公开(公告)号：KR1020060096305A

公开(公告)日：2006-09-11

申请号：KR1020060019180

申请日：2006-02-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리야츠요시 ,  무라카미다카히로

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01L21/67069

Abstract: 가스를 체류시키는 일 없이 챔버내에 공급할 수 있는 가스 공급 부재 및 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 가스 공급 부재인 가스도입 샤워헤드(32)는 가스 구멍(35)의 챔버 대향부측의 외연부에, 가스 구멍(35)의 중심축으로 관해 n회 회전 대칭성(n은 2 이상의 자연수)을 갖는 사면(201)을 갖는다. 사면(201)의 경사각은 전극판 공간 대향면(36S)에 대해 20° 이다. 또한, 가스 구멍(35)은 직경이 2㎜이며, 각각의 간격이 5㎜로 되도록 배치된다.

公开(公告)号：KR101614546B1

公开(公告)日：2016-04-21

申请号：KR1020090107226

申请日：2009-11-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라카미다카히로 ,  와카키도시카츠

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32541 ,  H01J37/32477

Abstract: 모서리부에데포가퇴적하는것을방지할수 있는플라즈마처리장치의구성부품을제공한다. 플라즈마를이용하여웨이퍼(W)에드라이에칭처리를실시하는플라즈마처리장치(10)가구비하는상부전극(33)의외측전극(33b)에있어서, 내주부(33c) 및경사면(33d)이이루는모서리부(33e)의각도θ이 140°이고, 홈(41)의저면(41a) 및경사면(41b)이이루는모서리부(41c)의각도θ가 125°이며, 또한, 홈(41)의저면(41a) 및경사면(41d)이이루는모서리부(41e)의각도θ이 125°이고, 홈(41)의저면(41a)의폭은시스길이의 2배이상이다.

公开(公告)号：KR1020100051577A

公开(公告)日：2010-05-17

申请号：KR1020090107226

申请日：2009-11-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라카미다카히로 ,  와카키도시카츠

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32541 ,  H01J37/32477

Abstract: PURPOSE: A plasma processing apparatus and components thereof are provided to protect a corner part from depositing by maintaining the number of ions which are injected into the unit area of the corner part. CONSTITUTION: Two sides are crossed to form at least one corner part(33e, 41c, 41e). The corner part is exposed to plasma. The range of the cross angle of two sides is from 115° to 180°. A groove(41) is formed in the corner part. The width of the groove is more than two times of the length of sheath which is formed along the components of a plasma processing apparatus.

Abstract translation: 目的：提供等离子体处理装置及其部件，以通过保持注入到角部的单元区域中的离子数来保护角部不会沉积。 构成：两边交叉形成至少一个角部（33e，41c，41e）。 角部暴露于等离子体。 两侧交叉角的范围为115°〜180°。 在角部形成有凹槽（41）。 槽的宽度是沿着等离子体处理装置的部件形成的护套长度的两倍以上。

公开(公告)号：KR100762529B1

公开(公告)日：2007-10-01

申请号：KR1020060019180

申请日：2006-02-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리야츠요시 ,  무라카미다카히로

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/02

Abstract: 가스를 체류시키는 일 없이 챔버내에 공급할 수 있는 가스 공급 부재 및 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 가스 공급 부재인 가스도입 샤워헤드(32)는 가스 구멍(35)의 챔버 대향부측의 외연부에, 가스 구멍(35)의 중심축으로 관해 n회 회전 대칭성(n은 2 이상의 자연수)을 갖는 사면(201)을 갖는다. 사면(201)의 경사각은 전극판 공간 대향면(36S)에 대해 20° 이다. 또한, 가스 구멍(35)은 직경이 2㎜이며, 각각의 간격이 5㎜로 되도록 배치된다.