公开(公告)号：KR101389632B1

公开(公告)日：2014-04-29

申请号：KR1020090021086

申请日：2009-03-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시끼도슈우이찌 ,  요시따까나오또 ,  기따노다까히로 ,  도꾸나가요오이찌

IPC: H01L21/302

Abstract: 본 발명의 과제는 기판 세정 장치에 있어서 기판의 생산성을 향상시키는 것이다.
본 발명의 기판 세정 장치는 세정 부재에 의해 기판을 세정하는 위치로부터 이격되어 설치되고, 그 하면이 브러시부와 접촉하여 당해 브러시부를 세정하는 세정면으로서 형성된 브러시 세정체와, 세정 부재를, 기판을 세정하는 영역과 브러시 세정체에 의해 브러시부가 세정되는 영역 사이에서 이동시키는 이동 수단과, 브러시 세정체의 하면에 세정 부재의 브러시부를 압박하여, 브러시 세정체와 세정 부재를 상대적으로 회전시키기 위한 수단과, 브러시 세정체와 브러시 부재를 상대적으로 회전시키고 있을 때에 브러시 세정체의 하면과 브러시부 사이에 세정액을 공급하는 세정액 공급 수단을 구비한다.
기판 세정 장치, 기억 매체, 반도체 웨이퍼, 스핀 척, 세정 브러시

公开(公告)号：KR1020090098711A

公开(公告)日：2009-09-17

申请号：KR1020090021086

申请日：2009-03-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시끼도슈우이찌 ,  요시따까나오또 ,  기따노다까히로 ,  도꾸나가요오이찌

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67046 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30

Abstract: A substrate cleaning apparatus, a substrate cleaning method, and a memory media are provided to clean a cleaning member at a short time by cleaning a brush part through rotation of the cleaning member and a brush cleaning body. A substrate is horizontally rotated by a rotation maintenance unit. While a cleaning solution is supplied to a rear surface of the substrate, the rear surface of the substrate is cleaned by contacting a brush part(5) of a cleaning member(50). A glass substrate(6) is installed in an under cup(43) of a box shape in which a top surface is opened. A moving unit moves the cleaning member between a region for cleaning the substrate and a region in which the brush part is cleaned. A cleaning solution supply unit supplies the cleaning solution between a bottom surface of the brush cleaning body and the brush part. The number of rotations of the brush part is more than 200rpm.

Abstract translation: 提供基板清洗装置，基板清洁方法和存储介质，以通过清洁部件和刷子清洁体的旋转来清洁刷子部分来在短时间内清洁清洁部件。 基板由旋转维护单元水平旋转。 当将清洁溶液供应到基板的后表面时，通过接触清洁部件（50）的刷部（5）来清洁基板的后表面。 玻璃基板（6）安装在其顶部表面打开的盒形的底杯（43）内。 移动单元将清洁构件移动到用于清洁基板的区域和清洁刷子部分的区域之间。 清洁溶液供应单元将清洁溶液提供在刷清洁体的底表面和刷部分之间。 电刷部分的转数大于200rpm。