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公开(公告)号：KR101974663B1
公开(公告)日：2019-09-05
申请号：KR1020130125123
申请日：2013-10-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
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公开(公告)号：KR101819952B1
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：KR1020170011934
申请日：2017-01-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67017 , B05B14/00 , B05C11/08 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B15/02 , G03F7/40 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6715
Abstract: 본발명은기판을처리액으로처리하는기판액처리장치에관한것이다. 본발명의기판액처리장치는, 기판을보지하고, 또한보지한기판을회전시키기위한기판회전기구와, 기판으로복수종류의처리액을선택적으로공급하는처리액공급기구와, 기판으로공급한후의처리액을회수하기위한회수컵과, 처리액을회수하기위하여회수컵에형성한복수의액 회수부와, 액회수부로부터회수한처리액을배출하기위하여회수컵의저부에형성한배액구와, 회수컵의배액구보다상방측에형성한배기구와, 배기구의상방을소정의간격을두고덮기위하여회수컵에고정한고정커버와, 기판으로공급한후의처리액을액 회수부로안내하기위하여고정커버의상방에서승강가능하게설치된승강컵과, 처리액의종류에따라승강컵을고정커버에대하여승강시키기위한컵 승강기구를가지고, 승강컵에는구획벽에승강가능하게삽입관통된승강로드가접속되어있고, 승강로드는컵 승강기구와접속되어있으며, 승강컵이승강할때, 배기구와고정커버와의사이의상기소정의간격은일정하게유지되어, 배기압력의변동을방지한다.
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公开(公告)号：KR1020170027295A
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：KR1020160110720
申请日：2016-08-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , H01L21/67
CPC classification number: G03F7/423
Abstract: 처리에필요한토출형태에따라토출불량없이처리유체를토출하는것이다. 실시형태에따른기판처리장치는, 노즐과배관을구비한다. 노즐은기판을향해처리유체를토출한다. 배관은노즐에처리유체를공급한다. 또한, 배관은내측으로부터차례로제 1 층, 제 2 층및 제 3 층을이루는 3 층구조를가지고, 노즐과제 1 층의선단및 제 3 층의선단이접합되고, 제 1 층의선단이제 2 층의선단보다처리유체의토출방향에대하여돌출되지않은위치에있다.
Abstract translation: 可以根据所涉及的处理的排放类型排出处理流体，而没有排出缺陷。 基板处理装置包括喷嘴和管道。 喷嘴被配置为将处理流体朝向基板排出，并且处理流体通过管道供应到喷嘴。 管线具有从其内侧开始依次具有第一层，第二层和第三层的三层结构。 此外，第一层的前端部和第三层的前端部分接合到喷嘴，并且第一层的前端部位于不比第一层的前端部突出的位置 相对于处理流体的排出方向的第二层。
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公开(公告)号：KR101583111B1
公开(公告)日：2016-01-07
申请号：KR1020120063638
申请日：2012-06-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 히가시지마지로
IPC: H01L21/302 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/6719
Abstract: 본발명은, 노즐을지지하는노즐지지아암에부착된오염에의해처리실내의기판이오염되어버리는것을방지할수 있는액처리장치및 액처리방법을제공한다. 본발명의액처리장치(10)는, 기판(W)을유지하는기판유지부(21) 및그 기판유지부(21)의주위에배치되는컵(40)이내부에설치된처리실(20)과, 기판유지부(21)에유지된기판(W)에대하여유체를공급하기위한노즐(82a)과, 노즐(82a)을지지하는노즐지지아암(82)을구비하고있다. 노즐지지아암(82)에는, 노즐지지아암(82)의선단면(82e)을향해가스를분출하는가스분출기구(75)가마련되어있다.
