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公开(公告)号：KR1020130035195A
公开(公告)日：2013-04-08
申请号：KR1020120104503
申请日：2012-09-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 나카시마미키오
CPC classification number: F26B3/00 , H01L21/67017 , H01L21/67034 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , H01L21/67057 , H01L21/67098
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to easily transfer raw materials by dropping liquid materials to a heated part of an external container. CONSTITUTION: A substrate is dried in a processing container(1) using fluid of a high temperature and high pressure. A raw material receiving unit(3) receives liquid materials. A supply unit(2) supplies the fluid of the high temperature and the high pressure to the processing container. An external container(21) is heated by a heating device(25). An internal container(22) drops the raw materials to a heated part of the external container. [Reference numerals] (6) Control unit; (AA) Pretreatment facilities; (BB,CC) Coolant; (DD) Receiving IPA; (W) Wafer;
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，通过将液体材料滴加到外部容器的加热部分来容易地转移原料。 构成：使用高温高压的流体在处理容器（1）中干燥基板。 原料接收单元（3）接收液体材料。 供给单元（2）将高温高压的流体供给到处理容器。 外部容器（21）由加热装置（25）加热。 内部容器（22）将原料滴入外部容器的加热部分。 （附图标记）（6）控制单元; （AA）预处理设施; （BB，CC）冷却液; （DD）接收IPA; （W）晶圆;
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公开(公告)号：KR1020120119995A
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：KR1020120022230
申请日：2012-03-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67126 , H01L21/6719
Abstract: PURPOSE: A processing device is provided to secure the airtightness of a processing container by installing a seal member to surround a transfer part of the processing container. CONSTITUTION: A processing chamber(2) includes a pressure resistant container with a flat rectangular parallelepiped shape. A wafer holder(21) forms a substrate holding unit to hold a wafer. An opening part(22) is formed on the front surface of the processing chamber to input the wafer. A transfer part(31) transfers the wafer to a processing space(20) of the processing chamber. A groove part is formed with a ring shape to surround the transfer part.
Abstract translation: 目的：提供一种处理装置，用于通过安装密封件来包围处理容器的转印部分来确保处理容器的气密性。 构成：处理室（2）包括具有平坦的长方体形状的耐压容器。 晶片保持器（21）形成用于保持晶片的基板保持单元。 在处理室的前表面上形成开口部分（22）以输入晶片。 传送部件（31）将晶片传送到处理室的处理空间（20）。 凹槽部分形成为围绕转印部分的环形。
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公开(公告)号：KR102255943B1
公开(公告)日：2021-05-24
申请号：KR1020140107729
申请日：2014-08-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/302
Abstract: 본발명은유량조절용제어밸브로부터발생할수 있는파티클이기판에공급되지않도록하는것을목적으로한다. 액처리장치는, 처리액공급원(2)으로부터펌프(6)에의해가압된처리액이보내어지는제1 라인(4)과, 제1 라인을흐르는가압된처리액이유입되는복수의제2 라인(21)과, 각제2 라인상의분기점(25)에접속된분기라인(26)과, 각분기라인을통해공급되는처리액에의해기판을처리하는액처리유닛(29)과, 각제2 라인상의분기점보다상류측에설치된오리피스(23)와, 각제2 라인상의분기점보다하류측에설치된제1 제어밸브(24)를구비한다. 제1 제어밸브는제1 제어밸브보다하류측으로흐르는처리액의양을변화시킴으로써, 제2 라인의오리피스와제1 제어밸브사이의구간내의처리액의압력(P2)을제어하여, 액처리유닛에공급되는처리액유량을제어한다.
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公开(公告)号：KR101671533B1
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：KR1020110085634
申请日：2011-08-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/04 , H01L21/02101 , H01L21/67017 , H01L21/6719
Abstract: 본발명은, 고압유체를사용한피처리기판의처리를행할때에, 이처리가이루어지는처리용기에설치된배관을통한다른기기에의고압유체의유입을방지할수 있는기판처리장치등을제공하는것을과제로한다. 처리용기(31)에서는, 초임계상태또는아임계상태인고압유체에의해, 피처리기판(W)에대하여처리를하고, 이처리용기(31)에는유체의유동방향으로제1 배관부재(71) 및제2 배관부재(72)로분할되어, 유체가통류하는배관(406, 408, 411)이접속되어있다. 접속분리기구(70)는, 제1 배관부재(71)와제2 배관부재(72)를서로접속하는위치와이격시키는위치사이에서, 이들제1, 제2 배관부재(71, 72) 중적어도한쪽측을이동시키고, 개폐밸브(741, 742)는제1, 제2 배관부재(71, 72)에각각설치되어, 이들배관부재(71, 72)를이격시킬때에닫힌다.
