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公开(公告)号：KR100467914B1
公开(公告)日：2005-01-24
申请号：KR1019990031338
申请日：1999-07-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/1333
CPC classification number: G03F7/30 , Y10T156/1928
Abstract: When an edge processing head is scanned in one direction, the discharge of a rinse solution from a rinse solution discharge nozzle at the front in a carrying direction is stopped, a developing solution is discharged from a developing solution discharge nozzle, and a rinse solution is discharged from a rinse solution discharge nozzle at the rear in the carrying direction. Specifically, with a developing solution being discharged to a glass substrate, the discharge of a rinse solution immediately follows the discharge of the developing solution. Thus, the edge processing of the substrate can be performed with minimal increases in the number of processes and in installation.
Abstract translation: 当沿一个方向扫描边缘处理头时，停止从运送方向前方的清洗液排出喷嘴排出清洗液，从显影液排出喷嘴排出显影液，清洗液为 从运送方向后方的冲洗液排出喷嘴排出。 具体而言，在将显影液排出到玻璃基板的情况下，在显影液排出之后立即排出清洗液。 因此，可以在最小程度增加处理和安装的情况下执行基板的边缘处理。
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公开(公告)号：KR1020000012105A
公开(公告)日：2000-02-25
申请号：KR1019990031338
申请日：1999-07-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/1333
CPC classification number: G03F7/30 , Y10T156/1928
Abstract: PURPOSE: A substrate processing device is provided to remove the remnant of a substrate edge using developer and clean the developer using rinser. CONSTITUTION: The device comprises a retaining and supporting member for retaining and supporting a substrate; a first nozzle having a plurality of discharge holes for discharging the developer to the substrate edge retained and supported by the member; a second nozzle having a discharge hole for discharging the rinser to the substrate edge, wherein the second nozzle is adjacent to the first nozzle; and a scanner for scanning the second nozzle and the first nozzle to one side of the substrate retained and supported by the member.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于使用显影剂去除基板边缘的残余物并使用冲洗器清洁显影剂。 构成：该装置包括用于保持和支撑衬底的保持和支撑构件; 第一喷嘴，具有用于将显影剂排出到由所述构件保持和支撑的基板边缘的多个排出孔; 第二喷嘴，其具有用于将冲洗器排放到基板边缘的排出孔，其中第二喷嘴与第一喷嘴相邻; 以及用于将第二喷嘴和第一喷嘴扫描到由该部件保持和支撑的基板的一侧的扫描器。
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公开(公告)号：KR1019990088393A
公开(公告)日：1999-12-27
申请号：KR1019990017997
申请日：1999-05-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 기판을스핀척에보유·유지하고, 기판표면을가로지르는제 1방향전체에걸쳐배치된레지스트파이프의하측에위치하는복수의레지스트노즐로부터, 기판표면에대하여소정간격을띄우고있는복수의위치에레지스트액을공급하고, 그후 기판을요동및 회전시킴으로써기판상의레지스트액을균일하게퍼지게하여막두께가얇은도막(塗膜)을형성시킨다. 높은점도(粘度)의도포액및 낮은점도의도포액에대한대응성이뛰어나고, 처리제의점도및 종류에구애받지않고넓은범위의처리제를사용할수 있고, 노즐과기판과의사이의간격및 노즐크기의정도(精度)등의기계적정도를완화시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR100523224B1
