamp and a method for forming the optical crystal pattern of a light emitting diode(LED) using the same are provided to form an uniform optical crystal pattern on the entire of a LED board using a nano-imprint process with the polymer stamp. CONSTITUTION: A master stamp is located on the upper side of a polymer sheet(S210). The master stamp and the polymer sheet are heated with a temperature which is higher than the glass transferring temperature of the polymers sheet(S222). A nano pattern formed on the surface of the master stamp is transferred on the surface of the polymer sheet(S224). The master stamp and the polymer sheet are separated(S226). A SiO_2 is evaporated on the surface of the polymer sheet(S230). A film for releasing is formed on the surface of the SiO_2 by coating self-assembled monolayer coating(S240).

    Abstract translation: 目的:提供一种用于制造聚合物印模的方法和用于形成使用其的发光二极管(LED)的光学晶体图案的方法,以在使用纳米印迹的整个LED板上形成均匀的光学晶体图案 工艺与聚合物印章。 构成:主印模位于聚合物薄片的上侧(S210)。 主印模和聚合物片材以高于聚合物片材的玻璃转印温度的温度加热(S222)。 形成在主印模表面上的纳米图案被转印到聚合物片材的表面上(S224)。 主印模和聚合物片材分离(S226)。 SiO 2在聚合物片材的表面上蒸发(S230)。 通过涂布自组装单层涂层,在SiO_2的表面上形成用于释放的膜(S240)。

    태양전지의 반사방지막 제조 방법
    8.
    发明公开
    태양전지의 반사방지막 제조 방법 有权
    使用纳米尺寸图案的太阳能电池抗反射层制造方法

    公开(公告)号:KR1020100044673A

    公开(公告)日:2010-04-30

    申请号:KR1020080103898

    申请日:2008-10-22

    CPC classification number: Y02E10/50 Y02P70/521 H01L31/04 B82Y40/00 H01L31/18

    Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing the anti-reflection layer of a solar cell is provided to minimize the light reflection on the surface of the solar cell by forming nano patterns on the surface of the solar cell with an imprint or an embossing methods. CONSTITUTION: A template with a nano pattern is stamped on a thermoplastic polymer film in order to form the oppose pattern of the nano pattern on the thermoplastic polymer film(S110). The template is removed. An adhesion preventive layer is formed on the surface of the thermoplastic polymer film(S120). A melted resin is dropped on the surface of a surface(S130). The refraction index of the melted resin is 80 to 120% of the refraction index of a substrate material. The thermoplastic polymer film is pressed on the substrate. The resin is hardened to form the nano pattern on the substrate(S140).

    Abstract translation: 目的:提供一种用于制造太阳能电池的抗反射层的方法,通过在印刷或压印方法上在太阳能电池的表面上形成纳米图案来最小化太阳能电池表面的光反射。 构成:将具有纳米图案的模板冲压在热塑性聚合物膜上,以在热塑性聚合物膜上形成纳米图案的对立图案(S110)。 模板被删除。 在热塑性聚合物膜的表面上形成防粘附层(S120)。 将熔融的树脂滴落在表面的表面上(S130)。 熔融树脂的折射率为基板材料的折射率的80〜120%。 将热塑性聚合物膜压在基材上。 树脂被硬化以在基底上形成纳米图案(S140)。

    선격자 편광판 제조방법
    9.
    发明公开
    선격자 편광판 제조방법 无效
    网格偏振器的制作方法

    公开(公告)号:KR1020080082116A

    公开(公告)日:2008-09-11

    申请号:KR1020070022508

    申请日:2007-03-07

    Inventor: 이헌 홍성훈

    Abstract: A method for manufacturing wire grid polarizers is provided to enhance capability of wire grid polarizers by easily manufacturing large wire grid patterns with a great aspect ratio using NIL(Nano Imprint Lithography) and electroplating. A conductive layer(20) is formed on a substrate(10). A resin layer is formed on the conductive layer. A second pattern(32) is formed on the resin layer using a stamp having a first pattern. A metal layer(50) is formed on the conductive layer. Then the second pattern is removed. The substrate is a transparent substrate having glass and polymer. The conductive layer includes ITO(Indium Tin Oxide), Cr, and Au. The resin layer includes thermoplastic resins and ultraviolet curing resins.

    Abstract translation: 提供一种用于制造线栅偏振器的方法,通过使用NIL(Nano Imprint Lithography)和电镀方法容易地制造具有很大纵横比的大型线栅图案来增强线栅偏振器的能力。 在基板(10)上形成导电层(20)。 在导电层上形成树脂层。 使用具有第一图案的印模在树脂层上形成第二图案(32)。 在导电层上形成金属层(50)。 然后删除第二个模式。 衬底是具有玻璃和聚合物的透明衬底。 导电层包括ITO(氧化铟锡),Cr和Au。 树脂层包括热塑性树脂和紫外线固化树脂。

    고속 롤-투-롤 핫 엠보싱 장치 및 이를 이용한 공정
    10.
    发明授权
    고속 롤-투-롤 핫 엠보싱 장치 및 이를 이용한 공정 有权
    高速卷对卷热压花设备及使用其的工艺

    公开(公告)号:KR101298410B1

    公开(公告)日:2013-08-20

    申请号:KR1020110036331

    申请日:2011-04-19

    Abstract: 본 발명은 고속 롤-투-롤 핫 엠보싱 장치, 이를 이용한 핫 엠보싱 공정, 및 상기 핫 엠보싱 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴 형성방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 핫 엠보싱 기술에서 냉각 공정 및 기능성 박막 코팅 공정을 단축시킬 수 있는 고속 롤-투-롤 핫 엠보싱 장치, 이를 이용한 핫 엠보싱 공정, 및 상기 핫 엠보싱 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴 형성방법에 관한 것이다.

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