公开(公告)号：KR101308320B1

公开(公告)日：2013-09-17

申请号：KR1020080073872

申请日：2008-07-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  다께구찌히로후미 ,  오오꼬우찌아쯔시 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/3021

Abstract: 본 발명은 레지스트가 도포되고, 노광된 후의 기판을 현상하는데 있어서 안정적으로 기판에 현상액을 공급하는 것이다.
기판을 보유 지지하는 기판 보유 지지부를 통해 상기 기판을 연직축 주위로 회전시키면서, 제1 현상액 노즐로부터 현상액을 띠 형상으로, 또한 그 띠 형상 영역의 일단측이 기판의 중앙을 향하도록 기판의 표면에 있어서의 중앙부 및 주연부의 한쪽에 공급하고, 현상액의 공급 위치를 이동시킴으로써, 기판의 표면에 현상액의 액막을 형성하는 공정과, 상기 현상액의 액막의 건조를 방지하기 위해, 제2 현상액 노즐로부터 상기 기판의 중심부에 원 형상 또는 제1 현상액 노즐로부터 공급되는 현상액보다도 길이가 짧은 띠 형상으로 현상액을 공급하는 동시에 상기 기판 보유 지지부를 통해 기판을 연직축 주위로 회전시켜, 그 현상액을 원심력에 의해 기판의 주연부로 신전(伸展)시키는 공정을 실시하고, 처리에 따라서 현상액 노즐을 구분하여 사용한다.
웨이퍼, 현상액, 현상 장치, 현상액 노즐, 구동 기구

公开(公告)号：KR101184820B1

公开(公告)日：2012-09-24

申请号：KR1020100103185

申请日：2010-10-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다께구찌히로후미 ,  이세끼도모히로 ,  요시다유우이찌 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021

Abstract: A pretreatment process, carried out prior to a developing process, spouts pure water, namely, a diffusion-assisting liquid for assisting the spread of a developer over the surface of a wafer, through a cleaning liquid spouting nozzle onto a central part of the wafer to form a puddle of pure water. The developer is spouted onto the central part of the wafer for prewetting while the wafer is rotated at a high rotating speed to spread the developer over the surface of the wafer. The developer dissolves the resist film partly and produces a solution. The rotation of the wafer is reversed, for example, within 7 s in which the solution is being produced to reduce the water-repellency of the wafer by spreading the solution over the entire surface of the wafer. Then, the developer is spouted onto the rotating wafer to spread the developer on the surface of the wafer.

公开(公告)号：KR101080445B1

公开(公告)日：2011-11-04

申请号：KR1020060118280

申请日：2006-11-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스께 ,  나까무라쥰지 ,  다께구찌히로후미 ,  야마모또다로오

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67253

Abstract: 노광패턴을현상처리한후의기판을린스처리하는린스처리방법은, 미리기판의표면상태에따라서린스처리의조건을설정하는공정(단계 1)과, 기판의표면상태를측정하는공정(단계 2)과, 측정된기판의표면상태로부터대응하는린스처리의조건을선택하는공정(단계 3)과, 선택된조건에서린스처리를행하는공정(단계 4)을갖는다.

公开(公告)号：KR1020110044707A

公开(公告)日：2011-04-29

申请号：KR1020100103185

申请日：2010-10-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다께구찌히로후미 ,  이세끼도모히로 ,  요시다유우이찌 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70341

Abstract: PURPOSE: A developing device, developing method, and storage medium are provided to uniformly develop the entire substrate, thereby reducing defects during developing. CONSTITUTION: A substrate supporting unit(11) horizontally supports a substrate(W). A rotation device(13) rotates the substrate supporting unit around a vertical axis. A diffusion assisting solution nozzle supplies a diffusion assisting solution to the substrate to assist the diffusion of a developing solution. A developing solution nozzle(30) supplies the developing solution to the substrate. The developing solution nozzle is connected to a developing solution supply source(31) or a developing solution supply system(32) through a developing solution supply pipe(30a).

Abstract translation: 目的：提供显影装置，显影方法和存储介质以均匀地显影整个基板，从而减少显影过程中的缺陷。 构成：基板支撑单元（11）水平地支撑基板（W）。 旋转装置（13）使基板支撑单元绕垂直轴旋转。 扩散辅助溶液喷嘴向扩散辅助溶液提供辅助溶液以帮助显影液的扩散。 显影溶液喷嘴（30）将显影液供应到基底。 显影液喷嘴通过显影液供给管（30a）与显影液供给源（31）或显影液供给系统（32）连接。

公开(公告)号：KR1020090131257A

公开(公告)日：2009-12-28

申请号：KR1020090053141

申请日：2009-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다께구찌히로후미 ,  야마모또다로오 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/3042 ,  G03F7/422 ,  H01L21/687

Abstract: PURPOSE: A developing process method and a developing process apparatus are provided to efficiently form a developer film by improving a wetting property of a resist film on a hydrophobic substrate. CONSTITUTION: A substrate holding unit(40) horizontally holds a substrate, and is a spin chuck. A rotary unit(42) rotates the substrate inside a horizontal plane. A first nozzle(52) supplies a developer to a surface of the substrate rotated by the rotary unit. A second nozzle(53) supplies a second liquid to a surface of the substrate. A control unit(60) controls the rotary unit, the first nozzle, and the second nozzle, and performs a pre-wetting process for diffusing the developer into a rotary direction of the substrate before a developing process.

