Abstract:
본 발명의 기판을 처리하는 기판 처리 시스템의 복수의 가열 장치는, 처리 레시피에 설정된 기판의 처리 순서로 가열 장치를 승온하는 룰, 상하 방향으로 적층하여 배치된 가열 장치의 아래에서부터 위의 순으로 승온하는 룰, 승온 시작에서 승온 완료까지의 제정 시간이 짧은 가열 장치에서부터, 제정 시간이 긴 가열 장치의 순으로 승온하는 룰 중의 적어도 어느 하나 또는 2개 이상을 조합시킨 룰에 따라서 승온된다. 가열 장치의 승온은, 하나의 가열 장치가 승온됨에 따라 그 하나의 가열 장치로부터 방산되는 열을, 다른 가열 장치에 전달시키면서 이루어진다.
Abstract:
본 발명의 기판을 처리하는 기판 처리 시스템의 복수의 가열 장치는, 처리 레시피에 설정된 기판의 처리 순서로 가열 장치를 승온하는 룰, 상하 방향으로 적층하여 배치된 가열 장치의 아래에서부터 위의 순으로 승온하는 룰, 승온 시작에서 승온 완료까지의 제정 시간이 짧은 가열 장치에서부터, 제정 시간이 긴 가열 장치의 순으로 승온하는 룰 중의 적어도 어느 하나 또는 2개 이상을 조합시킨 룰에 따라서 승온된다. 가열 장치의 승온은, 하나의 가열 장치가 승온됨에 따라 그 하나의 가열 장치로부터 방산되는 열을, 다른 가열 장치에 전달시키면서 이루어진다.