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公开(公告)号：KR1020060090589A
公开(公告)日：2006-08-14
申请号：KR1020060011070
申请日：2006-02-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67184 , H01L21/67051 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , Y10S134/902 , G03F7/70916
Abstract: 본 발명은 도포, 현상장치 및 도포, 현상방법에 관한 것으로서 레지스트를 도포하는 도포 유니트 및 현상액을 공급해 현상하는 현상 유니트를 구비한 처리 블럭과 액침노광을 실시하는 노광 장치에 접속되는 인터페이스부를 구비한 도포 현상 장치에 있어서 상기 인터페이스부에 기판 세정 유니트와 제 1의 반송 기구와 제 2의 반송 기구를 구비한 구성의 도포 현상 장치로 한다. 노광 후의 기판을 제 1의 반송 기구에 의해 기판 세정 유니트에 반송하여 상기 세정 유니트에 의해 세정된 기판은 제 2의 반송 기구를 개재하여 반송되기 때문에 새로운 파티클의 부착이 억제되는 것으로 처리 블럭의 각 처리 유니트 및 상기 각 처리 유니트로 처리되는 기판에 파티클 오염이 퍼지는 것을 막을 수가 있는 레지스트를 기판에 도포해 액침노광 후의 기판을 현상하기에 있어서 파티클 오염을 억제할 수 있는 도포 현상 장치를 제공하는 기술을 제공한다.
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公开(公告)号：KR101040479B1
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：KR1020100124048
申请日：2010-12-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67184 , H01L21/67051 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , Y10S134/902
Abstract: 본 발명은 도포, 현상장치 및 도포, 현상방법에 관한 것으로서 레지스트를 도포하는 도포 유니트 및 현상액을 공급해 현상하는 현상 유니트를 구비한 처리 블럭과 액침노광을 실시하는 노광 장치에 접속되는 인터페이스부를 구비한 도포 현상 장치에 있어서 상기 인터페이스부에 기판 세정 유니트와 제 1 반송 기구와 제 2 반송 기구를 구비한 구성의 도포, 현상 장치로 한다. 노광 후의 기판을 제 1 반송 기구에 의해 기판 세정 유니트에 반송하여 상기 세정 유니트에 의해 세정된 기판은 제 2 반송 기구를 개재하여 반송되기 때문에 새로운 파티클의 부착이 억제되는 것으로 처리 블럭의 각 처리 유니트 및 상기 각 처리 유니트로 처리되는 기판에 파티클 오염이 퍼지는 것을 막을 수가 있는 레지스트를 기판에 도포해 액침노광 후의 기판을 현상하기에 있어서 파티클 오염을 억제할 수 있는 도포, 현상 장치를 제공하는 기술을 제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及涂布单元，显影单元，涂布单元和显影单元，涂布单元包括用于涂布抗蚀剂的涂布单元和用于供给和显影显影溶液的显影单元，以及界面单元 在显影设备中，在界面部分中设置具有基板清洁单元，第一输送机构和第二输送机构的涂布和显影设备。 由于曝光后的基板通过第一输送机构输送到基板清洁单元，并且由清洁单元清洁的基板经由第二输送机构输送，所以抑制了新粒子的附着， 提供了一种技术，提供一种能够抑制根据颗粒污染的涂敷，显影装置，施加抗蚀剂，可以防止衬底被处理，其中，从扩散到基板的各处理单元的粒子污染液浸曝光之后发展了衬底 。
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公开(公告)号：KR1020130008449A
公开(公告)日：2013-01-22
申请号：KR1020120029259
申请日：2012-03-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , B25J15/00
CPC classification number: H01L21/67742 , B25J11/0095 , B25J19/0075 , H01L21/68707 , Y10S414/141
Abstract: PURPOSE: A substrate transfer device is provided to prevent particles from flying when a holding member is broken. CONSTITUTION: A substrate holding member comprises a plate and a flying preventing unit. A metal line(5) is installed in a plate. A guide member(31) is fixed at the end part of the right and the left fork(21,22). The guide member guides the peripheral part of the wafer. A groove portion is formed in the substrate holding member.
