기판 처리 시스템
    1.
    发明公开
    기판 처리 시스템 审中-实审
    基板加工系统

    公开(公告)号:KR1020150114415A

    公开(公告)日:2015-10-12

    申请号:KR1020150043378

    申请日:2015-03-27

    Abstract: 본발명은유기발광다이오드의유기층을기판상에효율적으로형성하는것을목적으로한다. 소성장치(132), 온도조절장치(134) 및기판반송장치(122)는, 각각, 내부의분위기가, 대기보다낮은미리정해진산소농도, 또한대기보다낮은미리정해진이슬점온도의분위기로유지되는처리용기(200, 300, 400)와, 처리용기(200, 300, 400) 내에불활성가스를공급하는가스공급부(240, 320, 420)와, 처리용기(200, 300, 400) 내를배기하는배기부(250, 330, 430)와, 처리용기(200, 300, 400) 내의분위기중의산소와수분을제거하는정제기(263, 341, 441)를구비하고, 상기정제기(263, 341, 441)로정제된분위기를처리용기(200, 300, 400) 내로되돌리는가스순환시스템(260, 340, 440)을갖는다.

    Abstract translation: 本发明的目的是在衬底上有效地形成有机LED的有机层。 本发明包括:固化装置(132),温度调节装置(34)和分别具有保持气氛的处理容器(200,300,400)的基板转移装置,其中保持内部气氛以具有预定的 比空气低的氧浓度和低于空气的预定露点温度; 向处理容器(200,300,400)供应惰性气体的气体供应单元(240,320,420); 排出处理容器(200,300,400)内的空气的排气单元(250,330,430); 消除处理容器(200,300,400)中的气氛的氧气和湿气的精炼机(263,341,441); 气体循环系统(260,340,440)将由精炼机(263,341,441)精炼的气氛返回到处理容器(200,300,400)。

    열처리 장치, 열처리 방법, 컴퓨터 기억 매체 및 기판 처리 시스템
    2.
    发明公开
    열처리 장치, 열처리 방법, 컴퓨터 기억 매체 및 기판 처리 시스템 审中-实审
    热处理设备,热处理方法,计算机存储介质和基板处理系统

    公开(公告)号:KR1020150114410A

    公开(公告)日:2015-10-12

    申请号:KR1020150042450

    申请日:2015-03-26

    Abstract: 본발명은유기발광다이오드의유기층을기판상에효율적으로형성하는것을목적으로한다. 제1 운전모드에서는, 제1 가스공급부(240)로부터처리용기(200) 내에질소가스를공급하고, 제1 배기부(250)에의해처리용기(200) 내를배기하며, 상기처리용기(200) 내의분위기를질소가스로치환하여, 대기보다산소농도가낮고, 또한대기보다이슬점온도가낮은분위기로한다. 제2 운전모드에서는, 제1 가스공급부(240)로부터의질소가스의공급을정지하고, 제1 가스순환시스템(260)을이용하여, 정제기(263)로정제된분위기를처리용기(200) 내로되돌리며, 처리용기(200) 내의분위기를미리정해진산소농도또한미리정해진이슬점온도로유지한다.

    Abstract translation: 本发明的目的是在衬底上有效地形成有机LED的有机层。 本发明包括:第一驱动模式,其中从第一气体供给部分(240)向处理容器(200)内供给氮气,处理容器(200)内部的气体通过第一排气部(250)排出 ),并且处理容器(200)内的气氛被氮气置换,从而具有比处理容器外面的气氛低的氧浓度和较低的露点温度; 和第二驱动器,其中停止从第一供应部分(240)供应的氮气,通过精炼机(263)将精炼气氛通过使用第一气体循环系统返回到处理容器(200)的内部 (260),从而将处理容器(200)内的气氛维持在规定的氧浓度和露点温度。

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