디메틸 테레프탈레이트 제조 공정으로부터 발생하는 부산물로부터 고순도의 메틸-4-포밀벤조에이트의 정제방법
    1.
    发明公开
    디메틸 테레프탈레이트 제조 공정으로부터 발생하는 부산물로부터 고순도의 메틸-4-포밀벤조에이트의 정제방법 有权
    通过二甲基三癸酸酯制备方法从高纯度甲基-4-甲基苯甲酸酯中纯化的方法

    公开(公告)号:KR1020120082236A

    公开(公告)日:2012-07-23

    申请号:KR1020110003616

    申请日:2011-01-13

    CPC classification number: C07C67/31 C07C67/62 C07C69/76

    Abstract: PURPOSE: A method for purifying methyl-4-formylbenzoate is provided to separately manufacture methyl-4-formylbenzoate with high yield and high purity from crude methyl-4-formylbenzoate, and to able to transform to methyl-4-formylbenzoate of high purity by only simple and cheap acid treatment. CONSTITUTION: A method for purifying methyl-4-formylbenzoate comprises: a step of adding alcohol to reaction side products containing methyl formylbenzoate, manufactured from a production process of dimethyl terephthalate, and filtering the outcome; a step of transforming methyl formylbenzoate to methyl-4-formylbenzoate in a filtrate through an oximation by adding hydroxylamine or inorganic acid salt, and alkali components to the filtrate, and filtering the outcome; a step of dissolving the methyl-4-formylbezoate mixture into an organic solvent; and a step of adding acid to the mixture.

    Abstract translation: 目的:提供甲基-4-甲酰基苯甲酸甲酯的纯化方法,从粗甲基-4-甲酰基苯甲酸甲酯分别制备高产率,高纯度的甲基-4-甲酰基苯甲酸甲酯,并能够通过以下方法转化成高纯度的甲基-4-甲酰基苯甲酸酯: 只有简单便宜的酸处理。 构成:甲基-4-甲酰基苯甲酸甲酯的纯化方法包括:由对苯二甲酸二甲酯生产工艺制造的含有甲酰基苯甲酸甲酯的反应副产物加醇,并过滤结果的步骤; 通过向滤液中加入羟胺或无机酸盐和碱成分,将滤液中甲酰基苯甲酸甲酯转化成甲基-4-甲酰基苯甲酸甲酯的步骤,过滤结果; 将甲基-4-甲酰基锆酸盐混合物溶解在有机溶剂中的步骤; 以及向混合物中加入酸的步骤。

    디메틸 테레프탈레이트 제조 공정으로부터 발생하는 부산물로부터 고순도의 메틸-4-포밀벤조에이트의 정제방법
    3.
    发明申请
    디메틸 테레프탈레이트 제조 공정으로부터 발생하는 부산물로부터 고순도의 메틸-4-포밀벤조에이트의 정제방법 审中-公开
    在制备二甲基三苯甲酸酯时生产的副产物中高纯度甲基-4-甲基苯甲酸酯的方法

    公开(公告)号:WO2012096425A1

    公开(公告)日:2012-07-19

    申请号:PCT/KR2011/001984

    申请日:2011-03-23

    CPC classification number: C07C67/31 C07C67/62 C07C69/76

    Abstract: 본 발명은 DMT 제조 공정에서 발생하는 부산물로부터 더욱 고순도의 MFB를 정제하는 방법으로, (a) DMT의 제조과정에서 생성되며, 메틸포밀벤조에이트를 함유하는 반응 부산물에 알코올을 첨가하고 이를 여과하는 단계; (b) 상기 여과 후 여액에 (i) 히드록시아민 또는 히드록시아민의 무기산염 및 (ii) 알칼리 성분을 첨가하여 옥심화 반응을 통하여 여액 내의 메틸포밀벤조에이트를 메틸 4-히드록시이미노벤조에이트로 전환시키고 이를 여과하는 단계; (c) 상기 생성된 메틸 4-히드록시이미노벤조에이트 혼합물을 톨루엔 또는 메틸렌클로라이드에 용해시키는 단계; 및 (d) 상기 혼합물에 산을 첨가하는 단계를 포함하는 더욱 고순도로 메틸포밀벤조에이트를 정제하는 방법을 제공한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种纯化较高纯度甲酰基苯甲酸甲酯的方法,包括以下步骤:(a)向DMT制备过程中产生的含有甲酰基苯甲酸甲酯的副产物中加入醇,并过滤该混合物; (b)将羟胺或羟胺的无机盐和(ⅱ)碱成分加入到通过过滤获得的滤液中,通过肟化将滤液中的甲酰基苯甲酸甲酯转化为甲酰基苯甲酸甲酯,然后过滤所得混合物; (c)将制备的4-甲酰基苯甲酸甲酯的混合物溶解在甲苯或二氯甲烷中; 和(d)向混合物中加入酸。

    폴리페닐렌옥사이드/에폭시 복합재 조성물
    4.
    发明公开
    폴리페닐렌옥사이드/에폭시 복합재 조성물 失效
    聚氧乙烯/环氧复合组合物

    公开(公告)号:KR1020050060596A

    公开(公告)日:2005-06-22

    申请号:KR1020030092259

    申请日:2003-12-17

    Abstract: 본 발명은 저유전성 폴리페닐렌옥사이드/에폭시 복합재 조성물 및 이로부터 제조된 복합재에 관한 것으로, 본 발명에 따라 폴리페닐렌옥사이드(poly(phenylene oxide, PPO)를 에폭시 수지와 용융혼합한 폴리페닐렌옥사이드/에폭시 복합재 조성물은 경화시 우수한 열안정성 및 기계적 특성을 가질 뿐만 아니라 저유전상수 값을 가지므로 반도체 팩키지(package), 모바일(mobile) 기기 및 LCD 등에 사용되는 인쇄회로기판(PCB, Printed Circuit Board) 재료로서 유리하게 사용될 수 있다.

    폴리페닐렌옥사이드/에폭시 복합재 조성물
    5.
    发明授权
    폴리페닐렌옥사이드/에폭시 복합재 조성물 失效
    聚氧乙烯/环氧复合组合物

    公开(公告)号:KR100688914B1

    公开(公告)日:2007-03-02

    申请号:KR1020030092259

    申请日:2003-12-17

    Abstract: 본 발명은 저유전성 폴리페닐렌옥사이드/에폭시 복합재 조성물 및 이로부터 제조된 복합재에 관한 것으로, 본 발명에 따라 폴리페닐렌옥사이드(poly(phenylene oxide, PPO)를 에폭시 수지와 용융혼합한 폴리페닐렌옥사이드/에폭시 복합재 조성물은 경화시 우수한 열안정성 및 기계적 특성을 가질 뿐만 아니라 저유전상수 값을 가지므로 반도체 팩키지(package), 모바일(mobile) 기기 및 LCD 등에 사용되는 인쇄회로기판(PCB, Printed Circuit Board) 재료로서 유리하게 사용될 수 있다.

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