Abstract translation: 本发明提供一种液体处理装置和液体处理方法，其能够防止由于附着到支撑喷嘴的喷嘴支撑臂的污染而导致的处理室中的衬底污染。 本发明的液体处理装置10包括用于保持基板W的基板保持部21和配置在基板保持部21周围的杯40内的处理室20， 喷嘴82a用于向保持部21所保持的基板W供给流体，喷嘴支撑臂82用于保持喷嘴82a。 喷嘴支撑臂82设置有用于朝向喷嘴支撑臂82的端面82e喷射气体的气体喷射机构75。
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公开(公告)号：KR101551995B1
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：KR1020110127632
申请日：2011-12-01
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 히가시지마지로
IPC: H01L21/302 , H01L21/3063
CPC classification number: B08B3/04 , B08B3/041 , H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 본발명은처리실과아암대기부를구획하는벽에, 노즐지지아암이통과할수 있는개구가설치될때에, 이벽의개구를노즐지지아암에의해막음으로써처리실내의영역과아암대기부의영역을격리할수 있는액 처리장치를제공한다. 본발명의액 처리장치(10)에있어서, 처리실(20)과아암대기부(80)를구획하는벽(90)이설치되어있고, 이벽(90)의아암세정부(88)에는노즐지지아암(82)이통과할수 있는개구(88a)가마련된다. 노즐지지아암(82)은, 아암대기부(80)에대기하고있을때에이 벽(90)의아암세정부(88)의개구(88a)를막게되어있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140052849A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：KR1020130125120
申请日：2013-10-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: The present invention is to effectively suppress a processing liquid supplied to a substrate from being scattered and adhered again onto the substrate, while reducing a load on an exhaust apparatus that exhaust a cup. When a substrate W is processed, a ring-shaped cover member (5) covers a peripheral portion of the upper surface of the substrate (W) held by the substrate holding unit (3), and a central portion of the substrate located at an inner position than the peripheral portion in a radial direction is exposed without being covered by the cover member. The bottom surface (52) of the cover member forms a gap (G) between the lower surface of the cover member and the peripheral portion of the substrate held by the substrate holding member. When the interior surface of the cup (2) is exhausted through an exhaust pipe (245), a gas present above the cover member is introduced into the interior space of the cup through a space enclosed by the internal peripheral surface (51) and the gap (G).
Abstract translation: 本发明是为了有效地抑制供给到基板的处理液在再次排出并附着在基板上的同时减少排出杯的排气装置的负荷。 当处理衬底W时，环形覆盖构件（5）覆盖由衬底保持单元（3）保持的衬底（W）的上表面的周边部分，并且衬底的中心部分位于 在径向方向上的周边部分的内部位置暴露而不被盖构件覆盖。 盖构件的底面（52）在盖构件的下表面和由基板保持构件保持的基板的周边部分之间形成间隙（G）。 当杯（2）的内表面通过排气管（245）排出时，存在于盖构件上方的气体通过由内周面（51）包围的空间引入杯的内部空间，并且 间隙（G）。
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公开(公告)号：KR101371118B1
公开(公告)日：2014-03-10
申请号：KR1020100006069
申请日：2010-01-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/0209 , H01L21/31111 , H01L21/32134
Abstract: 본 발명은 고온의 약액에 의한 처리로 기판의 이면을 에칭할 때에, 에칭의 균일성을 높게 할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
기판인 웨이퍼(W)에 형성된 막을 고온 약액에 의한 에칭으로 제거하는 약액 처리 장치(1)는, 웨이퍼(W)를 이면을 하측으로 하여 수평으로 한 상태에서 회전 가능하게 유지하는 스핀 척(3)과, 연직으로 연장되는 중공의 회전축(12)을 통해 스핀 척(3)을 회전시키는 회전 기구(4)와, 회전축(12) 내에 설치되며 하방에서 상방을 향하여 고온 약액을 토출하여 웨이퍼(W) 이면에 고온 약액을 공급하는 약액 토출 노즐(5)과, 약액 토출 노즐(5)에 약액을 공급하는 약액 공급 기구(6)를 구비하고, 약액 토출 노즐(5)은, 약액을 토출하며, 웨이퍼(W) 이면의 중심 이외에, 웨이퍼(W) 이면의 중심으로부터의 거리가 서로 다른 위치에 고온 약액을 닿게 하는 복수의 토출구(18a, 18b, 18c)를 갖는다.-
公开(公告)号：KR1020130006349A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：KR1020120073413
申请日：2012-07-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67017 , B05B14/00 , B05C11/08 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B15/02 , G03F7/40 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/02052
Abstract: PURPOSE: A substrate liquid processing apparatus and a substrate liquid processing method are provided to reduce the size of the substrate liquid processing apparatus by separating processing solutions from the atmosphere in a collecting cup to omit a gas-liquid separating device. CONSTITUTION: A substrate rotating device(23) rotates a griped substrate(2). A processing solution supply device(24) selectively supplies various kinds of processing solutions to the substrate. A collecting cup(56) collects the processing solutions supplied to the substrate. Liquid collecting units(61,62,63) are formed in the collecting cup to collect the processing solutions. Discharge parts(64,65,66) discharge the processing solutions collected from a solution collecting unit. Exhaust parts(70,71) are formed on the upper side of the discharge part.
