公开(公告)号：KR100827796B1

公开(公告)日：2008-05-07

申请号：KR1020020045729

申请日：2002-08-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오리이타케히코 ,  니시다타츠야 ,  쿠로다오사무

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B08B3/02

Abstract: 본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로, 다른 처리유체를 공급하는 복수의 공급수단(61, 62, 63)을 기판(W) 주변부를 따라 상대적으로 이동시켜서, 기판(W)을 처리하는 기판처리장치에 있어서, 복수의 공급수단(61, 62, 63)을 기판(W) 주변에서 안쪽을 향하는 방향으로 늘어세워 배치하고 저속회전으로도 안정된 처리가 가능함과 동시에 레지스트처리의 스루풋을 향상시킬 수 있는 기판처리장치를 제공하는 데에 있다.

Abstract translation: 本发明中，由多个供应的相对移动的基板处理装置装置，用于沿着所述设备中的衬底（W）的外围，处理基板（W）供给不同的处理流体（61，62,63） 衬底，其方法，可以直立放置拉伸朝向基板（W）周围的内侧的方向上的多个供给手段（61，62，63）以及可能的，并在同一时间提高了抗蚀剂工艺稳定处理的吞吐量以低速旋转 并提供一种处理装置。

公开(公告)号：KR1020030013316A

公开(公告)日：2003-02-14

申请号：KR1020020045729

申请日：2002-08-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오리이타케히코 ,  니시다타츠야 ,  쿠로다오사무

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B08B3/02

Abstract: PURPOSE: To provide a substrate processing apparatus and method which can perform its stable processing and can increase the resist processing throughput even when the apparatus is rotated at a low speed. CONSTITUTION: In the substrate processing apparatus for processing a substrate W by relatively moving a plurality of supply means 61, 62 and 63 for supplying different processing fluids along the periphery of the substrate W; the plurality of supply means 61, 62 and 63 are positioned as arranged in a row directed from the periphery of the substrate W inwardly thereof.

Abstract translation: 目的：提供一种能够进行稳定处理的基板处理装置和方法，即使在低速旋转装置时也能够提高抗蚀剂处理量。 构成：在用于通过相对移动多个供给装置61,62和63来处理衬底W的衬底处理装置中，用于沿衬底W的周边供应不同的处理流体; 多个供给装置61,62和63被布置成从其内部的衬底W的周边排列成一行。