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公开(公告)号：KR100236232B1
公开(公告)日：1999-12-15
申请号：KR1019970077541
申请日：1997-12-30
Applicant: 기초과학지원연구소
Abstract: 본 발명은 플라즈마 밀도의 공간적인 분포를 알아낼 수 있도록 하는 회전형 광프로브에 관한 것이다.
이러한 본 발명의 회전형 광프로브는 플라즈마 측정위치에서 평행한 광신호를 수집하여 수평방향으로 전달하는 광프로브 헤드와, 광프로브 헤드에서 전달된 수평방향으로 평행한 광신호를 집속하는 광프로브바디와, 광프로브 바디에서 집속된 광신호를 분광기로 전달하는 광프로브 소켓과, 상기 회전형 광프로브를 회전시키고 수평방향으로 이동시키는 구동모터를 구비시킴으로써 이루어진다.-
公开(公告)号：KR1019990057488A
公开(公告)日：1999-07-15
申请号：KR1019970077541
申请日：1997-12-30
Applicant: 기초과학지원연구소
Abstract: 본 발명은 플라즈마 밀도의 공간적인 분포를 알아낼 수 있도록 하는 회전형 광프로브에 관한 것이다.
이러한 본 발명의 회전형 광프로브는 플라즈마 측정위치에서 평행한 광신호를 수집하여 수평방향으로 전달하는 광프로브 헤드와, 광프로브 헤드에서 전달된 수평방향으로 평행한 광신호를 집속하는 광프로브바디와, 광프로브 바디에서 집속된 광신호를 분광기로 전달하는 광프로브 소켓과, 상기 회전형 광프로브를 회전시키고 수평방향으로 이동시키는 구동모터를 구비시킴으로써 이루어진다.-
公开(公告)号：KR100212441B1
公开(公告)日：1999-08-02
申请号：KR1019960022465
申请日：1996-06-20
Applicant: 기초과학지원연구소
IPC: H01L21/3065
Abstract: 본 발명은 플라즈마의 언저리 바이어싱을 이용하여 양이온과 전자등 하전입자의 입자 속을 제어하는 것으로서, 플라즈마 진공용기의 언저리에 설치한 전극에 전압을 인가하여 전극이 설치되지 않은 방향으로 이온과 전자등 하전입자의 흐름을 제어하는 플라즈마의 언저리 바이어싱(edge biasing)에 의한 하전입자속(charged particle flux) 제어법이다.
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