Abstract:
본 발명은 탈부착 가능하도록 가스셀 이송장치에 장착된 가스셀의 이송위치를 감지하고, 상기 가스셀이 기 설정된 위치에 도달하면 신호를 생성하며, 이에 따라 레이저의 발사 및 레이저의 분포를 측정하도록 형성된 열적번짐 측정장치를 제공한다. 또한, 상기 이송 가능한 가스셀은 레이저 발사부 및 빔분포 측정부와 이격 되도록 배치된다. 상기 레이저의 발사와 레이저 분포의 측정이 동시에 이루어져 실시간으로 측정이 가능하고, 측정의 정확성을 향상시킬 수 있다. 또한, 측정에 영향을 미칠 수 있는 진동을 감소시킬 수 있다.
Abstract:
본 발명의 레이저 가공표면 결함 검출 장치가 재료(T)에 레이저 가공목적과 동시에 산란광 발생에 이용되는 레이저를 입사시켜주는 레이저발생기(20)와, 재료(T)에서 레이저 가공중 발생한 결함에 의해 산란되는 레이저의 산란각도에 맞춰 산란레이저를 수광하는 레이저 검출기(30)와, 산란레이저의 데이터로부터 산란 레이저의 파워가 증가하기 시작하는 시점과 산란 레이저의 파워가 급격히 증가하기 시작하는 시점을 파악해 재료(T)의 레이저 가공표면 결함을 검출하는 처리기(40)가 포함됨으로써, 별도의 광원을 사용하지 않고서도 레이저 입사 시점과 레이저 가공에 의한 재료(T)의 표면 손상 여부 및 손상 시점을 실시간으로 측정하는 특징을 갖는다.
Abstract:
본 발명은 단원자 불소 및 중수소원자가 결합된 불화 중수소를 레이저 이득매질로 사용하는 불화 중수소 화학 레이저용 공진기장치에 관한 것이다. 불화 중수소 화학 레이저용 공진기장치는 단원자 불소 및 중수소가 초음속 분사되어 불화중수소 활성매질이 생성되고, 공진기에 의해 생성된 불화 중수소 활성매질이 레이저로 발진되는 레이저 발생부, 레이저 발생부에 구비되어 캐비티에서 발생되는 레이저를 반대방향으로 반사하는 전반사경 조립체, 레이저 발생부에 구비되어 전반사경에서 반사된 레이저의 진행방향으로 레이저를 출력하는 투사경 조립체; 및 레이저 발생부의 외측에서 캐비티보다 높은 압력을 유지하는 쉴드기체 분사부를 포함한다. 이와 같은 본 발명은 안정형과 불안정형 광학계를 공용으로 사용할 수 있고, 전반사경 조립체 및 투사경 조립체에 대한 레이저 기체나 이물질의 유입을 차단하고, 밀봉이 가능하며, 전반사경 및 투사경을 용이하게 정렬할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. 레이저, 캐비티, 전반사경, 투사경, 쉴드기체
Abstract:
PURPOSE: A resonator device for a deuterium fluoride chemical laser is provided to improve laser efficiency by preventing laser gas at the bottom state and a foreign material from flowing into a resonator mirror chamber. CONSTITUTION: A laser generator(100) comprises a cavity(105) and a resonator. Deuterium fluoride active medium is generated by enabling atomic Fluorine and Deuterium to be sprayed at a hypersonic speed in the cavity. The deuterium fluoride active medium erupts in the cavity. The resonator generates laser by using the deuterium fluoride active medium of the cavity as the laser gain medium. A total reflection mirror assembly(110) reflects the laser to the different side of the laser generator. A projection lens assembly(115) outputs laser in the progressive direction of the laser reflected from the total reflection mirror. A shield gas spray part(120) secludes the outflow of the deuterium fluoride active medium to the total reflection mirror assembly or the projection lens assembly.