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公开(公告)号：KR101052946B1
公开(公告)日：2011-07-29
申请号：KR1020040036768
申请日：2004-05-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 시스템의 양 사이드사이에서 사람이 우회하지 않고 왕래할 수 있도록 하는 것이다.
이 레지스트 도포현상처리 시스템에서는, 반송라인[A]의 종단부, 반송라인 [B]의 시단부 및 종단부, 반송라인[C]의 시단부 및 종단부, 반송라인[D]의 시단부에 오븐타워[D]의 시단부에 오븐타워(TB)(76, 78, 80, 82, 84, 86)를 각각 설치하여, 양 오븐타워(76, 86), (78, 84), (80, 82)의 사이에 세로형의 반송기구 (S/A)(88, 90, 92)를 각각 설치하고 있다. 반송기구(88)와 반송기구(90)와의 사이에는, 해당 크린룸내에서 이 레지스트 도포현상처리시스템을 횡단하여 사람이 빠져나가는 것을 가능하게 하는 통로(168)와, 양 반송기구(88, 90)의 사이에서 기판(G)을 주고받기 위한 익스텐션·유니트(170)가 상하에 설치된다.Abstract translation: 衬底可以在系统的两侧之间通过，以按照工艺流程的顺序沿着串行水平方向传输待处理衬底，而不绕过衬底。
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公开(公告)号：KR1020060043313A
公开(公告)日：2006-05-15
申请号：KR1020050017189
申请日：2005-03-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: G03F7/16 , G01B11/06 , H01L21/67253
Abstract: 피처리기판의 두께의 불균일에 대하여 스테이지 상의 피처리기판과 도포노즐의 토출구와의 사이의 갭을 일정하게 유지하는 갭 관리를 효율적으로 하는 것을 과제로 한다.
해결수단으로 투광부(152)는, 연직방향에 분포하는 평행광의 광 빔(LB)을 수광부(154)를 향하여 수평으로 투광한다. 수광부(154)는, 투광부(152)로부터의 광 빔(LB)을 1차원 CCD(154a)에서 수광한다. 이 일차원 CCD(154a)에서의 최하단의 광 빔 수광위치는, 흡착유지부(150) 상에 기판(G)이 배치되어 있을 때는 기판(G)의 윗면의 높이 위치 H
A 에 해당하고, 흡착유지부(150) 상에 기판(G)이 배치되어 있지 않을 때는 흡착유지부(150)의 윗면의 높이 위치 H
B 에 해당한다. 계측제어연산부(156)는, 수광부(154)에서의 최하단 광 빔 수광위치(H
A , H
B )를 산출하여, 양 수광위치 사이의 고저차(H
A -H
B )을 구하여 이것을 상기 기판(G)의 두께의 측정값(TK)으로 하는 것이다.-
公开(公告)号：KR1019990037548A
公开(公告)日：1999-05-25
申请号：KR1019980046445
申请日：1998-10-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 상부개구 및 배기구를 구비한 컵부의 안쪽에서 기판에 도포막을 형성하는 도포방법은, (a)상기 상부개구를 통해 컵부내에 기판을 반입하고, 스핀척에 의해 기판을 유지하는 공정과, (b)상기 배기구를 통해 컵부내를 배기하면서 기판에 도포액을 공급하는 공정과, (c)상기 배기구를 통해 컵부내를 배기하면서 스핀척에 의해 기판을 회전시키고, 상기 공정(b)으로 공급된 도포액을 확산시켜 기판표면에 도포막을 형성하는 공정과, (d)기판의 회전을 정지시키고, 도포막을 갖는 기판을 컵부의 밖으로 반출하는 공정과, (e)상기 공정(c)에서 생기는 도포액의 미스트를 컵부로부터 배출하기 위하여, 상기 공정(c) 또는 상기 공정(d)의 사이에 있어서, 상기 공정(b) 및 (c)의 배기량 중 어느 한쪽이 큰 것보다도 더욱 큰 배기유량으로 상기 컵부의 배기를 바꾸는 공정을 � �비한다.