Abstract translation: 目的：提供一种基板传送装置，以防止在保持构件断裂时颗粒飞散。 构成：基板保持构件包括板和防飞行单元。 金属线（5）安装在板中。 引导构件（31）固定在右叉和左叉（21,22）的端部处。 引导构件引导晶片的周边部分。 在基板保持部件上形成有槽部。
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公开(公告)号：KR101059307B1
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：KR1020060011070
申请日：2006-02-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67184 , H01L21/67051 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , Y10S134/902
Abstract: 본 발명은 도포, 현상장치 및 도포, 현상방법에 관한 것으로서 레지스트를 도포하는 도포 유니트 및 현상액을 공급해 현상하는 현상 유니트를 구비한 처리 블럭과 액침노광을 실시하는 노광 장치에 접속되는 인터페이스부를 구비한 도포 현상 장치에 있어서 상기 인터페이스부에 기판 세정 유니트와 제 1 반송 기구와 제 2 반송 기구를 구비한 구성의 도포 현상 장치로 한다. 노광 후의 기판을 제 1 반송 기구에 의해 기판 세정 유니트에 반송하여 상기 세정 유니트에 의해 세정된 기판은 제 2 반송 기구를 개재하여 반송되기 때문에 새로운 파티클의 부착이 억제되는 것으로 처리 블럭의 각 처리 유니트 및 상기 각 처리 유니트로 처리되는 기판에 파티클 오염이 퍼지는 것을 막을 수가 있는 레지스트를 기판에 도포해 액침노광 후의 기판을 현상하기에 있어서 파티클 오염을 억제할 수 있는 도포 현상 장치를 제공하는 기술을 제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及涂布单元，显影单元，涂布单元和显影单元，涂布单元包括用于涂布抗蚀剂的涂布单元和用于供给和显影显影溶液的显影单元，以及界面单元 并且，基板清洁单元，第一传送机构和第二传送机构设置在显影设备的接口部分中。 由于曝光后的基板通过第一输送机构输送到基板清洁单元，并且由清洁单元清洁的基板经由第二输送机构输送，所以抑制了新粒子的附着， 提供一种涂布显影装置，该涂布显影装置能够抑制向基板涂布抗蚀剂的工序中的粒子污染，能够防止粒子污染在由各处理单元处理的基板上扩散，在液浸曝光后显影基板。
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公开(公告)号：KR101602570B1
公开(公告)日：2016-03-10
申请号：KR1020140118783
申请日：2014-09-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/07
Abstract: 본발명의과제는장치의소형화및 처리량의향상이도모되고, 또한다른노광장치의기판전달부의배치에대응가능하게하는것이다. 적층되는복수의기판의도포처리부및 현상처리부를구비하는처리블록과, 기판의노광처리부를구비하는노광블록(S4)과, 처리블록에연속설치되어처리블록과상기노광블록을접속하는인터페이스블록(S3)을구비하는기판처리장치에있어서, 인터페이스블록은도포후의기판을적재하는제1 적재부(TRS-COT), 현상전의기판을적재하는제2 적재부(TRS-DEV), 버퍼부(BF), 냉각부(ICPL) 및기판전달부(TRS)를적층하는선반유닛(U6)과, 선반유닛을사이에둔 양측에배치되어, 각각이선반유닛에대하여기판의전달이가능하며, 한쪽이노광블록에대하여기판의전달이가능하게형성되는제1 기판반송기구(60A) 및제2 기판반송기구(60B)를구비한다.
