公开(公告)号：KR101787814B1

公开(公告)日：2017-10-18

申请号：KR1020140139283

申请日：2014-10-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시히로유키 ,  권태춘

IPC: H01L21/311 ,  H01L21/67 ,  H01L21/306 ,  F04D19/04 ,  H01L21/60

CPC classification number: H01L21/31116 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67253

Abstract: 기판을수용하는처리챔버와, 처리챔버에처리가스를공급하는처리가스공급유닛과, 처리챔버내를배기하는터보분자펌프를갖는가스배기유닛을포함하는기판처리장치를이용하여, 처리챔버내에처리가스를공급하고, 처리챔버내의기판상에서처리가스를반응시켜서기판을처리하는기판처리방법에제공된다. 상기방법은, 처리가스의반응에의해처리가스보다분자량이큰 부생성물이생성되는경우에, 처리챔버내의압력을사전결정된값으로유지하면서, 터보분자펌프의회전속도를조절함으로써, 처리의균일성을조절한다.

Abstract translation: 在处理腔室使用的基板处理装置，其包括具有涡轮分子泵和处理室容纳基板的排气装置，以及将处理气体供应到所述处理室中的处理气体供给单元和排出处理腔室的内部，该过程 本发明提供一种基板处理方法，用于通过供给气体来处理基板，并使处理气体在处理室内的基板上反应。 的方法，如在的情况下更工艺气体是更大的副产物的分子量通过工艺气体的反应而产生，维持在处理室中，以一个预定值的压力，通过控制涡轮分子泵的旋转速度，处理性的均匀性 进行调整。

公开(公告)号：KR1020150044816A

公开(公告)日：2015-04-27

申请号：KR1020140139283

申请日：2014-10-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시히로유키 ,  권태춘

IPC: H01L21/311 ,  H01L21/67 ,  H01L21/306 ,  F04D19/04 ,  H01L21/60

CPC classification number: H01L21/31116 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/0273 ,  F04D19/042 ,  H01L21/02 ,  H01L21/02315 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/205 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/30621 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/76825 ,  H01L21/76826 ,  H01L2021/60187 ,  H05H1/46

Abstract: 기판을수용하는처리챔버와, 처리챔버에처리가스를공급하는처리가스공급유닛과, 처리챔버내를배기하는터보분자펌프를갖는가스배기유닛을포함하는기판처리장치를이용하여, 처리챔버내에처리가스를공급하고, 처리챔버내의기판상에서처리가스를반응시켜서기판을처리하는기판처리방법에제공된다. 상기방법은, 처리가스의반응에의해처리가스보다분자량이큰 부생성물이생성되는경우에, 처리챔버내의압력을사전결정된값으로유지하면서, 터보분자펌프의회전속도를조절함으로써, 처리의균일성을조절한다.

Abstract translation: 提供一种基板处理方法，其通过使用包括存储基板的处理室的基板处理装置，在处理室内供给处理气体来处理基板; 处理气体供给单元，其向所述处理室供给处理气体; 以及涡轮分子泵，其在所述处理室内部排气，并使处理气体在所述处理室中的所述基板上反应。 在根据处理气体的反应产生具有比处理气体高的分子量的副产物的情况下，该方法将处理室内的压力保持为预定值，并且控制涡轮分子泵的转速以控制均匀性 的过程。