公开(公告)号：KR1020050054985A

公开(公告)日：2005-06-10

申请号：KR1020057005631

申请日：2003-09-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 델프디에나 ,  첸리

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01J37/32

Abstract: A method and system for analyzing multivariate data of plasma processes in which response surface and neural networks are utilized to improve or find optimal process settings of the plasma process such that performance measurements are compared against model measurements to modify a current plasma process to achieve optimized processing performance.

Abstract translation: 一种用于分析等离子体过程的多变量数据的方法和系统，其中使用响应面和神经网络来改善或找到等离子体处理的最佳过程设置，使得将性能测量与模型测量进行比较以修改当前等离子体处理以实现优化处理 性能。

公开(公告)号：KR101027183B1

公开(公告)日：2011-04-05

申请号：KR1020057005631

申请日：2003-09-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 델프디에나 ,  첸리

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01J37/32

Abstract: 본 발명은, 응답 표면 및 뉴럴 네트워크들을 플라즈마 프로세스의 최적의 프로세스 세팅들을 개선하거나 찾아내는데 이용해서, 성능 측정값들과 모델 측정값을 비교하여 현재 플라즈마 프로세스를 수정함으로써 최적화된 처리 성능을 달성하는 플라즈마 프로세스들의 다변 데이터를 분석하는 시스템 및 방법을 제공한다.