Abstract translation: 本发明的一个目的是在小型化和装置的吞吐量实现改进，并且还使对应于该其他曝光装置的阵列基板输送部分。 所述多个基板中的应用被堆叠处理和显影处理过程块，和一个曝光处理曝光块（S4），并且被串联安装在所述处理块的处理块和用于连接包含含有所述衬底的部分暴露的块接口块（ 具有S3）时，接口块第二安装部（TRS-DEV），缓冲部（装载所述第一安装部分（TRS-COT之前的基板的BF），一种现象，即施用后层叠基板的基板处理装置 ），和搁板单元堆叠的冷却单元的（U6）（ICPL）与基板传递单元（TRS），被布置在两侧夹着搁板单元，并且各基板的相对于可能传送到搁架单元的，所述一个 以及第二基板传送机构（60A）和第二基板传送机构（60B），其中基板可以被转移到曝光块。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020130092466A
公开(公告)日：2013-08-20
申请号：KR1020130013259
申请日：2013-02-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67712 , B65G49/07 , H01L21/0273 , H01L21/67781
Abstract: 본발명의과제는장치의소형화및 처리량의향상이도모되고, 또한다른노광장치의기판전달부의배치에대응가능하게하는것이다. 적층되는복수의기판의도포처리부및 현상처리부를구비하는처리블록과, 기판의노광처리부를구비하는노광블록(S4)과, 처리블록에연속설치되어처리블록과상기노광블록을접속하는인터페이스블록(S3)을구비하는기판처리장치에있어서, 인터페이스블록은도포후의기판을적재하는제1 적재부(TRS-COT), 현상전의기판을적재하는제2 적재부(TRS-DEV), 버퍼부(BF), 냉각부(ICPL) 및기판전달부(TRS)를적층하는선반유닛(U6)과, 선반유닛을사이에둔 양측에배치되어, 각각이선반유닛에대하여기판의전달이가능하며, 한쪽이노광블록에대하여기판의전달이가능하게형성되는제1 기판반송기구(60A) 및제2 기판반송기구(60B)를구비한다.
Abstract translation: 目的：提供包括接口块的电路板处理装置，以提高生产率并减小电路板的尺寸。 规定：第一个负载单元（TRS-COT）在涂覆过程之后装载电路板。 第二个负载单元（TRS-DEV）在开发过程之前加载电路板。 缓冲单元（BF A，BF B），冷却单元（ICPL）和电路板转移单元（TRS）层叠在车床单元（U6）上。 第一电路板传送装置（60A）和第二电路板传送装置（60B）布置在车床单元的两侧。 第一和第二电路板传送装置包括可移动地安装在铅垂导轨（61）上的臂（65）。
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公开(公告)号：KR1020100137372A
公开(公告)日：2010-12-30
申请号：KR1020100057144
申请日：2010-06-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/02 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67742 , G03B27/52 , H01L21/67748 , H01L21/67754
Abstract: PURPOSE: A substrate transferring unit, a substrate transferring method, a coating and developing unit, and a storage media are provided to improve the transferring speed of a substrate between a second module and a supporting unit. CONSTITUTION: A moving unit moves along a transferring path. A supporting unit supports a substrate. A plurality of substrates is stored in a carrier. The carrier is entered in a carrier block(C1). An interface block is arranged between a processing block(C2) and an exposing unit. The substrate is transferred from the processing block to the exposing unit in order to implement an exposing process with respect to the substrate.
