公开(公告)号：KR100646060B1

公开(公告)日：2006-11-13

申请号：KR1019990028915

申请日：1999-07-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라타카즈히코 ,  오모리쯔타에

IPC: G03F7/26

Abstract: 본 발명은 피처리기판에 현상액을 공급하여 처리할 때, 피처리기판에 공급되는 현상액과 처리환경 사이에 산소를 포함하지 않는 기체환경을 형성하면서 피처리기판에 현상액을 공급하여 현상처리하는 것이다. 이에 의해 공급되는 현상액이 피처리기판에 도달하기 전에 산소와 반응할 가능성이 감소되어, 현상액의 열화(劣化)를 방지할 수 있기 때문에 현상처리를 양호하게 실시할 수 있어 제품의 수율(收率)이 향상된다. 또 사용한 현상액의 재이용이 가능하여 현상액 소비량을 절감시킬 수 있다.

Abstract translation: 本发明是通过以治疗症状，通过供给显影液的处理衬底，所述气体环境不含有显影液和处理环境之间的氧被供给到所述基板供给显影液的基板形成的处理的血液。 氧气和反应的降低的可能性，所以能够良好地进行显影处理，能够防止产品成品率的显影溶液的劣化（劣化）（收率）到达待处理由显影溶液供给的衬底之前 这增强了。 另外，使用过的显影剂可以重复使用，并且可以减少显影剂消耗量。

公开(公告)号：KR1020000011783A

公开(公告)日：2000-02-25

申请号：KR1019990028915

申请日：1999-07-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라타카즈히코 ,  오모리쯔타에

IPC: G03F7/26

CPC classification number: G03F7/26 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/32 ,  H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: A development apparatus is provided to perform a required development processing by suppressing a deterioration of a developing solution. CONSTITUTION: The development apparatus comprises: a nozzle(69) for outputting a developing solution to a surface of a substrate; a cover(78) having an opening part which passes the developing solution outputted from the nozzle to the substrate surface; a member(90) for spouting an inactive gas in order to stop the developing solution outputted from the nozzle in the cover from circumstance in the cover, the nozzle being a spray nozzle; and a member(49) for collecting the developing solution outputted with regard to the substrate to then supply the collected developing solution to the nozzle again.

Abstract translation: 目的：提供一种显影装置，通过抑制显影液的劣化来进行所需的显影处理。 构成：显影装置包括：用于将显影液输出到基板的表面的喷嘴（69） 具有将从喷嘴输出的显影液通过到基板面的开口部的盖体（78） 用于喷射惰性气体以从盖中的环境中停止从盖中的喷嘴输出的显影溶液的构件（90），喷嘴是喷嘴; 以及用于收集相对于基板输出的显影液然后将收集的显影液再次供给到喷嘴的构件（49）。