Abstract:
나노스피어 형틀 형태의 나노임프린트용 템플릿 제조방법, 나노임프린트 기술을 이용한 단일층 나노스피어 고분자 패턴 형성 방법 및 상기 단일층 나노스피어 고분자 패턴을 이용한 응용방법이 제공되며, 본 발명에 따른 나노스피어 형틀 형태의 나노임프린트용 템플릿은 기판상에 나노스피어를 적층하는 단계; 상기 나노스피어의 외곽층을 템플릿용 고분자 층에 전사하는 단계; 상기 템플릿용 고분자층으로부터 상기 나노스피어를 제거하여 나노스피어 형상의 템플릿을 완성하는 단계를 포함하며, 넓은 면적에서 균일한 모폴로지를 갖는 단일층 나노스피어 고분자 패턴 구조를 기판상에 형성시킬 수 있다.
Abstract:
A method for preparing a micro-nano metal structure is provided to reproduce the complex or fine surface pattern structure on the semi-permanent metal structure precisely and cheaply. A method for preparing a micro-nano metal structure comprises the steps of preparing a master(102) where a nano-sized or micro-sized micropattern structure on surface and a PVC film(101) where the pattern of the master is transferred; pressurizing the PVC film with the master at the temperature above the glass transition temperature of the PVC film so as to transfer the pattern of the master to the PVC film; separating or removing the master from the PVC film at the temperature below the glass transition temperature of the PVC film; forming a metal seed layer for the electroplating of a thin film on the surface of the PVC film according to the pattern; carrying out the electroplating on the metal seed layer to form an electroplated material layer for charging the pattern of the PVC film; and separating or removing the PVC film from the electroplated material layer.
Abstract:
LED를 광원으로 이용하는 평면표시장치용 백라이트 유닛의 광확산 효율을 향상시킬 수 있는 나노패턴 형성방법에 관하여 개시한다. 본 발명의 일실시예에 따른 백라이트 유닛의 나노패턴 형성방법의 일실시예는 (a)표면에 나노패턴이 형성된 마스터 스탬프를 고분자 시트(Polymer Sheet) 상에 위치시키는 단계; (b)핫 엠보싱(Hot-embossing) 방법으로 상기 마스터 스탬프의 나노패턴을 상기 고분자 시트에 전사하여, 나노패턴을 갖는 고분자 몰드를 제작하는 단계; (c)상기 제작된 고분자 몰드 표면에 SiO 2 를 증착하는 단계; (d)액상 또는 기상 SAM(Self Assembled Monolayer) 코팅을 통하여, 상기 SiO 2 표면에 이형용 막을 형성하는 단계; (e)LED 표면에 용융상태의 레진을 도포하는 단계; (f)상기 레진 상에 상기 고분자 몰드를 위치시키고, 압력을 가해 상기 고분자 몰드의 나노패턴 내부에 상기 레진이 충진되도록 한 상태에서 레진을 경화시켜, 상기 LED 표면에 나노패턴을 형성하는 단계; 및 (g)상기 고분자 몰드를 분리하는 단계를 포함하여 이루어진다.
Abstract:
PURPOSE: A nano pattern formation method capable of improving light diffusing efficiency of a backlight unit for a flat screen display device is provided to form precise nano pattern on a surface of an optical plate by low cost process such as hot embossing process and ultraviolet ray imprinting process, thereby improving productivity. CONSTITUTION: A master stamp is located on polymer sheet(S210). A nano pattern of the master stamp is projected on the polymer sheet by Hot-embossing(S220). A SiO2 is evaporated on a surface of polymer mold(S230). A mold release film is formed on a SiO2 surface(S240). Resin of a melting state is spread on a LED(Light Emitting Diode) surface(S250). The polymer mold is located on the resin. The nano pattern is formed on a LED surface by hardening of the resin by pressure(S260).
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a polymer stamp and a method for forming the optical crystal pattern of a light emitting diode(LED) using the same are provided to form an uniform optical crystal pattern on the entire of a LED board using a nano-imprint process with the polymer stamp. CONSTITUTION: A master stamp is located on the upper side of a polymer sheet(S210). The master stamp and the polymer sheet are heated with a temperature which is higher than the glass transferring temperature of the polymers sheet(S222). A nano pattern formed on the surface of the master stamp is transferred on the surface of the polymer sheet(S224). The master stamp and the polymer sheet are separated(S226). A SiO_2 is evaporated on the surface of the polymer sheet(S230). A film for releasing is formed on the surface of the SiO_2 by coating self-assembled monolayer coating(S240).
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing the anti-reflection layer of a solar cell is provided to minimize the light reflection on the surface of the solar cell by forming nano patterns on the surface of the solar cell with an imprint or an embossing methods. CONSTITUTION: A template with a nano pattern is stamped on a thermoplastic polymer film in order to form the oppose pattern of the nano pattern on the thermoplastic polymer film(S110). The template is removed. An adhesion preventive layer is formed on the surface of the thermoplastic polymer film(S120). A melted resin is dropped on the surface of a surface(S130). The refraction index of the melted resin is 80 to 120% of the refraction index of a substrate material. The thermoplastic polymer film is pressed on the substrate. The resin is hardened to form the nano pattern on the substrate(S140).
Abstract:
A method for manufacturing wire grid polarizers is provided to enhance capability of wire grid polarizers by easily manufacturing large wire grid patterns with a great aspect ratio using NIL(Nano Imprint Lithography) and electroplating. A conductive layer(20) is formed on a substrate(10). A resin layer is formed on the conductive layer. A second pattern(32) is formed on the resin layer using a stamp having a first pattern. A metal layer(50) is formed on the conductive layer. Then the second pattern is removed. The substrate is a transparent substrate having glass and polymer. The conductive layer includes ITO(Indium Tin Oxide), Cr, and Au. The resin layer includes thermoplastic resins and ultraviolet curing resins.
Abstract:
본 발명은 고속 롤-투-롤 핫 엠보싱 장치, 이를 이용한 핫 엠보싱 공정, 및 상기 핫 엠보싱 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴 형성방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 핫 엠보싱 기술에서 냉각 공정 및 기능성 박막 코팅 공정을 단축시킬 수 있는 고속 롤-투-롤 핫 엠보싱 장치, 이를 이용한 핫 엠보싱 공정, 및 상기 핫 엠보싱 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴 형성방법에 관한 것이다.