公开(公告)号：KR1020160047394A

公开(公告)日：2016-05-02

申请号：KR1020150144634

申请日：2015-10-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이노우에시게히사 ,  히가시지마지로 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B13/0228 ,  B05B15/50 ,  B05B15/55 ,  B05B15/70 ,  B08B3/02 ,  B08B3/04 ,  B08B3/12

Abstract: 본발명은장치내의오염을억제하면서노즐아암을청정한상태로유지하는것이가능한기판액처리장치를제공하는것을과제로한다. 기판액처리장치(16)에있어서, 노즐아암(42, 43)에유지된처리액노즐(41)은기판유지부(31)에유지된기판(W)에처리액을공급하고, 아암세정조(23)는노즐아암(42, 43)을세정액속에침지시켜이들부재의전체면를세정한다.

Abstract translation: 本发明提供一种用于处理具有液体的基板的装置，其能够将喷嘴臂保持清洁，同时抑制装置内的污染。 在用液体处理基板的设备（16）中，保持在喷嘴臂（42,43）中的处理液喷嘴（41）将处理液体供应到保持在基板保持单元（31）中的基板（W），并且 手臂清洁桶（23）将喷嘴臂（42,43）浸入清洁液中并清洁喷嘴臂的构件的整个表面。

公开(公告)号：KR101258781B1

公开(公告)日：2013-04-29

申请号：KR1020110106340

申请日：2011-10-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ; BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种涂布显影装置及其方法，其包括作为用于在处理块（S2）上形成涂膜的单位块的TCT层（B3）; COT层B4; 作为用于显影处理的单位块的BCT层B5和DEV层B1（B2）彼此堆叠。 在TCT层B3中也包括形成防反射膜的情况和未形成防反射膜的情况; COT层B4; 通过选择在BCT层（B5）中使用的单位块响应，并且抑制传输程序的复杂性时，它能够实现软件的简化。

公开(公告)号：KR101088541B1

公开(公告)日：2011-12-05

申请号：KR1020060083557

申请日：2006-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  아키모토마사미 ,  키타노타카히로 ,  키무라요시오 ,  하야시신이치 ,  이토우히카루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/324

CPC classification number: C30B33/02 ,  C30B35/00 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67748

Abstract: 본 발명은 가열장치 및 도포, 현상장치에 관한 것으로서 가열 장치 (2)는 프레임체 (20)과 프레임체 (20)내에 설치되어 기판인 웨이퍼 (W)를 가열 처리함과 동시에 한쪽측이 웨이퍼 (W)를 반입출 하기 위해서 개구하는 편평한 가열실 (4)와 상기 웨이퍼 (W)를 윗쪽측 및 아래쪽측으로부터 가열하도록 상기 가열실 (4)에 설치된 열판 (44,45)를 구비하고 있다. 상기 프레임체 (20)내에 상기 가열실 (4)의 개구 측에 인접하도록 열판 (44,45)로 가열된 웨이퍼 (W)를 냉각하기 위한 냉각 플레이트 (3)이 설치되고 있다. 상기 프레임체 (20)내에 상기 웨이퍼 (W)를 냉각 플레이트 (3)의 윗쪽측의 위치와 가열실 (4)의 내부의 사이에 반송하고 상기 가열실 (4)내에서 웨이퍼 (W)를 보지한 상태로 기판의 가열 처리를 행하기 위한 반송 수단이 설치되고 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101061651B1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：KR1020070001565

申请日：2007-01-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  이이다나루아키 ,  이나도미히로아키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: F27B17/0025 ,  F27B5/04 ,  F27D5/0037 ,  F27D15/02 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67784 ,  Y10S414/139