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公开(公告)号：KR1020150022687A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：KR1020140107729
申请日：2014-08-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/302
CPC classification number: G05D7/0664 , H01L21/67017 , Y10T137/85986
Abstract: 본 발명은 유량 조절용 제어 밸브로부터 발생할 수 있는 파티클이 기판에 공급되지 않도록 하는 것을 목적으로 한다.
액처리 장치는, 처리액 공급원(2)으로부터 펌프(6)에 의해 가압된 처리액이 보내어지는 제1 라인(4)과, 제1 라인을 흐르는 가압된 처리액이 유입되는 복수의 제2 라인(21)과, 각 제2 라인 상의 분기점(25)에 접속된 분기 라인(26)과, 각 분기 라인을 통해 공급되는 처리액에 의해 기판을 처리하는 액처리 유닛(29)과, 각 제2 라인 상의 분기점보다 상류측에 설치된 오리피스(23)와, 각 제2 라인 상의 분기점보다 하류측에 설치된 제1 제어 밸브(24)를 구비한다. 제1 제어 밸브는 제1 제어 밸브보다 하류측으로 흐르는 처리액의 양을 변화시킴으로써, 제2 라인의 오리피스와 제1 제어 밸브 사이의 구간 내의 처리액의 압력(P
2 )을 제어하여, 액처리 유닛에 공급되는 처리액 유량을 제어한다.Abstract translation: 本发明的目的是防止从用于流量调节的控制阀产生的颗粒被供应到基板。 液体处理装置包括：第一管线（4），用于从处理液体供应源（2）发送由泵（6）加压的处理液体; 多个第二管线（21），其中在第一管线中流动的加压处理液体流入其中; 分支线（26），其连接到第二线中的分支点（25）; 液体处理单元（29），用于通过通过每条分支线提供的处理液来处理基板; 孔口（23）安装在第二线路的每条分支线路的上游; 以及安装在第二线的每个分支点下游的第一控制值（24）。 第一控制值通过调节流向下游的处理液的量来控制通过控制第二管线和第一阀中的孔之间的部分中的处理液的压力来控制供给液体处理单元的处理液的流量 从第一个控制阀。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101391383B1
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：KR1020090078190
申请日：2009-08-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304 , H01L21/02
Abstract: 증기발생기(10)는, 유로관(14, 16, 18)과, 유로관(14)의일단에유기용제의액체를공급하는액체유기용제공급부(30)와, 유로관(14, 16, 18)을가열하는가열부(20, 22, 24)를구비하고있다. 유로관(14, 16, 18)은, 일단으로부터타단을향해갈수록그 단면적이커지도록구성되어있다. 유로관(14)의일단에공급된유기용제의액체가가열되어유로관(18)의타단으로부터유기용제의증기가유출되도록되어있다. 기판처리장치(60)는, 전술한증기발생기(10)를구비하고있다.
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公开(公告)号：KR1020100029029A
公开(公告)日：2010-03-15
申请号：KR1020090078190
申请日：2009-08-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304 , H01L21/02
Abstract: PURPOSE: A steam generator, a steam vapor generation method, and a substrate processing apparatus are provided so that the concentration of the steam vapor of the organic solvent which becomes can be enhanced. The heating of the organic solvent can be done efficiently. CONSTITUTION: A steam generator, and a steam vapor generation method comprises pipe lines(14, 16, 18), a liquid organic solvent supply part, and a heating portion. The pipe line prepares inside the columnar container. The organic solvent which has to be heated flows. Supplies the liquid of the organic solvent to the liquid organic solvent supply part is one end of the pipe line. The heating portion heats the pipe line.
Abstract translation: 目的：提供一种蒸汽发生器，蒸气产生方法以及基板处理装置，能够提高成为有机溶剂的蒸气蒸气的浓度。 有机溶剂的加热可以有效地进行。 构成：蒸汽发生器和蒸气产生方法，包括管道（14,16,18），液体有机溶剂供应部分和加热部分。 管线准备在柱状容器内。 必须加热的有机溶剂流过。 将有机溶剂的液体供应到液体有机溶剂供应部分是管道的一端。 加热部分加热管道。
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公开(公告)号：KR1020070006558A
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：KR1020060059168
申请日：2006-06-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: F24H1/101 , F24H1/162 , F28F2245/06
Abstract: A fluid heating apparatus is provided to prevent corrosion of a passage pipe due to fluid containing chemicals, thereby improving lifespan and reliability of the apparatus. A fluid heating apparatus includes a heat source lamp(23), and a passage pipe(26). The passage pipe surrounds the heat source lamp, and has an inlet port(24) and an outlet port(25). The inlet port is formed at one end to introduce fluid to be heated. The outlet port is formed at the other end to discharge the fluid to be heated. A radiant light absorption paint is applied onto a surface of the passage pipe opposite to the heat source lamp. The passage pipe is formed of a chemical-resistance synthetic resin. The fluid heating apparatus further includes a heat conductive member coated on a surface of the passage pipe. The radiant light absorption paint is applied on the heat conductive member.
