기판 반송 처리 장치
    1.
    发明公开
    기판 반송 처리 장치 有权
    基板运输和加工设备

    公开(公告)号:KR1020070103694A

    公开(公告)日:2007-10-24

    申请号:KR1020070037791

    申请日:2007-04-18

    Abstract: A substrate carrying and processing apparatus is provided to reduce a substrate reception space by forming a gap between a plurality of loading shelves narrower than the thicknesses of a substrate carrying unit and a substrate transferring unit. A substrate carrying and processing apparatus includes a carrier block(S1), a process block(S2), a substrate carrying unit(D), a substrate containing part, and a substrate transferring unit. The carrier block(S1) arranges carriers(20) capable of containing a plurality of substrates(W). The process block(S2) has a plurality of process units(U1-U4). The process units((U1-U4)) properly process the substrate(W) drawn out from the carriers(20). The substrate carrying unit(D) moves vertically and horizontally for carrying the substrates(W) from the carrier block(S1) to the process units(U1-U4). The substrate containing part is arranged between the carrier block(S1) and the process block(S2) and has an opening for receiving and containing the plurality of substrates(W). The substrate carrying unit(D) moves vertically and horizontally for delivering the substrates(W) between the carrier block(S1) and the substrate containing part.

    Abstract translation: 提供了一种衬底承载和处理装置,通过在比衬底传送单元和衬底传送单元的厚度更窄的多个装载架之间形成间隙来减小衬底接收空间。 衬底承载和处理设备包括载体块(S1),工艺块(S2),衬底承载单元(D),衬底容纳部分和衬底转移单元。 载体块(S1)布置能够容纳多个基板(W)的载体(20)。 处理块(S2)具有多个处理单元(U1-U4)。 处理单元((U1-U4))适当地处理从载体(20)拉出的基板(W)。 衬底承载单元(D)垂直和水平地移动以将衬底(W)从载体块(S1)传送到处理单元(U1-U4)。 基板容纳部分布置在载体块(S1)和处理块(S2)之间,并且具有用于接收和容纳多个基板(W)的开口。 衬底承载单元(D)垂直和水平移动,用于传送载体块(S1)和衬底容纳部分之间的衬底(W)。

    기판 반송 처리 장치
    2.
    发明授权
    기판 반송 처리 장치 有权
    基板运输和加工设备

    公开(公告)号:KR101110906B1

    公开(公告)日:2012-03-15

    申请号:KR1020070037791

    申请日:2007-04-18

    Abstract: 본 발명의 과제는 기판 수납부에 있어서의 기판의 수납 공간을 가능한 한 작게 하여 장치의 소형화, 기판의 수납수의 증대를 도모할 수 있도록 하고, 또한 처리량의 향상을 도모할 수 있도록 하는 것이다.
    웨이퍼(W)를 수용하는 캐리어(20)를 배치하는 캐리어 블록(S1)과, 웨이퍼의 처리 유닛(U1 내지 U4, 31)을 구비하는 처리 블록(S2)과, 웨이퍼를 처리 유닛에 전달하는 메인 아암(A1)과, 캐리어 블록과 처리 블록 사이에 배치되고 웨이퍼를 수납 가능한 선반 유닛(U5)과, 선반 유닛에 웨이퍼를 전달하는 전달 아암(D)을 구비한다. 선반 유닛은 메인 아암과 전달 아암이 교차하는 2방향으로부터 웨이퍼의 전달이 가능한 개구부(11, 12)를 구비하는 동시에, 웨이퍼를 지지하는 복수의 적재 선반(13)을 서로 간격을 두고 적층하여 이루어지고, 메인 아암 및 전달 아암을 적재 선반의 두께와 단면 방향에서 겹치는 위치 관계에서 기판 수납부에 대해 진퇴 가능하게 형성한다.
    메인 아암, 전달 아암, 캐리어 블록, 선반 유닛, 적재 선반, 셔틀 아암

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