公开(公告)号：KR101807321B1

公开(公告)日：2017-12-08

申请号：KR1020120016421

申请日：2012-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명은소수화처리모듈또는도포막형성용의단위블록에이상이발생하거나, 메인터넌스를행할때에도포, 현상장치의가동효율의저하를억제할수 있고, 기판의반송수단의동작의복잡화를방지하는기술을제공하는것이다. 서로동일한도포막이형성되는 N중화된도포용의단위블록과, 상기캐리어블록과처리블록사이의승강반송블록에있어서, 상기도포막을형성하기전의기판에대해소수화처리하기위한 N그룹의소수화모듈과, 상기 N그룹의소수화모듈로부터각각대응하는도포용의단위블록에기판을전달하도록제어되는전달기구를구비하도록도포, 현상장치를구성한다.

Abstract translation: 本发明是用于产生异常单元块，用于疏水化处理模块或也形成覆盖膜的技术，或甚至进行维修和被包括以抑制的显影装置的运行效率的劣化，防止在基板的输送装置的操作的复杂性 提供。 用于在载体块和处理块之间的上升和下降传输块中形成涂布膜之前使基底疏水化的N-分组疏水模块， 控制转移机构将衬底从N组的疏水模块转移到对应的压印单元的相应单元块。

公开(公告)号：KR101751551B1

公开(公告)日：2017-06-27

申请号：KR1020120123696

申请日：2012-11-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까하라다마사히로 ,  사까따요지 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  나까시마쯔네나가

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67046 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6875

Abstract: 노광전에기판의이면세정을행하는기능을구비한기판처리시스템에있어서, 기판반송의부하를저감시키고처리유닛의구성을변경하는일 없이풋 프린트를작게한다. 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는웨이퍼세정부(141)와, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는웨이퍼검사부(142)와, 웨이퍼세정부(141)와웨이퍼검사부(142) 사이에서웨이퍼(W)를반송하는반송수단(143)을갖고있다. 웨이퍼세정부(141), 웨이퍼검사부(142) 및반송수단(143)은, 하우징(140)의내부에설치되어있고세정유닛(100)과검사유닛(101)은인터페이스스테이션(5)의정면측에, 상하방향으로다단으로설치되고, 웨이퍼반송기구(120)는세정유닛(100) 및검사유닛(101)에인접한영역에형성되어있다.

公开(公告)号：KR101667823B1

公开(公告)日：2016-10-19

申请号：KR1020110070176

申请日：2011-07-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/6723

Abstract: 본발명의과제는단위블록에이상이발생하거나, 메인터넌스를행할때에, 도포, 현상장치의처리량의저하를억제하는동시에처리블록의설치면적을억제하는것이다. 적층된전단처리용단위블록과, 각각대응하는적층된후단처리용단위블록사이에설치되어, 양단위블록의반송기구사이에서기판의전달을행하기위한도포처리용전달부와, 각단의도포처리용전달부사이에서기판의반송을행하기위해승강가능하게설치된보조이동탑재기구와, 상기전단처리용단위블록, 후단처리용단위블록각각에적층된현상처리용단위블록을구비하는도포, 현상장치를구성한다. 각층 사이에서기판을전달시키므로, 사용불가로된 단위블록을피해기판을반송할수 있다. 또한, 현상용단위블록이, 전단처리용및 후단처리용단위블록에적층되어있으므로, 설치면적이억제된다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是产生异常单元块，或进行维护时，抑制涂层，吞吐量的显影装置的劣化的同时，抑制该处理块的设置面积。 用于在用于前端处理的堆叠单元块之间转移基板的转移部分和用于在两个单元块的转移机构之间堆叠用于转移基板的后端处理的相应单元块， 以及显影单元单元，其包括显影单元块，所述显影单元块堆叠在前端处理单元块和后端处理单元块中的每一个上，以便能够上下移动以从传送单元 构建。 由于衬底在各个层之间转移，所以衬底可以由不可用的单元块承载。 此外，由于显影单元块层叠在用于前端处理和后端处理的单元块上，所以安装区域被抑制。

公开(公告)号：KR101595593B1

公开(公告)日：2016-02-18

申请号：KR1020110043716

申请日：2011-05-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  도미따히로시 ,  하야까와마꼬또 ,  요시다다쯔헤이

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/6715

Abstract: 본발명의과제는처리블록의설치면적을억제하는동시에장치의가동효율의저하를억제할수 있는기술을제공하는것이다. 검사모듈에의한검사에서기판에이상이검출되었을때에, 기억부에기억된데이터에기초하여, 후속의기판의반송모드를, 모드 M1 및 M2로부터선택하기위한모드선택부를구비하도록도포, 현상장치를구성한다. 상기모드 M1은현상처리용단위블록에있어서의기판이처리된모듈을특정하여, 후속의기판을, 특정된모듈이외의모듈로반송하도록단위블록용반송기구의동작을제어하는모드이고, 상기모드 M2는기판이처리된현상처리용단위블록을특정하여, 후속의기판을, 특정된현상처리용단위블록이외의현상처리용단위블록으로반송하도록전달기구의동작을제어하는모드이다.

