기판처리장치 및 기판처리방법
    1.
    发明授权
    기판처리장치 및 기판처리방법 有权
    基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:KR100968316B1

    公开(公告)日:2010-07-08

    申请号:KR1020040004130

    申请日:2004-01-20

    Abstract: 파티클의 발생을 극력 억제하면서 기판의 제품영역에의 리프트 핀 등의 지지부재의 전사(轉寫)를 방지할 수 있는 기판처리장치 및 기판처리방법을 제공하는 것.
    본 발명에서는, 기판의 종류에 따라 에어실린더(47,49)와 (48)를 전환하고 있기 때문에 기판의 제품영역에 지지핀(70)의 흔적이 전사되는 것을 방지할 수 있다. 또한 본 발명에서는 스테이지(40)를 기준으로 하여 지지핀(70)을 승강구동하고 있기 때문에, 에어실린더(47,48,49)의 구동량을 비교적 적게 할 수 있어 파티클의 발생을 극력 억제할 수 있다.

    Abstract translation: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法,能够抑制升降销等支撑部件向基板的产品区域的移动,并且能够抑制粒子的产生。

    기판처리장치 및 기판처리방법
    2.
    发明公开
    기판처리장치 및 기판처리방법 有权
    基板处理装置和限制颗粒生成的基板处理方法

    公开(公告)号:KR1020040072034A

    公开(公告)日:2004-08-16

    申请号:KR1020040004130

    申请日:2004-01-20

    Abstract: PURPOSE: A substrate treatment device and a substrate treatment method are provided to restrain the generation of particles and prevent that a supporting member such as a lift pin is transferred to a product region of a substrate. CONSTITUTION: It is prevented that a supporting pin is transferred to a product region of a substrate because air cylinders(47,49) and air cylinder(48) are converted according to the type of the substrate. The air cylinders have less driving quantity because the supporting pin is risen and driven centering around a stage(40) to restrain the generation of particles.

    Abstract translation: 目的:提供基板处理装置和基板处理方法以抑制颗粒的产生,并防止诸如升降销的支撑构件转移到基板的产品区域。 构成:由于气缸(47,49)和气缸(48)根据基板的类型被转换,所以防止支撑销被转移到基板的产品区域。 气缸具有较少的驱动量,因为支撑销上升并且围绕工作台(40)围绕以限制颗粒的产生。

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