Abstract translation: 提供流体加热装置以防止由于含有化学物质的流体导致的通道管的腐蚀，从而提高了设备的寿命和可靠性。 流体加热装置包括热源灯（23）和通道管（26）。 通道管围绕热源灯，并具有入口（24）和出口（25）。 入口在一端形成以引入待加热的流体。 出口形成在另一端，以排出被加热流体。 辐射光吸收涂料施加到与热源灯相对的通道管的表面上。 通道管由耐化学性合成树脂形成。 流体加热装置还包括涂覆在通道管的表面上的导热构件。 辐射光吸收涂料施加在导热构件上。
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公开(公告)号：KR101682740B1
公开(公告)日：2016-12-05
申请号：KR1020120104503
申请日：2012-09-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 나카시마미키오
CPC classification number: F26B3/00 , H01L21/67017 , H01L21/67034
Abstract: 본발명은고온고압유체를준비하는용기의급격한압력변동을억제하여, 간소한방법으로액체원료를이송할수 있는기판처리장치를제공하는것을목적으로한다. 기판처리장치는, 고온고압유체에의해기판(W)을건조하기위한처리용기(1)와, 액체상태의원료를수용하는원료수용부(3)와, 고온고압유체를처리용기(1)에공급하기위한공급부(2)를구비하고, 이공급부(2)는, 상기처리용기(1) 및원료수용부(3)에접속되며, 밀폐가능한외부용기(21)와, 이외부용기(21)를가열하기위한가열기구(25)와, 외부용기(21) 내에설치되고, 원료수용부(3)로부터원료를받아들여, 가열기구(25)에의해가열되는외부용기(21)의피가열부를향해이 원료를낙하시키기위한개공부(221)가형성된내부용기(22)를구비하고, 내부용기(22)에원료를수용한후, 이원료를상기피가열부에접촉시켜얻어진고온고압유체를처리용기(1)에공급한다.
Abstract translation: 提供了包括使用高温高压流体干燥基板W的处理室，容纳液态原料的原料容纳单元以及向处理室供给高温高压流体的供给单元的基板处理装置。 供给单元包括连接到处理室和原料容纳单元的可密封外部容器，以及设置在外部容器内并构造成容纳原料的内部容器。 内部容器设置有开口孔部分，其构造成将原材料朝向要加热的外部容器的一部分下落。 在原料容纳在内容器中之后，原料与待加热部分接触，然后加热。 然后获得高温和高压流体并将其供应到处理室。
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公开(公告)号：KR1020150069524A
公开(公告)日：2015-06-23
申请号：KR1020140174014
申请日：2014-12-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 나카시마미키오
IPC: H01L21/02
Abstract: 본발명은복수종류의처리액중, 적어도온도조정된처리액을안정된온도상태로공급하는것이가능한전환밸브등을제공하는것을목적으로한다. 전환밸브(8)의본체부(81)의불출구(拂出口; 802)로부터는, 복수의처리액이전환하여불출되고, 제1 수용구(801) 및제2 수용구(803)는, 제1 처리액및 제2 처리액을각각받아들인다. 제1 유로(83a∼83d)는제1 수용구(801)와불출구(802)를접속하고, 상류단이제2 수용구(803)에접속된제2 유로(84a∼84c)는, 제1 유로(83c)에합류한다. 제1 밸브체부(821)는, 제1 유로(83c)와제2 유로(84c)가합류하는합류부보다상류측에설치된제1 밸브시트를개폐하고, 제2 밸브체부(822)는제2 유로(84b)에설치된제2 밸브시트를개폐한다. 또한, 리사이클유로(85a)는, 제1 밸브시트보다상류측으로부터분기되고, 제1 처리액을배출하는배출구(804)에접속된다.
Abstract translation: 本发明的目的是提供一种切换阀，其能够在稳定的温度下为多种处理液的调节温度供给处理液。 切换阀（8）包括：主体（81），包括排出口（802），多种处理液从该排出口排出; 接收第一处理液体和第二处理液体的第一和第二容纳口（801,803） 连接第一容纳口（801）和排出口（802）的第一通道（83a-83d） 第二通道（84a-84c）具有与第二容纳口（803）连接并与第一通道（83c）连接的上端; 第一阀单元（821），其打开安装在第一通道（83c）和第二通道（84c）相交的接合单元的上侧的第一阀板; 打开和关闭安装在第二通道（84b）上的第二阀片的第二阀单元（822）; 以及从第一阀片的上侧分支并与排出第一处理液体的出口（804）连接的再循环通道（85a）。
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