公开(公告)号：KR101061922B1

公开(公告)日：2011-09-02

申请号：KR1020070053950

申请日：2007-06-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  오카무라나오유키 ,  마에다고우스케

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67196 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67253

Abstract: 처리실로부터 처리 가스를 배출하는 처리 가스 배출 관로에 마련된 다이어프램 밸브를 가지며, 다이어프램 밸브의 개방도 조절에 의해 처리실 내의 압력을 조정하는 처리 장치에 있어서, 처리 가스 배출 관로의 다이어프램 밸브의 상류 위치에 대전 방지제를 공급하는 대전 방지제 공급원을 접속한다. 다이어프램 밸브 내를 유통하는 가스와 다이어프램 밸브체와의 마찰에 의해 다이어프램 밸브체가 대전한 결과 발생하는 불꽃 방전에 의해 다이어프램 밸브체가 파손되는 것을 방지할 수 있다.

Abstract translation: 隔膜阀设置在处理气体排出管线中，用于从处理室排出处理气体，并通过调节隔膜阀的开度来调节处理室内的压力， 连接到抗静电剂的供应源。 可以防止隔膜阀体由于通过在隔膜阀中流动的气体与隔膜阀体之间的摩擦而对隔膜阀体充气而产生的火花放电而受到损坏。

公开(公告)号：KR1020070115788A

公开(公告)日：2007-12-06

申请号：KR1020070053950

申请日：2007-06-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  오카무라나오유키 ,  마에다고우스케

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67196 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67253

Abstract: A processing apparatus and a processing method are provided to prevent a pressure failure of control valve due to an electrostatic discharge and to control certainly the pressure of a process chamber. A process object is processed with a process gas in a process chamber(24). A plurality of gas flow lines include a process gas supply line(30) for supplying the process gas into the process chamber and a process gas discharge line(31) for discharging the process gas from the process chamber. A diaphragm valve is provided on one of the gas flow lines. An antistatic agent source(43) is connected to the one gas flow line at a position upstream of the diaphragm valve to supply an antistatic agent.

Abstract translation: 提供了一种处理装置和处理方法，以防止由于静电放电引起的控制阀的压力故障，并且可以肯定地控制处理室的压力。 在处理室（24）中用处理气体处理过程对象。 多个气体流路线包括用于将处理气体供给到处理室的处理气体供给管线（30）和用于从处理室排出处理气体的处理气体排出管线（31）。 其中一条气体流路上设有隔膜阀。 抗静电剂源（43）在隔膜阀上游的一个位置与一条气体流路连接，以提供抗静电剂。