公开(公告)日：2005-10-24
申请号：KR1019990017997
申请日：1999-05-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 기판을 스핀척에 보유·유지하고, 기판 표면을 가로지르는 제 1방향 전체에 걸쳐 배치된 레지스트 파이프의 하측에 위치하는 복수의 레지스트 노즐로부터, 기판 표면에 대하여 소정 간격을 띄우고 있는 복수의 위치에 레지스트액을 공급하고, 그 후 기판을 요동 및 회전시킴으로써 기판상의 레지스트액을 균일하게 퍼지게 하여 막두께가 얇은 도막(塗膜)을 형성시킨다. 높은 점도(粘度)의 도포액 및 낮은 점도의 도포액에 대한 대응성이 뛰어나고, 처리제의 점도 및 종류에 구애받지 않고 넓은 범위의 처리제를 사용할 수 있고, 노즐과 기판과의 사이의 간격 및 노즐 크기의 정도(精度)등의 기계적 정도를 완화시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR1019990023943A
公开(公告)日：1999-03-25
申请号：KR1019980034926
申请日：1998-08-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 액정디스플레이(LCD)용 기판과 같은 대형의 기판에 레지스트를 도포하고, 도포레지스트를 기판의 주변부로부터 제거하는 기판처리방법에 관한 것이다. 본 발명은 온조수단을 구비하고, 상기 온조수단에 의해 기판을 온조하는 공정과, 기판에 공급하는 도포액을 온조하는 공정과, 기판을 반송하거나 보지하는 때에 기판과 접촉하는 접촉부재를 온조하는 공정과, 도포액을 기판에 도포하기 위한 처리공간의 분위기의 온도를 검출하는 공정과, 기판 상에 도막을 형성하기 위한 목표온도를 설정하는 공정과, 상기의 목표온도와 검출온도에 기초하여 적어도 상기 접촉부재에 대한 온조동작을 제어하는 공정과, 기판에 도포액을 도포하는 공정으로 이루어져, 처리공간의 분위기 온도(검출온도)와 목표온도(설정온도)에 기초한 처리장치의 각 부를 온조할 수 있도록 함으로써, 도포유니트 내의 온도의 변동에 관계없이, 도막불량 및 전사적의 발생을 미연에 방지할 수 있는 기판처리방법을 제시하고 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100646060B1
公开(公告)日：2006-11-13
申请号：KR1019990028915
申请日：1999-07-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G03F7/26
Abstract: 본 발명은 피처리기판에 현상액을 공급하여 처리할 때, 피처리기판에 공급되는 현상액과 처리환경 사이에 산소를 포함하지 않는 기체환경을 형성하면서 피처리기판에 현상액을 공급하여 현상처리하는 것이다. 이에 의해 공급되는 현상액이 피처리기판에 도달하기 전에 산소와 반응할 가능성이 감소되어, 현상액의 열화(劣化)를 방지할 수 있기 때문에 현상처리를 양호하게 실시할 수 있어 제품의 수율(收率)이 향상된다. 또 사용한 현상액의 재이용이 가능하여 현상액 소비량을 절감시킬 수 있다.
Abstract translation: 本发明是通过以治疗症状，通过供给显影液的处理衬底，所述气体环境不含有显影液和处理环境之间的氧被供给到所述基板供给显影液的基板形成的处理的血液。 氧气和反应的降低的可能性，所以能够良好地进行显影处理，能够防止产品成品率的显影溶液的劣化（劣化）（收率）到达待处理由显影溶液供给的衬底之前 这增强了。 另外，使用过的显影剂可以重复使用，并且可以减少显影剂消耗量。
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公开(公告)号：KR100505023B1
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：KR1019980034926
申请日：1998-08-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 액정디스플레이(LCD)용 기판과 같은 대형의 기판에 레지스트를 도포하고, 도포레지스트를 기판의 주변부로부터 제거하는 기판처리방법에 관한 것이다. 본 발명은 온조수단을 구비하고, 상기 온조수단에 의해 기판을 온조하는 공정과, 기판에 공급하는 도포액을 온조하는 공정과, 기판을 반송하거나 보지하는 때에 기판과 접촉하는 접촉부재를 온조하는 공정과, 도포액을 기판에 도포하기 위한 처리공간의 분위기의 온도를 검출하는 공정과, 기판 상에 도막을 형성하기 위한 목표온도를 설정하는 공정과, 상기의 목표온도와 검출온도에 기초하여 적어도 상기 접촉부재에 대한 온조동작을 제어하는 공정과, 기판에 도포액을 도포하는 공정으로 이루어져, 처리공간의 분위기 온도(검출온도)와 목표온도(설정온도)에 기초한 처리장치의 각 부를 온조할 수 있도록 함으로써, 도포유니트 내의 온도의 변동에 관계없이, 도막불량 및 전사적의 발생을 미연에 방지할 수 있는 기판처리방법을 제시하고 있다.
