公开(公告)号：KR1020100090650A

公开(公告)日：2010-08-16

申请号：KR1020100010666

申请日：2010-02-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사또오노리까쯔 ,  다께구찌히로후미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/3028 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67017

Abstract: PURPOSE: A developing apparatus, a developing method, and a storing media are provided to uniformly contact a developing solution and a substrate by suppressing the solution spattering phenomenon of the substrate. CONSTITUTION: A substrate supporting unit horizontally supports a substrate. A rotary unit rotates the substrate around a vertical axis. A first nozzle(21) supplies a developing solution to the substrate on the substrate supporting unit. A second nozzle(22) supplies a pre-wetting solution to the surface of the substrate. A nozzle supporting unit moves the first nozzle and the second nozzle over the substrate. A controller(10) outputs controlling signals with respect to each part of a developing apparatus.

Abstract translation: 目的：提供显影装置，显影方法和存储介质，以通过抑制基板的溶液溅射现象来均匀地接触显影液和基板。 构成：基板支撑单元水平地支撑基板。 旋转单元围绕垂直轴旋转基板。 第一喷嘴（21）将显影液供给到基板支撑单元上的基板。 第二喷嘴（22）将预润湿溶液供应到基底的表面。 喷嘴支撑单元将第一喷嘴和第二喷嘴移动到基板上。 控制器（10）相对于显影装置的每个部分输出控制信号。

公开(公告)号：KR101550084B1

公开(公告)日：2015-09-03

申请号：KR1020110005839

申请日：2011-01-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사또오노리까쯔

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명의과제는기판을회전시키면서, 액처리를행하는액처리장치에있어서, 미스트나파티클의유출을억제하고, 또한배기포트로부터배기하기위한배기유량을억제할수 있는기술을제공하는것이다. 기판의회전에의해기판상의액을떨쳐낼때에는, 외부컵의하부테두리부를베이스부의상방의제1 높이위치에위치시키고, 장치가대기상태에있을때에는상기외부컵의하부테두리부의하방측으로부터외부의기체를배기공간으로유입시키기위해당해하부테두리부를제1 높이위치보다도높은제2 높이위치에위치시키는승강부와, 상기처리액을안내하기위해, 상기외부컵의하부테두리부로부터내측으로하향으로경사지면서연장되는경사면부를구비하도록액처리장치를구성한다. 스핀척이회전하고있을때에상기배기공간의기체가외부컵의하부테두리부로돌아들어가베이스체와의사이로부터외부컵의밖으로미스트나파티클이유출되는것이억제된다.

Abstract translation: 发明内容本发明提供一种用于在旋转基板的同时执行液体处理的液体处理装置中抑制雾和颗粒的流动并且抑制用于从排气口排出的排气流量的技术。 当基板从外杯的下边缘的下侧升起之前，当基板上的液体被基板组件移除时，外杯的下边缘定位在基座上方的第一高度位置处， 提升部分，用于将下边缘部分定位在高于第一高度位置的第二高度位置处，以便将处理溶液引入排气空间; 液体处理装置构成为具有延伸的倾斜面部。 当旋转卡盘旋转时，排气空间中的气体返回到外杯的下边缘，以抑制从外杯和外杯之间的空间逸出雾或颗粒。

公开(公告)号：KR1020110100136A

公开(公告)日：2011-09-09

申请号：KR1020110005839

申请日：2011-01-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사또오노리까쯔

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: 본 발명의 과제는 기판을 회전시키면서, 액처리를 행하는 액처리 장치에 있어서, 미스트나 파티클의 유출을 억제하고, 또한 배기 포트로부터 배기하기 위한 배기 유량을 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
기판의 회전에 의해 기판 상의 액을 떨쳐낼 때에는, 외부 컵의 하부 테두리부를 베이스부의 상방의 제1 높이 위치에 위치시키고, 장치가 대기 상태에 있을 때에는 상기 외부 컵의 하부 테두리부의 하방측으로부터 외부의 기체를 배기 공간으로 유입시키기 위해 당해 하부 테두리부를 제1 높이 위치보다도 높은 제2 높이 위치에 위치시키는 승강부와, 상기 처리액을 안내하기 위해, 상기 외부 컵의 하부 테두리부로부터 내측으로 하향으로 경사지면서 연장되는 경사면부를 구비하도록 액처리 장치를 구성한다. 스핀 척이 회전하고 있을 때에 상기 배기 공간의 기체가 외부 컵의 하부 테두리부로 돌아 들어가 베이스체와의 사이로부터 외부 컵의 밖으로 미스트나 파티클이 유출되는 것이 억제된다.