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公开(公告)号：KR101602570B1
公开(公告)日：2016-03-10
申请号：KR1020140118783
申请日：2014-09-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/07
Abstract: 본발명의과제는장치의소형화및 처리량의향상이도모되고, 또한다른노광장치의기판전달부의배치에대응가능하게하는것이다. 적층되는복수의기판의도포처리부및 현상처리부를구비하는처리블록과, 기판의노광처리부를구비하는노광블록(S4)과, 처리블록에연속설치되어처리블록과상기노광블록을접속하는인터페이스블록(S3)을구비하는기판처리장치에있어서, 인터페이스블록은도포후의기판을적재하는제1 적재부(TRS-COT), 현상전의기판을적재하는제2 적재부(TRS-DEV), 버퍼부(BF), 냉각부(ICPL) 및기판전달부(TRS)를적층하는선반유닛(U6)과, 선반유닛을사이에둔 양측에배치되어, 각각이선반유닛에대하여기판의전달이가능하며, 한쪽이노광블록에대하여기판의전달이가능하게형성되는제1 기판반송기구(60A) 및제2 기판반송기구(60B)를구비한다.
Abstract translation: 本发明的一个目的是在小型化和装置的吞吐量实现改进，并且还使对应于该其他曝光装置的阵列基板输送部分。 所述多个基板中的应用被堆叠处理和显影处理过程块，和一个曝光处理曝光块（S4），并且被串联安装在所述处理块的处理块和用于连接包含含有所述衬底的部分暴露的块接口块（ 具有S3）时，接口块第二安装部（TRS-DEV），缓冲部（装载所述第一安装部分（TRS-COT之前的基板的BF），一种现象，即施用后层叠基板的基板处理装置 ），和搁板单元堆叠的冷却单元的（U6）（ICPL）与基板传递单元（TRS），被布置在两侧夹着搁板单元，并且各基板的相对于可能传送到搁架单元的，所述一个 以及第二基板传送机构（60A）和第二基板传送机构（60B），其中基板可以被转移到曝光块。
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公开(公告)号：KR1020130092466A
公开(公告)日：2013-08-20
申请号：KR1020130013259
申请日：2013-02-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67712 , B65G49/07 , H01L21/0273 , H01L21/67781
Abstract: 본발명의과제는장치의소형화및 처리량의향상이도모되고, 또한다른노광장치의기판전달부의배치에대응가능하게하는것이다. 적층되는복수의기판의도포처리부및 현상처리부를구비하는처리블록과, 기판의노광처리부를구비하는노광블록(S4)과, 처리블록에연속설치되어처리블록과상기노광블록을접속하는인터페이스블록(S3)을구비하는기판처리장치에있어서, 인터페이스블록은도포후의기판을적재하는제1 적재부(TRS-COT), 현상전의기판을적재하는제2 적재부(TRS-DEV), 버퍼부(BF), 냉각부(ICPL) 및기판전달부(TRS)를적층하는선반유닛(U6)과, 선반유닛을사이에둔 양측에배치되어, 각각이선반유닛에대하여기판의전달이가능하며, 한쪽이노광블록에대하여기판의전달이가능하게형성되는제1 기판반송기구(60A) 및제2 기판반송기구(60B)를구비한다.
Abstract translation: 目的：提供包括接口块的电路板处理装置，以提高生产率并减小电路板的尺寸。 规定：第一个负载单元（TRS-COT）在涂覆过程之后装载电路板。 第二个负载单元（TRS-DEV）在开发过程之前加载电路板。 缓冲单元（BF A，BF B），冷却单元（ICPL）和电路板转移单元（TRS）层叠在车床单元（U6）上。 第一电路板传送装置（60A）和第二电路板传送装置（60B）布置在车床单元的两侧。 第一和第二电路板传送装置包括可移动地安装在铅垂导轨（61）上的臂（65）。
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公开(公告)号：KR101532826B1
公开(公告)日：2015-06-30
申请号：KR1020130013259
申请日：2013-02-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/07
Abstract: 본발명의과제는장치의소형화및 처리량의향상이도모되고, 또한다른노광장치의기판전달부의배치에대응가능하게하는것이다. 적층되는복수의기판의도포처리부및 현상처리부를구비하는처리블록과, 기판의노광처리부를구비하는노광블록(S4)과, 처리블록에연속설치되어처리블록과상기노광블록을접속하는인터페이스블록(S3)을구비하는기판처리장치에있어서, 인터페이스블록은도포후의기판을적재하는제1 적재부(TRS-COT), 현상전의기판을적재하는제2 적재부(TRS-DEV), 버퍼부(BF), 냉각부(ICPL) 및기판전달부(TRS)를적층하는선반유닛(U6)과, 선반유닛을사이에둔 양측에배치되어, 각각이선반유닛에대하여기판의전달이가능하며, 한쪽이노광블록에대하여기판의전달이가능하게형성되는제1 기판반송기구(60A) 및제2 기판반송기구(60B)를구비한다.
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公开(公告)号：KR1020140118966A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：KR1020140118783
申请日：2014-09-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67742
Abstract: The present invention is to downsize an apparatus and improve a throughput thereof, and to cope with arrangement of a substrate transfer unit of other exposure device. A substrate processing apparatus includes an exposure block (S4) having an application processing portion and a development processing portion for a plurality of stacked substrates; and an interface block (S3) installed adjacent to the processing block to connect the processing block and the exposure block. The interface block has a first loading portion (TRS-COT) for loading the substrate which is subjected to application, a second loading portion (TRS-DEV) for loading the substrate prior to development, and a shelf unit (U6) for staking a buffer portion (BF), a cooling portion (ICPL) and a substrate transfer portion (TRS). The shelf unit is interposed between a first substrate transfer mechanism (60A) and a second substrate transfer mechanism (60B) which can transfer the substrate to the shelf unit, one of the first and second substrate transfer mechanism being capable of transferring the substrate to the exposure block.
Abstract translation: 本发明是为了减小装置的尺寸，提高其生产量，并且应对其他曝光装置的基板转印单元的布置。 一种基板处理装置，包括具有应用处理部的曝光块（S4）和用于多个堆叠的基板的显影处理部; 以及与处理块相邻设置的用于连接处理块和曝光块的接口块（S3）。 接口块具有用于加载经受施加的基板的第一加载部分（TRS-COT），用于在显影之前装载基板的第二加载部分（TRS-DEV）和用于承载基板的搁板单元（U6） 缓冲部分（BF），冷却部分（ICPL）和基板转移部分（TRS）。 搁板单元插入在第一基板传送机构（60A）和第二基板传送机构（60B）之间，第二基板传送机构（60B）可以将基板传送到搁板单元，第一和第二基板传送机构中的一个能够将基板传送到 曝光块
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