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公开(公告)号：KR100588110B1
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：KR1019980033631
申请日：1998-08-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 액정표시디스플레이(LCD)용 기판의 표면 또는 기판에 형성된 층(반도체층, 절연체층, 전극층 등)의 위에 포토레지스트막이나 반사방지막(Anti-Reflective Coating)과 같은 도막을 형성하기 위한 도막 형성방법에 관한 것이다.
본 발명의 도막 형성방법으로서, (a) 기판을 스핀척에 의해 회전가능하게 보지하는 공정과, (b) 도막의 용제를 상기 기판의 회전중심부로부터 떨어진 기판상의 제 1 부위에 공급하는 공정과, (c) 도포액을 상기 기판의 회전중심부인 제 2 부위에 공급하는 공정과, (d) 상기 기판을 회전시킴으로써 상기 도포액을 제 2 부위로부터 그 주변 각부에 확산시키는 공정을 포함하는 것을 제시한다.
본 발명에서는 도막 형성방법에서, 프리웨트에 이용한 것과 같은 노즐을 이용하여 기판주변부로부터 도막들 제거함으로써 레지스트도포액의 소비량을 저감하고, 기판 주변부로부터 도막을 제거하기 위한 부가적인 전용설비가 불필요해 지고, 또한 기판에 대한 노즐의 위치맞춤도 용이해 지는 효과를 얻을 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020000011783A
公开(公告)日：2000-02-25
申请号：KR1019990028915
申请日：1999-07-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G03F7/26
CPC classification number: G03F7/26 , G03F7/30 , G03F7/3021 , G03F7/32 , H01L21/6715
Abstract: PURPOSE: A development apparatus is provided to perform a required development processing by suppressing a deterioration of a developing solution. CONSTITUTION: The development apparatus comprises: a nozzle(69) for outputting a developing solution to a surface of a substrate; a cover(78) having an opening part which passes the developing solution outputted from the nozzle to the substrate surface; a member(90) for spouting an inactive gas in order to stop the developing solution outputted from the nozzle in the cover from circumstance in the cover, the nozzle being a spray nozzle; and a member(49) for collecting the developing solution outputted with regard to the substrate to then supply the collected developing solution to the nozzle again.
Abstract translation: 目的：提供一种显影装置，通过抑制显影液的劣化来进行所需的显影处理。 构成：显影装置包括：用于将显影液输出到基板的表面的喷嘴（69） 具有将从喷嘴输出的显影液通过到基板面的开口部的盖体（78） 用于喷射惰性气体以从盖中的环境中停止从盖中的喷嘴输出的显影溶液的构件（90），喷嘴是喷嘴; 以及用于收集相对于基板输出的显影液然后将收集的显影液再次供给到喷嘴的构件（49）。
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公开(公告)号：KR1019990023710A
公开(公告)日：1999-03-25
申请号：KR1019980033631
申请日：1998-08-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 액정표시디스플레이(LCD)용 기판의 표면 또는 기판에 형성된 층(반도체층, 절연체층, 전극층 등)의 위에 포토레지스트막이나 반사방지막(Anti-Reflective Coating)과 같은 도막을 형성하기 위한 도막 형성방법에 관한 것이다.
본 발명의 도막 형성방법으로서, (a) 기판을 스핀척에 의해 회전가능하게 보지하는 공정과, (b) 도막의 용제를 상기 기판의 회전중심부로부터 떨어진 기판상의 제 1 부위에 공급하는 공정과, (c) 도포액을 상기 기판의 회전중심부인 제 2 부위에 공급하는 공정과, (d) 상기 기판을 회전시킴으로써 상기 도포액을 제 2 부위로부터 그 주변 각부에 확산시키는 공정을 포함하는 것을 제시한다.
본 발명에서는 도막 형성방법에서, 프리웨트에 이용한 것과 같은 노즐을 이용하여 기판주변부로부터 도막들 제거함으로써 레지스트도포액의 소비량을 저감하고, 기판 주변부로부터 도막을 제거하기 위한 부가적인 전용설비가 불필요해 지고, 또한 기판에 대한 노즐의 위치맞춤도 용이해 지는 효과를 얻을 수 있다.
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