액처리 장치
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:KR102255943B1

    公开(公告)日:2021-05-24

    申请号:KR1020140107729

    申请日:2014-08-19

    Abstract: 본발명은유량조절용제어밸브로부터발생할수 있는파티클이기판에공급되지않도록하는것을목적으로한다. 액처리장치는, 처리액공급원(2)으로부터펌프(6)에의해가압된처리액이보내어지는제1 라인(4)과, 제1 라인을흐르는가압된처리액이유입되는복수의제2 라인(21)과, 각제2 라인상의분기점(25)에접속된분기라인(26)과, 각분기라인을통해공급되는처리액에의해기판을처리하는액처리유닛(29)과, 각제2 라인상의분기점보다상류측에설치된오리피스(23)와, 각제2 라인상의분기점보다하류측에설치된제1 제어밸브(24)를구비한다. 제1 제어밸브는제1 제어밸브보다하류측으로흐르는처리액의양을변화시킴으로써, 제2 라인의오리피스와제1 제어밸브사이의구간내의처리액의압력(P2)을제어하여, 액처리유닛에공급되는처리액유량을제어한다.

    액처리 장치
    2.
    发明公开
    액처리 장치 审中-实审
    液体加工设备

    公开(公告)号:KR1020150022687A

    公开(公告)日:2015-03-04

    申请号:KR1020140107729

    申请日:2014-08-19

    CPC classification number: G05D7/0664 H01L21/67017 Y10T137/85986

    Abstract: 본 발명은 유량 조절용 제어 밸브로부터 발생할 수 있는 파티클이 기판에 공급되지 않도록 하는 것을 목적으로 한다.
    액처리 장치는, 처리액 공급원(2)으로부터 펌프(6)에 의해 가압된 처리액이 보내어지는 제1 라인(4)과, 제1 라인을 흐르는 가압된 처리액이 유입되는 복수의 제2 라인(21)과, 각 제2 라인 상의 분기점(25)에 접속된 분기 라인(26)과, 각 분기 라인을 통해 공급되는 처리액에 의해 기판을 처리하는 액처리 유닛(29)과, 각 제2 라인 상의 분기점보다 상류측에 설치된 오리피스(23)와, 각 제2 라인 상의 분기점보다 하류측에 설치된 제1 제어 밸브(24)를 구비한다. 제1 제어 밸브는 제1 제어 밸브보다 하류측으로 흐르는 처리액의 양을 변화시킴으로써, 제2 라인의 오리피스와 제1 제어 밸브 사이의 구간 내의 처리액의 압력(P
    2 )을 제어하여, 액처리 유닛에 공급되는 처리액 유량을 제어한다.

    Abstract translation: 本发明的目的是防止从用于流量调节的控制阀产生的颗粒被供应到基板。 液体处理装置包括:第一管线(4),用于从处理液体供应源(2)发送由泵(6)加压的处理液体; 多个第二管线(21),其中在第一管线中流动的加压处理液体流入其中; 分支线(26),其连接到第二线中的分支点(25); 液体处理单元(29),用于通过通过每条分支线提供的处理液来处理基板; 孔口(23)安装在第二线路的每条分支线路的上游; 以及安装在第二线的每个分支点下游的第一控制值(24)。 第一控制值通过调节流向下游的处理液的量来控制通过控制第二管线和第一阀中的孔之间的部分中的处理液的压力来控制供给液体处理单元的处理液的流量 从第一个控制阀。

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