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公开(公告)号：KR1020050122194A
公开(公告)日：2005-12-28
申请号：KR1020050124640
申请日：2005-12-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/6715 , B05C11/08 , B05D1/005 , G03F7/162
Abstract: 상부개구 및 배기구를 구비한 컵부의 안쪽에서 기판에 도포막을 형성하는 도포방법은, (a)상기 상부개구를 통해 컵부내에 기판을 반입하고, 스핀척에 의해 기판을 유지하는 공정과, (b)상기 배기구를 통해 컵부내를 배기하면서 기판에 도포액을 공급하는 공정과, (c)상기 배기구를 통해 컵부내를 배기하면서 스핀척에 의해 기판을 회전시키고, 상기 공정(b)으로 공급된 도포액을 확산시켜 기판표면에 도포막을 형성하는 공정과, (d)기판의 회전을 정지시키고, 도포막을 갖는 기판을 컵부의 밖으로 반출하는 공정과, (e)상기 공정(c)에서 생기는 도포액의 미스트를 컵부로부터 배출하기 위하여, 상기 공정(c) 또는 상기 공정(d)의 사이에 있어서, 상기 공정(b) 및 (c)의 배기량 중 어느 한쪽이 큰 것보다도 더욱 큰 배기유량으로 상기 컵부의 배기를 바꾸는 공정을 � �비한다.
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公开(公告)号：KR1020010039620A
公开(公告)日：2001-05-15
申请号：KR1020000028049
申请日：2000-05-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: PURPOSE: A substrate treating device is provided to accurately position a substrate carried in the peripheral section treating unit from a coating unit. CONSTITUTION: A peripheral section treating unit, which removes an applied solution from the peripheral section of a substrate(G) after the solution is applied to the substrate(G) by means of a coating unit is provided with a stage(71), on which the substrate(G) is placed and a positioning mechanism(72), which positions the substrate(G) carried onto the stage(71). The positioning mechanism(72) positions the substrate(G) to a prescribed position by pushing the substrate(G) in both directions along the diagonal line of the substrate(G), by means of a pair of rollers(81) which are attached to the Y-shaped front end section of the arm(82) of the mechanism(72), by nearly horizontally moving the arm(82) through the means of a horizontally moving mechanism(84).
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于从包覆单元精确地定位周边部分处理单元中承载的基板。 构成：在通过涂布单元将溶液施加到基板（G）上之后，从基板（G）的周边部分去除涂布的溶液的周边部分处理单元设置有阶段（71），在 放置基板（G）的定位机构（72）和定位机构（72），将基板（G）定位在载物台（71）上。 定位机构72将基板（G）沿着基板（G）的对角线沿两个方向推压基板（G），通过一对连接的辊（81）将基板（G）定位到规定位置 通过水平移动机构（84）的装置将臂（82）几乎水平地移动到机构（72）的臂（82）的Y形前端部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019990045032A
公开(公告)日：1999-06-25
申请号：KR1019980047283
申请日：1998-11-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/00
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판처리시에 있어서는 덮개의 개폐를 신속히 행할 수 있고, 보수관리시에 있어서는 장치를 분해하지 않고 간편하고 안전하게 작업할 수 있는 기판처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
기판처리장치는, 기판재치대와, 상부 개구를 가지며, 상기 기판재치대를 둘러싸는 컵부와, 이 컵의 상부개구를 개폐하는 덮개와, 이 덮개를 지지하는 지지아암과, 이 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 1 피스톤과, 이 제 1 피스톤을 승강안내하는 제 1 실린더를 가진 제 1 승강기구와, 상기 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 2 피스톤과, 이 제 2 피스톤을 승강안내하는 제 2 실린더를 가진 제 2 승강기구와, 상기 제 1 및 제 2 실린더에 압력유체를 각각 공급하여, 상기 제 1 및 제 2 실린더로부터 압력유체를 각각 배기하는 구동회로와, 이 구동회로의 동작을 각각 제어하는 제어기구를 구비한다.
4. 발명의 중요한 용도
액정 디스플레이(LCD)용 유리기판과 같은 대형기판을 처리하기 위한 처리공간을 규정하는 컵과 덮개를 구비한 기판처리장치에 사용됨.-
公开(公告)号：KR1019980064738A
公开(公告)日：1998-10-07
申请号：KR1019970074965
申请日：1997-12-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/00
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
처리장치 및 처리방법
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
스핀척을 확대하지 않고서 수평적으로 평평한 기판면을 유지하면서 처리액으로 기판의 표면을 균일하게 처리하기 위한 장치 및, 회수된 처리액의 농도가 과도하게 낮아지는 것을 방지하고, 회수된 용액을 용이하게 재처리할 수 있는 처리방법을 제공함
3. 발명의 해결방법의 요지
개시된 장치는 유지수단, 지지수단, 처리액 공급수단, 승강수단 및 회전수단을 포함하여 구성되는 처리장치이다. 처리기판은 유지수단에 의하여 회전가능하게 유지된다. 유지수단의 둘레를 넘어서 연장되는 기판의 돌출부가 지지수단에 의하여 지지되어 기판의 앞면을 수평으로 평평하게 유지한다. 처리액은 처리액 공급수단으로부터 유지수단에 의하여 유지되고 지지수단에 의하여 지지된 기판의 앞면으로 공급된다. 유지수단에 의하여 유지된 기판은 지지수단에 대하여 승강수단으로 수직이동한다. 지지수단에 대하여 승강된 기판은 회전수단에 의하여 회전된다.