Abstract: 본 발명은 가열장치 및 가열방법에 관한 것으로서 가열 장치 (2)에서는 냉각 플레이트 (3) 및 열판 (6)에 웨이퍼 (W)의 이동로에 따라서 웨이퍼 (W)의 이동로의 냉각 플레이트 (3) 측에 향하여 윗쪽 비스듬하게 기판 부상용의 기체를 토출출 구멍 (3a, 6a)를 형성하고 상기 토출구멍 (3a, 6a)로부터의 기체의 토출에 의해 웨이퍼 (W)가 가동하려고 하는 누르는 힘에 저항하여 누름 부재 (51)에 의해 웨이퍼 (W)의 이동시의 후방측을 눌러 기체의 토출 방향과는 반대측인 열판 (6) 측에 웨이퍼 (W)를 이동시키고 또 상기 토출구멍 (3a, 6a)로부터의 기체의 토출에 의해 웨이퍼 (W)의 이동시의 전방측이 누름 부재 (51)을 누르는, 그리고, 상기 누름 부재 (51)을 기체의 토출 방향과 동일한 방향인 냉각 플레이트 (3)측에 이동시키는 냉각 플레이트와 열판을 구비한 가열 장치에 있어서 기체에 의해 기판을 냉각 플레이트 및 열판으로부터 부상시켜 기판을 수평 방향으로 이동시키는 것으로, 냉각 플레이트판과의 사이에 기판을 이동시켜 가열 장치의 박형화를 도모하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明根据在冷却板3上的晶片（W）的运动和加热板涉及的加热装置和加热方法的加热装置2，冷却板3，以将晶片（W）的移动（6） 形成用于气体的土壤饿孔（3α，6α）用于朝向对晶片（W）由气体的排出的挤压力的一侧斜上方基板部分从所述排出口（3α，6α）尝试操作 并从在晶片（W）的移动后侧的压和气体的排出方向被按压部件51移动在加热板（6）侧，并且还排出口（3α，6α）的相对侧上的晶片（W） 通过气体的放电移动晶片（W）的前侧按压按压构件的51，而且，对于在相同的冷却板3，方向和气体的排出方向侧的按压部件51移动 在具有冷却板和加热板的加热装置中 它被示出为向上通过气体从冷却板和热板移动在水平方向上的基板中出现的衬底，并且提供了一种技术，通过移动冷却板和板之间的衬底，以降低所述加热装置的厚度。

公开(公告)号：KR1020110036019A

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：KR1020110014015

申请日：2011-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70691

Abstract: PURPOSE: A coating and developing system is provided to properly restrain the height and the length of the apparatus while obtaining the transferring efficiency within the apparatus. CONSTITUTION: A carrier(20) accepts 13 wafers(W) in close state. A carrier block(S1) carries the carrier in to and out of the coating and developer. A processing block(S2) and an interface block(S3) implement the spreading process and the developing process on the wafer. A placement table(21) is mounted on the carrier block to place a plurality of carriers.

Abstract translation: 目的：提供一种涂层和显影系统，以在获得设备内的转印效率的同时适当地限制设备的高度和长度。 构成：载体（20）在接近状态下接受13个晶片（W）。 载体块（S1）承载载体进出涂层和显影剂。 处理块（S2）和接口块（S3）在晶片上实现扩展处理和显影处理。 放置台（21）安装在载体块上以放置多个载体。

公开(公告)号：KR100953462B1

公开(公告)日：2010-04-16

申请号：KR1020047007467

申请日：2002-12-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 테라다쇼이치 ,  요시타카나오토 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B23K26/0853 ,  B08B7/0042 ,  B23K26/146 ,  B23K26/147 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  H01L21/6838 ,  H01L23/544 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 막제거 장치는, 도포막을 가지는 기판을 보관유지하는 기판 보관유지부(60) 와,
이 기판 보관유지부 상의 기판의 얼라인먼트 마크 위치(14)에 레이저 빛을 국부적으로 조사해 도포막을 기판으로부터 부분적으로 박리시키는 레이저 광원(63)과,
얼라인먼트 마크 위치에 소정의 유체를 공급하는 주노즐(64,172,200)을 구비한 유체 공급기구(113~116, 201, 202)와,
얼라인먼트 마크 위치에 공급된 소정의 유체를 박리한 막성분과 함께 기판상에서 흡인하는 흡인구(66a,171,193)를 가지는 회수기구(90)와,
주노즐로부터 분출되는 소정의 유체를 얼라인먼트 마크 위치에 안내함과 동시에, 소정의 유체 및 박리한 막성분이 얼라인먼트 마크 위치의 주위에 확산·누설 하지 않게 회수기구의 흡인구에 안내하는 안내 부재(65,170,191)를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020070103314A