Abstract translation: 目的：提供基板转印单元，基板转印方法，涂层和显影单元以及存储介质，以提高第二模块和支撑单元之间的基板的转印速度。 构成：移动单元沿着传送路径移动。 支撑单元支撑基板。 多个基板被存储在载体中。 载体进入载体块（C1）。 接口块布置在处理块（C2）和曝光单元之间。 衬底从处理块转移到曝光单元，以实现相对于衬底的曝光工艺。
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公开(公告)号：KR101532826B1
公开(公告)日：2015-06-30
申请号：KR1020130013259
申请日：2013-02-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/07
Abstract: 본발명의과제는장치의소형화및 처리량의향상이도모되고, 또한다른노광장치의기판전달부의배치에대응가능하게하는것이다. 적층되는복수의기판의도포처리부및 현상처리부를구비하는처리블록과, 기판의노광처리부를구비하는노광블록(S4)과, 처리블록에연속설치되어처리블록과상기노광블록을접속하는인터페이스블록(S3)을구비하는기판처리장치에있어서, 인터페이스블록은도포후의기판을적재하는제1 적재부(TRS-COT), 현상전의기판을적재하는제2 적재부(TRS-DEV), 버퍼부(BF), 냉각부(ICPL) 및기판전달부(TRS)를적층하는선반유닛(U6)과, 선반유닛을사이에둔 양측에배치되어, 각각이선반유닛에대하여기판의전달이가능하며, 한쪽이노광블록에대하여기판의전달이가능하게형성되는제1 기판반송기구(60A) 및제2 기판반송기구(60B)를구비한다.
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公开(公告)号：KR1020140118966A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：KR1020140118783
申请日：2014-09-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67742
Abstract: The present invention is to downsize an apparatus and improve a throughput thereof, and to cope with arrangement of a substrate transfer unit of other exposure device. A substrate processing apparatus includes an exposure block (S4) having an application processing portion and a development processing portion for a plurality of stacked substrates; and an interface block (S3) installed adjacent to the processing block to connect the processing block and the exposure block. The interface block has a first loading portion (TRS-COT) for loading the substrate which is subjected to application, a second loading portion (TRS-DEV) for loading the substrate prior to development, and a shelf unit (U6) for staking a buffer portion (BF), a cooling portion (ICPL) and a substrate transfer portion (TRS). The shelf unit is interposed between a first substrate transfer mechanism (60A) and a second substrate transfer mechanism (60B) which can transfer the substrate to the shelf unit, one of the first and second substrate transfer mechanism being capable of transferring the substrate to the exposure block.
Abstract translation: 本发明是为了减小装置的尺寸，提高其生产量，并且应对其他曝光装置的基板转印单元的布置。 一种基板处理装置，包括具有应用处理部的曝光块（S4）和用于多个堆叠的基板的显影处理部; 以及与处理块相邻设置的用于连接处理块和曝光块的接口块（S3）。 接口块具有用于加载经受施加的基板的第一加载部分（TRS-COT），用于在显影之前装载基板的第二加载部分（TRS-DEV）和用于承载基板的搁板单元（U6） 缓冲部分（BF），冷却部分（ICPL）和基板转移部分（TRS）。 搁板单元插入在第一基板传送机构（60A）和第二基板传送机构（60B）之间，第二基板传送机构（60B）可以将基板传送到搁板单元，第一和第二基板传送机构中的一个能够将基板传送到 曝光块
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公开(公告)号：KR1020110003289A
公开(公告)日：2011-01-11
申请号：KR1020100124048
申请日：2010-12-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67184 , H01L21/67051 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , Y10S134/902 , H01L21/0274 , G03F7/2041 , G03F7/70341
Abstract: PURPOSE: A coating and developing device is provided to prevent a watermark from being generated, which is caused by a dried liquid on a substrate by installing a humidity control unit on the substrate. CONSTITUTION: A cleaning unit(6) is installed in the return path of a liquid immersion lithographic substrate in an exposure device(37). The cleaning unit comprises a frame body. A return unit carries the substrate in the sidewall part of the frame body. A substrate return device returns a substrate after a liquid immersion lithography process to the cleaning unit by supporting it to a holding support body. A control unit controls the cleaning unit and the substrate return device.
Abstract translation: 目的：提供涂覆和显影装置，以防止由基材上的干燥液体在基材上安装湿度控制单元而产生水印。 构成：清洁单元（6）安装在曝光装置（37）中的液浸光刻基板的返回路径中。 清洁单元包括框体。 返回单元将基板承载在框架主体的侧壁部分中。 基板返回装置将液浸光刻处理后的基板通过支撑在保持支撑体上而返回到清洗单元。 控制单元控制清洁单元和基板返回装置。
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