公开(公告)号：KR101207043B1

公开(公告)日：2012-11-30

申请号：KR1020060074447

申请日：2006-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기따노다까히로 ,  모또마쯔가즈끼 ,  다나까게이이찌

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명의 과제는 불필요한 레지스트액의 소비를 최대한 억제하고, 또한 처리량을 저하시키지 않고, 인라인에서 레지스트액의 점도 조정을 행할 수 있는 도포 처리 장치를 제공하는 것이다.
레지스트 도포 장치(CT)(23a)는 고농도 도포액과 용제를 혼합하여 소정 농도로 희석된 희석 도포액으로 하는 혼합부(70)와, 희석 도포액을 토출하여 기판에 도포막을 형성하는 도포액 토출 기구(14)와, 희석 도포액을 취입하여 모니터 도포를 행하는 모니터 도포 기구(79)와, 모니터 도포한 도포막의 막 두께를 측정하는 막 두께 측정 장치(85)와, 모니터 도포 기구(79)에 의해 모니터된 파라미터를 기초로 하여 고농도 도포액과 용제의 혼합 비율이 소정의 범위인지 여부를 판단하고, 상기 혼합 비율이 소정의 범위가 아니라고 판단한 경우에는 고농도 도포액과 용제의 혼합 비율을 조정하는 제어 기구(90, 92)를 구비한다.
레지스트 도포 처리 장치, 도포액 토출 기구, 모니터 도포 기구, 제어 기구, 막 두께 측정 기구

公开(公告)号：KR1020070018693A

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：KR1020060074447

申请日：2006-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기따노다까히로 ,  모또마쯔가즈끼 ,  다나까게이이찌

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/16 ,  G03F7/70491 ,  G03F7/70608 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명의 과제는 불필요한 레지스트액의 소비를 최대한 억제하고, 또한 처리량을 저하시키지 않고, 인라인에서 레지스트액의 점도 조정을 행할 수 있는 도포 처리 장치를 제공하는 것이다.
레지스트 도포 장치(CT)(23a)는 고농도 도포액과 용제를 혼합하여 소정 농도로 희석된 희석 도포액으로 하는 혼합부(70)와, 희석 도포액을 토출하여 기판에 도포막을 형성하는 도포액 토출 기구(14)와, 희석 도포액을 취입하여 모니터 도포를 행하는 모니터 도포 기구(79)와, 모니터 도포한 도포막의 막 두께를 측정하는 막 두께 측정 장치(85)와, 모니터 도포 기구(79)에 의해 모니터된 파라미터를 기초로 하여 고농도 도포액과 용제의 혼합 비율이 소정의 범위인지 여부를 판단하고, 상기 혼합 비율이 소정의 범위가 아니라고 판단한 경우에는 고농도 도포액과 용제의 혼합 비율을 조정하는 제어 기구(90, 92)를 구비한다.
레지스트 도포 처리 장치, 도포액 토출 기구, 모니터 도포 기구, 제어 기구, 막 두께 측정 기구