Abstract translation: 目的：提供显影处理方法和显影处理装置，以通过改善疏水性基板上的抗蚀剂膜的润湿性来有效地形成显影剂膜。 构成：基板保持单元（40）水平地保持基板，并且是旋转卡盘。 旋转单元（42）使基板在水平面内旋转。 第一喷嘴（52）将显影剂供给到由旋转单元旋转的基板的表面。 第二喷嘴（53）将第二液体供应到基板的表面。 控制单元（60）控制旋转单元，第一喷嘴和第二喷嘴，并且在显影过程之前执行用于将显影剂扩散到基板的旋转方向的预润湿工艺。

公开(公告)号：KR101347017B1

公开(公告)日：2014-01-02

申请号：KR1020080073889

申请日：2008-07-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  다께구찌히로후미 ,  나가미네슈우이찌

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: 본 발명의 과제는 레지스트가 도포되고, 노광된 후의 기판을 현상함에 있어서 안정적으로 기판에 현상액을 공급하는 것이다.
기판 보유 지지부를 각각 구비한 복수의 현상 처리부와, 이들 복수의 현상 처리부에 공통적으로 설치되고, 상기 기판 보유 지지부에 보유 지지된 기판의 표면에 현상액을 띠 형상으로 공급하기 위한 제1 현상액 노즐과, 각 현상 처리부에서 제1 현상액 노즐로부터 토출된 현상액의 띠 형상 영역의 일단부측이 기판의 중앙을 향한 상태에서 기판의 표면 전체에 현상액의 액막을 형성하기 위해, 현상액의 공급 위치를 기판의 표면에 있어서의 중앙부 및 주연부의 한쪽으로부터 다른 쪽으로 이동하도록 제1 현상액 노즐을 이동시키는 구동 기구와, 제1 현상액 노즐에 의해 현상액의 액막이 형성된 기판의 중심부에, 원 형상 또는 상기 띠 형상 영역보다도 길이가 짧은 띠 형상으로 현상액을 공급하는 제2 현상액 노즐을 구비하는 현상 장치를 구성하고, 공정에 따라서 노즐을 구분하여 사용한다.
현상액 노즐, 구동 기구, 기판 보유 지지부, 유량 제어부, 스핀 척

公开(公告)号：KR1020100090650A

公开(公告)日：2010-08-16

申请号：KR1020100010666

申请日：2010-02-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사또오노리까쯔 ,  다께구찌히로후미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/3028 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67017

Abstract: PURPOSE: A developing apparatus, a developing method, and a storing media are provided to uniformly contact a developing solution and a substrate by suppressing the solution spattering phenomenon of the substrate. CONSTITUTION: A substrate supporting unit horizontally supports a substrate. A rotary unit rotates the substrate around a vertical axis. A first nozzle(21) supplies a developing solution to the substrate on the substrate supporting unit. A second nozzle(22) supplies a pre-wetting solution to the surface of the substrate. A nozzle supporting unit moves the first nozzle and the second nozzle over the substrate. A controller(10) outputs controlling signals with respect to each part of a developing apparatus.

Abstract translation: 目的：提供显影装置，显影方法和存储介质，以通过抑制基板的溶液溅射现象来均匀地接触显影液和基板。 构成：基板支撑单元水平地支撑基板。 旋转单元围绕垂直轴旋转基板。 第一喷嘴（21）将显影液供给到基板支撑单元上的基板。 第二喷嘴（22）将预润湿溶液供应到基底的表面。 喷嘴支撑单元将第一喷嘴和第二喷嘴移动到基板上。 控制器（10）相对于显影装置的每个部分输出控制信号。

公开(公告)号：KR101455411B1

公开(公告)日：2014-10-27

申请号：KR1020090053141

申请日：2009-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다께구찌히로후미 ,  야마모또다로오 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/3021