Abstract translation: 目的：提供一种基板液体处理装置和基板液体处理方法，用于通过从处理溶液与收集杯中的大气分离来减小基板液体处理装置的尺寸，以省略气液分离装置。 构成：基板旋转装置（23）旋转夹持的基板（2）。 处理液供给装置（24）选择性地向基板供给各种处理方法。 收集杯（56）收集供应到基底的处理溶液。 液体收集单元（61,62,63）形成在收集杯中以收集处理溶液。 排放部件（64,65,66）排出从溶液收集单元收集的处理溶液。 排气部（70,71）形成在排出部的上侧。
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公开(公告)号：KR1020120138697A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：KR1020120063638
申请日：2012-06-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 히가시지마지로
IPC: H01L21/302 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/6719
Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and a liquid processing method are provided to prevent a substrate from being contaminated due to foreign materials attached to a leading tip of a nozzle support arm in a processing chamber by cleaning the nozzle support arm using an arm cleaning unit. CONSTITUTION: A processing chamber includes a substrate holding unit which holds a substrate. A nozzle(82a) sprays fluid to the substrate held by the substrate holding unit. A nozzle support arm(82) supports the nozzle and includes an inner pipe(82b) to send the fluid to the nozzle. A gas spray unit(75) sprays gas to a leading tip(82e) of the nozzle support arm.
Abstract translation: 目的：提供液体处理装置和液体处理方法，以通过使用手臂清洁单元清洁喷嘴支撑臂来防止由于附着在处理室中的喷嘴支撑臂的前端的异物而使基板受到污染。 构成：处理室包括保持基板的基板保持单元。 喷嘴（82a）将流体喷射到由基板保持单元保持的基板上。 喷嘴支撑臂（82）支撑喷嘴并且包括用于将流体输送到喷嘴的内管（82b）。 气体喷射单元（75）将气体喷射到喷嘴支撑臂的前端（82e）。
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公开(公告)号：KR1020110107277A
公开(公告)日：2011-09-30
申请号：KR1020110022407
申请日：2011-03-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 히가시지마지로
IPC: H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/68 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/6715 , H01L21/682 , H01L21/683 , H01L21/68742
Abstract: 본 발명은 기판의 상면측에서 가스를 공급하고 기판의 하면측에서 처리액을 공급하여, 공급된 처리액에 의해 기판의 하면을 처리하는 액처리 장치에 있어서, 톱플레이트의 위치를 고정밀도로 위치 결정할 수 있는 액처리 장치 및 액처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
기판(W)의 상면측에서 가스를 공급하고 기판(W)의 하면측에서 처리액을 공급하여, 공급된 처리액에 의해 기판(W)의 하면을 처리하는 액처리 장치(22)에서, 상면에 개구(105)를 갖는 처리 용기(100)와, 처리 용기(100) 안에 설치되며, 기판(W)의 둘레 가장자리부(WE)를 지지하는 지지부(70, 72)와, 승강 가능하게 설치되며, 하강한 상태로 개구(105)를 막는 상판부(110)와, 상판부(110)가 하강할 때에, 처리 용기(100)에 대한 상판부(110)의 상대 위치를 정해진 위치에 위치 결정하는 위치 결정 기구(130)를 갖는다.
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