4. 발명의 중요한 용도
현상액과 같은 처리용액으로 LCD기판 또는 반도체웨이퍼와 같은 피처리기판의 표면을 처리하는데 사용됨.-
公开(公告)号：KR101052977B1
公开(公告)日：2011-07-29
申请号：KR1020050017189
申请日：2005-03-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 피처리기판의 두께의 불균일에 대하여 스테이지 상의 피처리기판과 도포노즐의 토출구와의 사이의 갭을 일정하게 유지하는 갭 관리를 효율적으로 하는 것을 과제로 한다.
해결수단으로 투광부(152)는, 연직방향에 분포하는 평행광의 광 빔(LB)을 수광부(154)를 향하여 수평으로 투광한다. 수광부(154)는, 투광부(152)로부터의 광 빔(LB)을 1차원 CCD(154a)에서 수광한다. 이 일차원 CCD(154a)에서의 최하단의 광 빔 수광위치는, 흡착유지부(150) 상에 기판(G)이 배치되어 있을 때는 기판(G)의 윗면의 높이 위치 H
A 에 해당하고, 흡착유지부(150) 상에 기판(G)이 배치되어 있지 않을 때는 흡착유지부(150)의 윗면의 높이 위치 H
B 에 해당한다. 계측제어연산부(156)는, 수광부(154)에서의 최하단 광 빔 수광위치(H
A , H
B )를 산출하여, 양 수광위치 사이의 고저차(H
A -H
B )을 구하여 이것을 상기 기판(G)의 두께의 측정값(TK)으로 하는 것이다.Abstract translation: 存在这样的问题：使待处理基板的待处理基板与涂布喷嘴的排出口之间的间隙相对于待处理基板的厚度不均匀性保持恒定水平的间隙管理是有效的。
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公开(公告)号：KR100968316B1
公开(公告)日：2010-07-08
申请号：KR1020040004130
申请日：2004-01-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 파티클의 발생을 극력 억제하면서 기판의 제품영역에의 리프트 핀 등의 지지부재의 전사(轉寫)를 방지할 수 있는 기판처리장치 및 기판처리방법을 제공하는 것.
본 발명에서는, 기판의 종류에 따라 에어실린더(47,49)와 (48)를 전환하고 있기 때문에 기판의 제품영역에 지지핀(70)의 흔적이 전사되는 것을 방지할 수 있다. 또한 본 발명에서는 스테이지(40)를 기준으로 하여 지지핀(70)을 승강구동하고 있기 때문에, 에어실린더(47,48,49)의 구동량을 비교적 적게 할 수 있어 파티클의 발생을 극력 억제할 수 있다.Abstract translation: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，能够抑制升降销等支撑部件向基板的产品区域的移动，并且能够抑制粒子的产生。
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公开(公告)号：KR100586119B1
公开(公告)日：2006-08-10
申请号：KR1019980047283
申请日：1998-11-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/00
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판처리시에 있어서는 덮개의 개폐를 신속히 행할 수 있고, 보수관리시에 있어서는 장치를 분해하지 않고 간편하고 안전하게 작업할 수 있는 기판처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
기판처리장치는, 기판재치대와, 상부 개구를 가지며, 상기 기판재치대를 둘러싸는 컵부와, 이 컵의 상부개구를 개폐하는 덮개와, 이 덮개를 지지하는 지지아암과, 이 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 1 피스톤과, 이 제 1 피스톤을 승강안내하는 제 1 실린더를 가진 제 1 승강기구와, 상기 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 2 피스톤과, 이 제 2 피스톤을 승강안내하는 제 2 실린더를 가진 제 2 승강기구와, 상기 제 1 및 제 2 실린더에 압력유체를 각각 공급하여, 상기 제 1 및 제 2 실린더로부터 압력유체를 각각 배기하는 구동회로와, 이 구동회로의 동작을 각각 제어하는 제어기구를 구비한다.
4. 발명의 중요한 용도
액정 디스플레이(LCD)용 유리기판과 같은 대형기판을 처리하기 위한 처리공간을 규정하는 컵과 덮개를 구비한 기판처리장치에 사용됨.
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