Abstract: 본 발명은 소수화된 기판 상의 레지스트막 표면의 습윤성을 개선하여 효율적인 현상액막의 형성을 가능하게 하는 동시에 현상 처리의 안정화를 도모할 수 있도록 한 현상 처리 방법 및 현상 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
이를 해결하기 위해, 스핀 척(40)에 의해 수평 유지된 웨이퍼(W)를 회전시켜, 상기 웨이퍼 표면에 현상액을 공급하여 현상 처리를 실시하는 현상 처리 방법에 있어서, 현상 처리 공정 전에 회전하는 기판 표면의 중심 근방에 위치하는 현상 노즐(52)로부터 현상액(100)을 공급하는 동시에, 현상 노즐보다도 웨이퍼 외주측에 위치하는 순수(純水) 노즐(53)로부터 제2 액인 순수(200)를 공급하여 웨이퍼의 회전에 수반하여 웨이퍼의 외주측으로 흐르는 순수에 의해 형성되는 벽(300)에 의해 현상액을 웨이퍼의 회전 방향으로 확산시키는 프리웨트 처리를 행한다. 이에 의해, 소수화된 웨이퍼 상의 레지스트막 표면의 습윤성을 개선할 수 있어 효율적인 현상액막의 형성을 가능하게 하는 동시에 현상 처리의 안정화를 도모할 수 있다.
현상액, 현상 노즐, 벽, 순수, 스핀 척

公开(公告)号：KR1020090013071A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：KR1020080073889

申请日：2008-07-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  다께구찌히로후미 ,  나가미네슈우이찌

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: A developing device, a developing method, and a storage medium are provided to suppress instability of the developer supply to a substrate by using a classified developer nozzle. A resist is coated on a substrate. After exposing a substrate holding support unit, the substrate holding support unit holds and supports the substrate horizontally and rotates the substrate around a plumb axis. A plurality of development process parts(21a,21b,21c) are arranged to a traverse direction. A first developer nozzle is installed in a plurality of development process parts commonly. The first developer nozzle supplies the developer to the surface of the substrate supported and held in the substrate holding support unit with a band shape. A driving unit(24) transfers the first developer nozzle to each development processing parts. The driving unit moves the first developer nozzle from the center and the peripheral part on the surface of the substrate to the other side for forming a liquid layer of the developer on the surface of the substrate. A second developer nozzle prevents the dryness of the liquid layer of the developer by supplying the developer to the center of the substrate with the liquid layer of the developer by the first developer nozzle with a short band shape.

Abstract translation: 提供显影装置，显影方法和存储介质，以通过使用分级的显影剂喷嘴来抑制显影剂供应到基板的不稳定性。 抗蚀剂涂覆在基材上。 在曝光衬底保持支撑单元之后，衬底保持支撑单元水平地保持和支撑衬底，并使衬底围绕铅垂轴旋转。 多个显影处理部件（21a，21b，21c）沿横向设置。 第一显影剂喷嘴通常安装在多个显影处理部件中。 第一显影剂喷嘴将显影剂供给到具有带状的被支撑并保持在基板保持支撑单元中的基板的表面。 驱动单元（24）将第一显影剂喷嘴传送到每个显影处理部件。 驱动单元将第一显影剂喷嘴从基板表面的中心和周边部分移动到另一侧，以在基板的表面上形成显影剂的液体层。 第二显影剂喷嘴通过具有短带形状的第一显影剂喷嘴将显影剂供应到显影剂的液体层的显影剂的液体层，从而防止显影剂的液体层的干燥。

公开(公告)号：KR1020090013069A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：KR1020080073872

申请日：2008-07-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  다께구찌히로후미 ,  오오꼬우찌아쯔시 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/3021

Abstract: A developing method, a developing device, and a storage medium are provided to suppress the instability of the developer supply to the substrate by using a classified developer nozzle. A resist is coated on a substrate. The substrate is horizontally maintained in the substrate holding support unit after the exposure. The developer is supplied from a first developer nozzle(41) while rotating the substrate around a plumb axis through the substrate holding support unit with a band shape. The developer is supplied to one of a central part and a peripheral part on the surface of the substrate by facing one end of the band region to the center of the substrate. A liquid layer of the developer is formed by moving the supply position of the developer from one of a central part and a peripheral part on the surface of the substrate to the other side.

Abstract translation: 提供显影方法，显影装置和存储介质，以通过使用分级的显影剂喷嘴来抑制显影剂供应到基板的不稳定性。 抗蚀剂涂覆在基材上。 在曝光之后，将基板水平地保持在基板保持支撑单元中。 显影剂从第一显影剂喷嘴（41）供应，同时使基板围绕铅垂轴旋转穿过具有带状的基板保持支撑单元。 通过将带区域的一端面对基板的中心，将显影剂供给到基板表面上的中心部分和周边部分之一。 通过将显影剂的供给位置从基板的表面上的中心部分和周边部分中的一个移动到另一侧来形成显影剂的液体层。