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公开(公告)号：KR1020010030215A
公开(公告)日：2001-04-16
申请号：KR1020000051477
申请日：2000-09-01
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67253 , G03F7/162 , G03F7/3021 , G03F7/3028
Abstract: PURPOSE: A substrate treatment system and substrate treatment is provided to maintain the thickness of a coating film with a specified thickness at the minimum cost of equipment without complicating a coating equipment. The system is also provided to keep the standard of photoregist with a specified standard regardless of the change of pressure. CONSTITUTION: In an FAB(2) having a plurality of developing treatment apparatuses(1) atmospheric pressure is measured with a barometer(3) disposed in the FAB(2), and the measured value is transferred to the respective developing treatment apparatuses(1) via a host computer(4). In the respective developing treatment apparatuses(1), the number of revolution of a substrate in a resist liquid coating unit is adjusted based on the measured value, only in the case that a value of atmospheric pressure exceeds a specified allowable value which is previously set regarding each kind of chemical liquid.
Abstract translation: 目的：提供基板处理系统和基板处理，以设备的最低成本保持具有规定厚度的涂膜的厚度，而不会使涂布设备复杂化。 还提供该系统，以保持光刻胶的标准具有指定的标准，而不管压力的变化。 构成：在具有多个显影处理装置（1）的FAB（2）中，通过设置在FAB（2）中的气压计（3）测定大气压，将测定值转印到各显影处理装置（1） ）通过主计算机（4）。 在各显影处理装置（1）中，仅在大气压值超过预先设定的规定容许值的情况下，基于测定值来调整抗蚀剂液体涂布单元中的基板的转数 关于各种化学液体。
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公开(公告)号：KR100676545B1
公开(公告)日：2007-01-30
申请号：KR1020000051477
申请日：2000-09-01
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67253 , G03F7/162 , G03F7/3021 , G03F7/3028
Abstract: 복수의 현상처리장치를 갖는 FAB에 있어서, FAB내에 설치된 기압계로 기압을 측정하고, 그 측정치는 호스트 컴퓨터를 통하여 각 현상처리장치에 보내진다.
각 현상처리장치에서는, 그 값을 토대로, 그 기압치가 미리 약액의 종류마다 설정되어 있는 소정의 허용치를 넘었을 경우에만, 레지스트액 도포 유니트의 기판 회전수를 조정한다. 이것에 의해, 장치를 번잡하게 하는 것 없이 설비투자를 최소한으로 억제하여, 기판의 도포막을 소정의 막 두께로 유지할 수 있다.Abstract translation: 在具有多个显影处理装置的FAB中，利用安装在FAB中的气压计测量大气压力，并且经由主计算机将测量值发送到各个显影处理装置。
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