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公开(公告)号：KR101917438B1
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：KR1020160169956
申请日：2016-12-13
Applicant: 고려대학교 산학협력단 , 한국전자통신연구원
IPC: H01L27/32 , H01L51/52 , H01L51/00 , H01L21/3065 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01J37/32
Abstract: 본발명의일 실시예에따른칼라필터제조방법은기판(110) 상에광추출층(120), 상기광추출층(120) 상에포토레지스트막(130)를차례로형성하고상기포토레지스트막(130)을패터닝하여주기적인포토레지스트패턴(131)을포함하는제1 포토레지스트층(130a)을형성하는단계; 플라즈마식각공정을사용하여상기제1 포토레지스트층(130a)의표면모폴로지를변화시키어랜덤요철구조(132)를제2 포토레지스트층(130b)에형성하고상기주기적인포토레지스트패턴(131)을식각마스크로플라즈마식각공정에의하여주기적인광추출패턴(121)을구비한제1 광추출층(120a)을제공하는단계; 상기제2 포토레지스트층(130b)의상기랜덤요철구조(132)를마스크로사용하여상기제1 광추출층(120a)을과식각(over-etch)하여랜덤패턴(122)을형성한제2 광추출층(120b)을제공하는단계; 및상기제2 포토레지스트층(130b)을제거하고제2 광추출층(120b) 상에평탄층(140)을형성하는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020180068239A
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：KR1020160169956
申请日：2016-12-13
Applicant: 고려대학교 산학협력단 , 한국전자통신연구원
IPC: H01L27/32 , H01L51/52 , H01L51/00 , H01L21/3065 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01J37/32
CPC classification number: H01L27/322 , G03F7/0007 , H01J37/321 , H01L21/0273 , H01L21/3065 , H01L51/0018 , H01L51/5262 , H01L51/5275 , H01L2251/301
Abstract: 본발명의일 실시예에따른칼라필터제조방법은기판(110) 상에광추출층(120), 상기광추출층(120) 상에포토레지스트막(130)를차례로형성하고상기포토레지스트막(130)을패터닝하여주기적인포토레지스트패턴(131)을포함하는제1 포토레지스트층(130a)을형성하는단계; 플라즈마식각공정을사용하여상기제1 포토레지스트층(130a)의표면모폴로지를변화시키어랜덤요철구조(132)를제2 포토레지스트층(130b)에형성하고상기주기적인포토레지스트패턴(131)을식각마스크로플라즈마식각공정에의하여주기적인광추출패턴(121)을구비한제1 광추출층(120a)을제공하는단계; 상기제2 포토레지스트층(130b)의상기랜덤요철구조(132)를마스크로사용하여상기제1 광추출층(120a)을과식각(over-etch)하여랜덤패턴(122)을형성한제2 광추출층(120b)을제공하는단계; 및상기제2 포토레지스트층(130b)을제거하고제2 광추출층(120b) 상에평탄층(140)을형성하는단계를포함한다.
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