公开(公告)号：KR1020140108513A

公开(公告)日：2014-09-11

申请号：KR1020140108223

申请日：2014-08-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도오끼유우이찌 ,  하야시도꾸따로오 ,  이이다나루아끼 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/68 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/681 ,  H01L21/68707 ,  H01L22/10 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: The objective of the present invention is to provide a method for adjusting the position of substrate transfer which can adjust a transfer position without using a control jig. The present invention provides a method for adjusting the position of substrate transfer which includes a first detection step of holding a substrate by a substrate transfer part which transfers the substrate and detecting the position of the substrate, a step of transferring the substrate held by the substrate transfer part to a substrate rotation part which holds the substrate to rotate, a step of allowing the substrate rotation part to rotate the substrate held by the substrate rotation part with a preset angle, a step of receiving the substrate rotated by the substrate rotation part from the substrate rotation part, a second detection step of detecting the position of the substrate received by the substrate transfer part, a step of finding the rotation center position of the substrate rotation part based on the position of the substrate obtained by the first detection step and the position of the substrate obtained by the second detection step, and a step of adjusting the position of the substrate transfer part based on the rotation center position found.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种用于调节基板转印位置的方法，该方法可以在不使用控制夹具的情况下调节转印位置。 本发明提供了一种用于调整基板转印位置的方法，该方法包括：第一检测步骤，通过基板转印部分保持基板，该基板转印部分传送基板并检测基板的位置;转印由基板保持的基板 将基板转动部保持在基板旋转部的基板旋转部，使基板旋转部以预定角度旋转被基板旋转部保持的基板的步骤，将基板旋转部旋转的基板从 基板旋转部，检测由基板转印部接受的基板的位置的第二检测工序;基于通过第一检测工序得到的基板的位置求出基板旋转部的旋转中心位置的步骤;以及 通过第二检测步骤获得的基板的位置和调整位置的步骤 基于发现的旋转中心位置的基板转印部件。

公开(公告)号：KR1020130049747A

公开(公告)日：2013-05-14

申请号：KR1020120123696

申请日：2012-11-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까하라다마사히로 ,  사까따요지 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  나까시마쯔네나가

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67046 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6875

Abstract: PURPOSE: A substrate processing system, a substrate transferring method, and a computer storage medium are provided to reduce a footprint by decreasing the number of wafer transferring processes. CONSTITUTION: A wafer cleaning unit(141) cleans the rear of a wafer before the wafer is inputted. A wafer inspecting unit(142) inspects whether to expose the wafer before the wafer is inputted to an exposing device. A transferring device(143) transfers the wafer. The wafer cleaning unit and the wafer inspecting unit are formed on the front of an interface station.

Abstract translation: 目的：提供基板处理系统，基板转印方法和计算机存储介质，通过减少晶片转印工艺的数量来减少占用面积。 构成：在晶片输入之前，晶片清洁单元（141）清洁晶片的后部。 晶片检查单元（142）在将晶片输入到曝光装置之前检查是否暴露晶片。 传送装置（143）传送晶片。 晶片清洁单元和晶片检查单元形成在界面站的前面。

公开(公告)号：KR1020130032274A

公开(公告)日：2013-04-01

申请号：KR1020120105203

申请日：2012-09-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 에노끼다스구루 ,  나까하라다마사히로 ,  기야마히데까즈 ,  이이다나루아끼 ,  미야따아끼라

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  B25J9/16 ,  G06F19/00

CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/67155 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/68707

Abstract: PURPOSE: A substrate processing system, a substrate processing method for the same and a computer storage medium thereof are provided to easily change a configuration by installing a transport block closely to a wafer transferring apparatus. CONSTITUTION: A process station(3) installs processing units in the upper and the lower direction. A cassette mounting table(12) loads a cassette for accommodating wafers. A wafer transfer device(21) is arranged between the process station and the cassette mounting table. A transport block(22) installs transfer units in multi-stages. The wafer transfer device includes a first transfer arm and a second transfer arm.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理系统及其基板处理方法及其计算机存储介质，以通过将传送块紧密地安装在晶片传送装置上来容易地改变构造。 规定：处理站（3）在上下方向安装处理单元。 盒式安装台（12）装载用于容纳晶片的盒。 晶片转移装置（21）设置在处理站和盒安装台之间。 运输箱（22）以多级安装运输单元。 晶片传送装置包括第一传送臂和第二传送臂。

