公开(公告)号：KR1020090013071A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：KR1020080073889

申请日：2008-07-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  다께구찌히로후미 ,  나가미네슈우이찌

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: A developing device, a developing method, and a storage medium are provided to suppress instability of the developer supply to a substrate by using a classified developer nozzle. A resist is coated on a substrate. After exposing a substrate holding support unit, the substrate holding support unit holds and supports the substrate horizontally and rotates the substrate around a plumb axis. A plurality of development process parts(21a,21b,21c) are arranged to a traverse direction. A first developer nozzle is installed in a plurality of development process parts commonly. The first developer nozzle supplies the developer to the surface of the substrate supported and held in the substrate holding support unit with a band shape. A driving unit(24) transfers the first developer nozzle to each development processing parts. The driving unit moves the first developer nozzle from the center and the peripheral part on the surface of the substrate to the other side for forming a liquid layer of the developer on the surface of the substrate. A second developer nozzle prevents the dryness of the liquid layer of the developer by supplying the developer to the center of the substrate with the liquid layer of the developer by the first developer nozzle with a short band shape.

Abstract translation: 提供显影装置，显影方法和存储介质，以通过使用分级的显影剂喷嘴来抑制显影剂供应到基板的不稳定性。 抗蚀剂涂覆在基材上。 在曝光衬底保持支撑单元之后，衬底保持支撑单元水平地保持和支撑衬底，并使衬底围绕铅垂轴旋转。 多个显影处理部件（21a，21b，21c）沿横向设置。 第一显影剂喷嘴通常安装在多个显影处理部件中。 第一显影剂喷嘴将显影剂供给到具有带状的被支撑并保持在基板保持支撑单元中的基板的表面。 驱动单元（24）将第一显影剂喷嘴传送到每个显影处理部件。 驱动单元将第一显影剂喷嘴从基板表面的中心和周边部分移动到另一侧，以在基板的表面上形成显影剂的液体层。 第二显影剂喷嘴通过具有短带形状的第一显影剂喷嘴将显影剂供应到显影剂的液体层的显影剂的液体层，从而防止显影剂的液体层的干燥。

公开(公告)号：KR101347017B1

公开(公告)日：2014-01-02

申请号：KR1020080073889

申请日：2008-07-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  다께구찌히로후미 ,  나가미네슈우이찌

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: 본 발명의 과제는 레지스트가 도포되고, 노광된 후의 기판을 현상함에 있어서 안정적으로 기판에 현상액을 공급하는 것이다.
기판 보유 지지부를 각각 구비한 복수의 현상 처리부와, 이들 복수의 현상 처리부에 공통적으로 설치되고, 상기 기판 보유 지지부에 보유 지지된 기판의 표면에 현상액을 띠 형상으로 공급하기 위한 제1 현상액 노즐과, 각 현상 처리부에서 제1 현상액 노즐로부터 토출된 현상액의 띠 형상 영역의 일단부측이 기판의 중앙을 향한 상태에서 기판의 표면 전체에 현상액의 액막을 형성하기 위해, 현상액의 공급 위치를 기판의 표면에 있어서의 중앙부 및 주연부의 한쪽으로부터 다른 쪽으로 이동하도록 제1 현상액 노즐을 이동시키는 구동 기구와, 제1 현상액 노즐에 의해 현상액의 액막이 형성된 기판의 중심부에, 원 형상 또는 상기 띠 형상 영역보다도 길이가 짧은 띠 형상으로 현상액을 공급하는 제2 현상액 노즐을 구비하는 현상 장치를 구성하고, 공정에 따라서 노즐을 구분하여 사용한다.
현상액 노즐, 구동 기구, 기판 보유 지지부, 유량 제어부, 스핀 척