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公开(公告)号：KR1019960002604A
公开(公告)日：1996-01-26
申请号：KR1019940012732
申请日：1994-06-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 진공처리장치는 피처리체를 처리하기 위한 진공처리실과; 진공처리실에 대하여 특정의 처리를 실시하는 처리가스를 공급하는 처리가스 공급원과; 처리가스 공급원으로 부터 진공처리실로 처리가스를 공급하는 처리가스 공급원과; 처리가스가 진공처리실로 공급될때에 가스 공급관내를 대기압보다도 낮은 압력으로 설정하는 감압수단을 구비한다.
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公开(公告)号：KR100300096B1
公开(公告)日：2001-11-30
申请号：KR1019940012732
申请日：1994-06-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 진공처리장치는 피처리체를 처리하기 위한 진공처리실과, 상기 진공처리실내에서 상기 피처리체에 대하여 처리를 실시하는 처리가스를 공급하는 처리가스 공급원과, 상기 진공처리실내를 크리닝하기 위해 CIF
3 가스를 포함하는 크리닝가스를 공급하는 크리닝가스 공급원과, 상기 처리가스 공급원으로부터 상기 처리실내로 처리가스를 공급하는 처리가스 공급배관과, 처리가 수행된 때 형성된 퇴적물을 제거하도록 상기 진공처리상기 진공처리실의 내부를 크리닝하기 위하여 상기 크리닝 가스 공급원으로부터 상기 진공처리실로 상기 크리닝가스를 공급하는 크리닝가스 공급배관과, 크리닝가스가 상기 크리닝가스 공급매관내에서 액화되는 것을 방지하기 위해, 크리닝 가스가 상기 진공처리실로 공급되는 때에 상기 크리닝가스 공급배관내를 대기압� ��다도 낮은 압력으로 유지하는 감압밸브와, 상기 크리닝가스 공급배관으로 처리가스 및 크리닝가스의 공급을 스위칭하는 수단을 구비한다.
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