公开(公告)号：KR101930555B1

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：KR1020120105203

申请日：2012-09-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 에노끼다스구루 ,  나까하라다마사히로 ,  기야마히데까즈 ,  이이다나루아끼 ,  미야따아끼라

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  B25J9/16 ,  G06F19/00

Abstract: 본 발명의 과제는 기판 처리 시스템의 풋프린트를 작게 하는 것이다.
복수의 처리 유닛이 상하 방향으로 다단으로 설치된 처리 스테이션(3)과, 복수매의 웨이퍼(W)를 수용하는 카세트를 적재하는 카세트 적재대(12)와, 처리 스테이션(3)과 카세트 적재대(12) 사이에 배치된 웨이퍼 반송 기구(21)를 구비한 기판 처리 시스템(1)에 있어서, 처리 스테이션(3)과 웨이퍼 반송 기구(21) 사이에는 카세트 적재대(12)와 처리 스테이션(3) 사이에서 반송되는 웨이퍼 및 각 처리 유닛의 각 단 사이에서 반송되는 기판을 일시적으로 수용하는 복수의 전달 유닛이 다단으로 설치된 전달 블록(22)이 배치되어 있다. 웨이퍼 반송 기구(21)는 카세트 적재대(12)와 전달 블록(22) 사이에서 웨이퍼를 반송하는 제1 반송 아암과, 전달 유닛의 각 단 사이에서 웨이퍼를 반송하는 제2 반송 아암을 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR101776964B1

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：KR1020110074464

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  도오끼유이찌 ,  미야따아끼라 ,  야마모또유우이찌 ,  요시하라고오스께 ,  마쯔오까노부아끼 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67745

Abstract: 본발명의과제는도포, 현상장치의처리량의저하를억제하는동시에, 장치의설치면적을억제할수 있는기술을제공하는것이다. 처리블록은캐리어블록측의가열계의블록과, 액처리계의단위블록군과, 인터페이스블록측의가열블록을캐리어블록측으로부터인터페이스블록측으로이 순서로배치하고, 상기액 처리계의단위블록군은반사방지막용의단위블록과, 레지스트막용의단위블록과, 상층막용의단위블록을이 순서로상측에적층한도포막용의단위블록군과, 이도포막용의단위블록군에대하여서로상하로적층된현상용의단위블록으로구성되고, 액처리계의각 단위블록에서액 처리모듈은기판의반송로의좌우양측에배치되도록장치를구성한다.

Abstract translation: 本发明要解决的问题是提供一种技术，该技术能够抑制涂布和显影设备的生产量的降低并且抑制设备的安装面积。 处理块从载体块侧向接口块侧依次包括载体块侧的加热块，液体处理系统上的单元块组和接口块侧的加热块， 在上侧依次层叠抗反射膜用单位块，抗蚀剂膜用单位块，上位膜用单位块，上位层用单位块组， 并且液体处理系统的每个单元块中的液体处理模块布置在基板的传送路径的右侧和左侧。

公开(公告)号：KR101769166B1

公开(公告)日：2017-08-17

申请号：KR1020120037260

申请日：2012-04-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/42

Abstract: 본발명의과제는, 기판마다외경치수가변동된경우라도, 기판의주변부에있어서의도포막을제거하는영역의폭 치수를일정하게할 수있는기판처리방법을제공하는것이다. 표면에도포막이형성된기판을회전시킨상태에서, 기판의주변부의표면에린스액공급부(80)에의해린스액을공급함으로써, 린스액을공급한위치의도포막을선택적으로제거하는기판처리방법에있어서, 기판을미리기판반송부(A3)에의해반송할때에, 기판반송부(A3)에설치된검출부(5)에의해, 기판의주변부의위치를검출하고, 검출한위치에기초하여, 주변부의표면에린스액을공급할때의린스액공급부(80)의위치를결정한다.

Abstract translation: 本发明的目的，即使在外径从衬底变化，以提供能够在区域的恒定宽度的基板处理方法，以除去涂膜中的基板的周边部。 在其中基底覆盖膜的旋转形成的表面，通过由清洗液供给部80供给冲洗液体到衬底的周边部分的表面上，在选择性地去除所述冲洗液的基板处理方法的状态下的位置供给膜施加 太阳到检测器5被安装在由基片运输，所述基板搬送单元（A3）在预先在基板搬送部（A3），以检测该基板的周边部分的基于所检测的位置的位置，周边部分的时间 它决定了冲洗液供给部80的位置向冲洗液供给到该表面。