公开(公告)日：2007-10-23

申请号：KR1020070037458

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: An apparatus for treating liquid is provided to prevent a mist of treatment liquid from scattering by using a rotating cup to rotate with a substrate. An apparatus for treating liquid includes a substrate holding unit(1), a rotating cup(3), a rotating device, a liquid feed device, an exhausting unit(8), and a guiding member. The substrate holding unit(1) holds horizontally a substrate and rotates with the substrate. The rotating cup(3) encloses the substrate and rotates with the substrate. The rotating device rotates the rotating cup(3) and the substrate holding unit(1) entirely. The liquid feed device supplies treatment liquid to a surface of the substrate. The exhausting unit(8) discharges gas and liquid from the rotating cub(3) to the outside. The guiding member is mounted outside the substrate. The guiding member rotates the substrate holding unit(1) and the rotating cup(3) together. The guiding member guides the treatment liquid to the exhausting unit(8).

Abstract translation: 提供了一种用于处理液体的设备，以通过使用旋转杯与基底一起旋转来防止处理液体的雾飞散。 一种用于处理液体的设备包括：基板保持单元（1），旋转杯（3），旋转装置，液体供给装置，排气单元（8）和引导构件。 基板保持单元（1）水平地保持基板并与基板一起旋转。 旋转杯（3）封闭衬底并与衬底一起旋转。 旋转装置使旋转杯（3）和基板保持单元（1）完全旋转。 液体供给装置将处理液供给到基板的表面。 排气单元（8）将气体和液体从旋转小室（3）排出到外部。 引导构件安装在基板的外部。 引导构件将基板保持单元（1）和旋转杯（3）一起旋转。 引导构件将处理液引导到排气单元（8）。

公开(公告)号：KR1020070103310A

公开(公告)日：2007-10-23

申请号：KR1020070037375

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: A liquid treatment device is provided to suppress the bounding of mists in a processing liquid by using a rotating cup to rotate together with a substrate. A liquid treatment device includes a substrate holding portion(1), a rotating cup(3), a rotating tool, a liquid supply tool, and an exhaust and drain portion(6). The substrate holding portion(1) holds a substrate in a horizontal direction and is rotated according to a rotation of the substrate. The rotating cup(3) encloses the substrate and is rotated according to a rotation of the substrate. The rotating tool integrally rotates the rotating cup(3) and the substrate holding portion(1). The exhaust and drain portion(6) performs an exhaust and a drain of the rotating cup. The exhaust and drain portion(6) includes a drain cup for receiving a processing solution from the substrate and an exhaust cup for receiving and exhausting gas components.

Abstract translation: 提供一种液体处理装置，通过使用旋转杯与基底一起旋转来抑制加工液体中的雾的界限。 液体处理装置包括基板保持部分（1），旋转杯（3），旋转工具，液体供应工具以及排出和排出部分（6）。 基板保持部（1）在水平方向上保持基板，并且根据基板的旋转而旋转。 旋转杯（3）包围基底并且根据基底的旋转而旋转。 旋转工具一体地旋转旋转杯（3）和基板保持部（1）。 排气和排出部分（6）执行旋转杯的排气和排水。 排气和排出部分（6）包括用于从基板接收处理溶液的排水杯和用于接收和排出气体组分的排气杯。

公开(公告)号：KR100595082B1

公开(公告)日：2006-09-11

申请号：KR1019980007355

申请日：1998-03-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  요시하라고스케 ,  후쿠다유지

IPC: H01L21/027

Abstract: 피처리기판을 소정 온도로 설정하고, 소정 온도로 설정된 피처리기판을 회전시키면서 레지스트액을 기판상에 도포하여 레지스트막을 기판상에 형성하며, 레지스트막이 형성된 피처리기판을 가열하고, 이 가열처리후에 피처리기판을 소정 온도로 냉각하는 레지스트 처리방법에 있어서, 가열처리와 냉각처리와의 사이에서 피처리기판상의 레지스트막의 막두께가 측정된다.

公开(公告)号：KR1020060085188A

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：KR1020060005910

申请日：2006-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3042 ,  G03F7/70716

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ; BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모 할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.